イメージ半導体製造装置エッチング装置
プラズマエッチング装置 Tactras
東京エレクトロン300mm
- 価格
- 公開価格なし
(見積もり) - 主な仕様
- 対応基板径
300mm - 工程
- エッチング装置
- 向いている所
- 量産ラインの
プラズマ加工
比較表での位置
プラズマエッチング
- 8社掲載社数
- 10製品比較表の製品
- 4製品同じ工程
- 0製品公開価格あり
プラズマエッチング装置 Tactrasの強みと方式
工程に
向いている所量産ラインの
工程:エッチング装置
ウエハ上の
プラズマエッチング装置 Tactrasの仕様
- 工程
- エッチング装置
- 工程
- ドライエッチング
- 方式
- プラズマエッチング
- 対応基板径
- 300mm
- 処理能力
- —公式資料で
確認できず - 設置寸法
- —公式資料で
確認できず - 価格
- —公式資料で
確認できず - 対象材料・用途
- —公式資料で
確認できず - 装置構成
- 最大6つの
エッチン グチャンバー
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| プラズマエッチング | DCR | ICP | |
|---|---|---|---|
| 工程 | エッチング装置 | エッチング装置 | エッチング装置 |
| 工程 | ドライエッチング | 等方性 | ドライエッチング |
| 方式 | プラズマエッチング | DCR、 | ICP、 |
| 対応基板径 | 300mm | —公式資料で | 直径2・ |
| 処理能力 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 設置寸法 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 対象材料・用途 | —公式資料で | 高 | GaN、 |
| 装置構成 | 最大6つの | 冷却機構と | ロードロック |
プラズマエッチング装置 Tactrasのよくある質問
Q.プラズマエッチング装置 Tactrasはどんな人に向いている?
プラズマエッチング装置 Tactrasは、量産ラインのプラズマ加工に使う人向けです。プラズマエッチング装置 Tactrasは、工程に合わせたエッチングチャンバー を最大6つ搭載できる装置です。共通のベース設計を使い、改造による用途の切り替えにも対応します。
Q.プラズマエッチング装置 Tactrasはどんな方式?
プラズマエッチング装置 Tactrasの工程はエッチング装置です。ウエハ上の膜や材料を選んで除去する装置です。
Q.プラズマエッチング装置 Tactrasの主な仕様は?
プラズマエッチング装置 Tactrasの対応基板径は300mm、工程はドライエッチングです。方式はプラズマエッチング、装置構成は最大6つのエッチングチャンバー です。
Q.プラズマエッチング装置 TactrasとDCRエッチング装置 9060はどっちがいい?
量産ラインのプラズマ加工ならプラズマエッチング装置 Tactras、立体構造の等方性加工なら日立ハイテクのDCRエッチング装置 9060です。プラズマエッチング装置 Tactrasの対応基板径は300mm、工程はドライエッチングです。日立ハイテクのDCRエッチング装置 9060の工程は等方性エッチング、方式はDCR、ドライ環境下の化学反応です。
Q.プラズマエッチング装置 TactrasとICPエッチング装置 RIE-400iPはどっちがいい?
量産ラインのプラズマ加工ならプラズマエッチング装置 Tactras、化合物半導体の微細加工ならサムコのICPエッチング装置 RIE-400iPです。プラズマエッチング装置 Tactrasの対応基板径は300mm、工程はドライエッチングです。サムコのICPエッチング装置 RIE-400iPの対応基板径は直径2・3・4インチ、工程はドライエッチングです。
Q.プラズマエッチング装置 Tactrasのほかに東京エレクトロンの半導体製造装置はある?
あります。東京エレクトロンの半導体製造装置には、プラズマエッチング装置 Tactrasのほかに塗布現像装置 LITHIUS Pro DICE(対応基板径は300mm)があります。
Q.プラズマエッチング装置 Tactrasはどこのメーカー?
プラズマエッチング装置 Tactrasは東京エレクトロン株式会社の製品です。半導体製造装置事業を手がける会社です。
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出典
