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スパッタリング
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スパッタリング装置 ENTRON-EXXの強みと方式
シングルと
向いている所
工程：成膜装置
ウエハに
スパッタリング装置 ENTRON-EXXの仕様
- 工程
- 成膜装置
- 工程
- 成膜
- 方式
- マルチチャンバー式
スパッタリング - 対応基板径
- —公式資料で
確認できず - 処理能力
- —公式資料で
確認できず - 設置寸法
- —公式資料で
確認できず - 価格
- —公式資料で
確認できず - 対象材料・用途
- ロジック、
DRAM、 NAND、 次世代不揮発性 メモリ - 装置構成
- 最大12モジュール
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| スパッタリング | スパッタリング | バッチ成膜装置 AdvancedAce-II株式会社 | |
|---|---|---|---|
| 工程 | 成膜装置 | 成膜装置 | 成膜装置 |
| 工程 | 成膜 | 成膜 | CVD膜・酸化膜形成 |
| 方式 | マルチチャンバー式 | スパッタリング | ラージバッチ式 |
| 対応基板径 | —公式資料で | 直径8inch・ | 300mm |
| 処理能力 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 設置寸法 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 対象材料・用途 | ロジック、 | MRAMなどの | 深溝形状への成膜 |
| 装置構成 | 最大12モジュール | 最大10モジュール | —公式資料で |
スパッタリング装置 ENTRON-EXXのよくある質問
Q.スパッタリング装置 ENTRON-EXXはどんな人に向いている？
スパッタリング装置 ENTRON-EXXは、ロジック・メモリの金属膜形成に使う人向けです。スパッタリング装置 ENTRON-EXXは、シングルとタンデムの構成を選べる成膜装置です。スパッタリング・プリクリーン・加熱・冷却を組み合わせ、最大12モジュールを搭載できます。
Q.スパッタリング装置 ENTRON-EXXはどんな方式？
スパッタリング装置 ENTRON-EXXの工程は成膜装置です。ウエハに回路材料の薄膜を作る装置です。
Q.スパッタリング装置 ENTRON-EXXの主な仕様は？
スパッタリング装置 ENTRON-EXXの工程は成膜、方式はマルチチャンバー式スパッタリングです。対象材料・用途はロジック、DRAM、NAND、次世代不揮発性メモリ、装置構成は最大12モジュールです。
Q.スパッタリング装置 ENTRON-EXXとスパッタリング装置 EC7800はどっちがいい？
ロジック・メモリの金属膜形成ならスパッタリング装置 ENTRON-EXX、MRAMの多層膜形成ならキヤノンアネルバのスパッタリング装置 EC7800です。スパッタリング装置 ENTRON-EXXの工程は成膜、方式はマルチチャンバー式スパッタリングです。キヤノンアネルバのスパッタリング装置 EC7800の対応基板径は直径8inch・12inch、工程は成膜です。
Q.スパッタリング装置 ENTRON-EXXとバッチ成膜装置 AdvancedAce-IIはどっちがいい？
ロジック・メモリの金属膜形成ならスパッタリング装置 ENTRON-EXX、深溝へのバッチ成膜ならKOKUSAI ELECTRICのバッチ成膜装置 AdvancedAce-IIです。スパッタリング装置 ENTRON-EXXの工程は成膜、方式はマルチチャンバー式スパッタリングです。KOKUSAI ELECTRICのバッチ成膜装置 AdvancedAce-IIの対応基板径は300mm、工程はCVD膜・酸化膜形成です。
Q.スパッタリング装置 ENTRON-EXXはどこのメーカー？
スパッタリング装置 ENTRON-EXXは株式会社アルバックの製品です。登記上の本店は〒253-0071 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地。アルバックの主な製品分野はスパッタ装置・半導体製造装置・真空ポンプ・ピラニ真空計です。
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