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CVD装置プラズマCVD

プラズマCVD装置 CC-200

株式会社アルバック

SiH4系とTEOS系の絶縁膜をつける小型のPE-CVD装置です。

価格
公開価格なし（見積もり）
方式
プラズマCVD
向いている所
研究開発から少量生産までの絶縁膜
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比較表での位置

プラズマCVD装置 CC-200は、CVD装置のメーカー7社比較⁠の方式「プラズマCVD」の4製品の1つとして載っています。

  • 7社掲載社数
  • 11製品比較表の製品
  • 4製品同じ方式
  • 0製品公開価格あり
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プラズマCVD装置 CC-200​の強みと方式

小型のPE-CVD装置で、研究開発から少量生産まで1台で受け持てます。27.12MHzの高密度プラズマで、SiO2・SiNx・SiON・a-Siを成膜します。OLED向けの低温成膜用ヒーターにも替えられます。

向いている所研究開発から少量生産までの絶縁膜

方式：プラズマCVD

原料のガスをプラズマにして、低い温度のまま膜をつける方式です。SiO2やSiNxの絶縁膜によく使います。サムコのPD-330STCは80℃から成膜できます。

プラズマCVD装置 CC-200​の仕様

方式
プラズマCVD
方式
PE-CVD
基板サイズ
トレー搬送で多様な基板サイズ
処理枚数
—公式資料で確認できず
膜の種類
SiO2、SiNx、SiON、a-⁠Si
温度
—公式資料で確認できず
価格
—公式資料で確認できず
プラズマの周波数
27.12MHz
成膜の速さ
—公式資料で確認できず
特長
CF4＋O2プラズマでチャンバーを洗える

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

プラズマCVD装置 CC-200株式会社アルバックプラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDオックスフォード・インストゥルメンツ株式会社プラズマCVD装置 PD-220NLサムコ株式会社
方式プラズマCVDプラズマCVDプラズマCVD
方式PE-CVDPECVD（高濃度プラズマ・低圧）ロードロック式のプラズマCVD
基板サイズトレー搬送で多様な基板サイズ最大200mm2インチ・3インチ・4インチ（トレイ搬送）
処理枚数—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず2インチ9枚、3インチ5枚、4インチ3枚
膜の種類SiO2、SiNx、SiON、a-⁠Si窒化ケイ素、酸化ケイ素SiO2、SiNx
温度—公式資料で確認できず最大400℃または1200℃—公式資料で確認できず
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
プラズマの周波数27.12MHz—公式資料で確認できず13.56MHz、400kHz重畳の2周波
成膜の速さ—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
特長CF4＋O2プラズマでチャンバーを洗えるその場でチェンバー洗浄と終点検出四方向排気でガスの流れをそろえる

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プラズマCVD装置 CC-200​のよくある質問

Q.プラズマCVD装置 CC-200はどんな人に向いている？
プラズマCVD装置 CC-200は、研究開発から少量生産までの絶縁膜に使う人向けです。プラズマCVD装置 CC-200は、小型のPE-CVD装置で、研究開発から少量生産まで1台で受け持てます。
Q.プラズマCVD装置 CC-200の強みは？
プラズマCVD装置 CC-200は、27.12MHzの高密度プラズマで、SiO2・SiNx・SiON・a-Siを成膜します。OLED向けの低温成膜用ヒーターにも替えられます。
Q.プラズマCVD装置 CC-200はどんな方式？
プラズマCVD装置 CC-200の方式はプラズマCVDです。原料のガスをプラズマにして、低い温度のまま膜をつける方式です。
Q.プラズマCVD装置 CC-200の主な仕様は？
プラズマCVD装置 CC-200の方式はPE-CVD、基板サイズはトレー搬送で多様な基板サイズです。膜の種類はSiO2、SiNx、SiON、a-Si、プラズマの周波数は27.12MHzです。
Q.プラズマCVD装置 CC-200とプラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDはどっちがいい？
研究開発から少量生産までの絶縁膜ならプラズマCVD装置 CC-200、200mmまでの窒化膜・酸化膜ならオックスフォード・インストゥルメンツのプラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDです。プラズマCVD装置 CC-200の方式はPE-CVD、基板サイズはトレー搬送で多様な基板サイズです。オックスフォード・インストゥルメンツのプラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの方式はPECVD（高濃度プラズマ・低圧）、基板サイズは最大200mmです。
Q.プラズマCVD装置 CC-200の特長は？
プラズマCVD装置 CC-200の特長はCF4＋O2プラズマでチャンバーを洗える。オックスフォード・インストゥルメンツのプラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの特長はその場でチェンバー洗浄と終点検出です。
Q.プラズマCVD装置 CC-200とプラズマCVD装置 PD-220NLはどっちがいい？
研究開発から少量生産までの絶縁膜ならプラズマCVD装置 CC-200、小径ウエハの絶縁膜の研究開発ならサムコのプラズマCVD装置 PD-220NLです。プラズマCVD装置 CC-200の方式はPE-CVD、基板サイズはトレー搬送で多様な基板サイズです。サムコのプラズマCVD装置 PD-220NLの方式はロードロック式のプラズマCVD、基板サイズは2インチ・3インチ・4インチ（トレイ搬送）⁠で⁠⁠⁠⁠す⁠。
Q.プラズマCVD装置 CC-200はどこのメーカー？
プラズマCVD装置 CC-200は株式会社アルバックの製品です。登記上の本店は〒253-0071 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地。アルバックの主な製品分野はCVD装置・真空計・スパッタ装置・凍結乾燥機です。

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    出典
    1. 株式会社アルバック 公式
    2. gBizINFO（経済産業省） 法人情報
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