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半導体製造装置成膜装置

スパッタリング装置 EC7800

キヤノンアネルバ株式会社

MRAMなどの機能膜を作るスパッタリング装置です。

価格
公開価格なし（見積もり）
主な仕様
対応基板径直径8inch・12inch
工程
成膜装置
向いている所
MRAMの多層膜形成
公式の製品ページを見る比較表で見る

比較表での位置

スパッタリング装置 EC7800は、半導体製造装置のメーカー8社比較⁠の工程「成膜装置」の4製品の1つとして載っています。

  • 8社掲載社数
  • 10製品比較表の製品
  • 4製品同じ工程
  • 0製品公開価格あり
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スパッタリング装置 EC7800​の強みと方式

超高真空で多層膜を作るスパッタリング装置です。最大10モジュールを搭載でき、エッチングや加熱との組み合わせで界面を制御します。

向いている所MRAMの多層膜形成

工程：成膜装置

ウエハに回路材料の薄膜を作る装置です。ガスを使うCVDと、ターゲット材料を飛ばして膜を作るスパッタリングを、膜の材質と構造に合わせて選びます。

スパッタリング装置 EC7800​の仕様

工程
成膜装置
工程
成膜
方式
スパッタリング
対応基板径
直径8inch・12inch
処理能力
—公式資料で確認できず
設置寸法
—公式資料で確認できず
価格
—公式資料で確認できず
対象材料・用途
MRAMなどの多層膜、不揮発性メモリの機能膜
装置構成
最大10モジュール

この比較では半導体用途のMRAM・不揮発性メモリに限って扱います。

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

スパッタリング装置 EC7800キヤノンアネルバ株式会社バッチ成膜装置 AdvancedAce-⁠II株式会社 KOKUSAI ELECTRICバッチ成膜装置 VERTEX Revolution株式会社 KOKUSAI ELECTRIC
工程成膜装置成膜装置成膜装置
工程成膜CVD膜・酸化膜形成CVD膜・酸化膜形成
方式スパッタリングラージバッチ式サーマルプロセスバッチ式サーマルプロセス
対応基板径直径8inch・12inch300mm200mm、150mm以下にも対応
処理能力—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず高生産性炉175枚、低天井対応炉100枚
設置寸法—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
対象材料・用途MRAMなどの多層膜、不揮発性メモリの機能膜深溝形状への成膜—公式資料で確認できず
装置構成最大10モジュール—公式資料で確認できず高生産性炉・低天井対応炉はオプション

半導体製造装置の10製品を比較表で見る

スパッタリング装置 EC7800​のよくある質問

Q.スパッタリング装置 EC7800はどんな人に向いている？
スパッタリング装置 EC7800は、MRAMの多層膜形成に使う人向けです。スパッタリング装置 EC7800は、超高真空で多層膜を作るスパッタリング装置です。最大10モジュールを搭載でき、エッチングや加熱との組み合わせで界面を制御します。
Q.スパッタリング装置 EC7800はどんな方式？
スパッタリング装置 EC7800の工程は成膜装置です。ウエハに回路材料の薄膜を作る装置です。
Q.スパッタリング装置 EC7800の主な仕様は？
スパッタリング装置 EC7800の対応基板径は直径8inch・12inch、工程は成膜です。方式はスパッタリング、対象材料・用途はMRAMなどの多層膜、不揮発性メモリの機能膜です。
Q.スパッタリング装置 EC7800とバッチ成膜装置 AdvancedAce-IIはどっちがいい？
MRAMの多層膜形成ならスパッタリング装置 EC7800、深溝へのバッチ成膜ならKOKUSAI ELECTRICのバッチ成膜装置 AdvancedAce-IIです。スパッタリング装置 EC7800の対応基板径は直径8inch・12inch、工程は成膜です。KOKUSAI ELECTRICのバッチ成膜装置 AdvancedAce-IIの対応基板径は300mm、工程はCVD膜・酸化膜形成です。
Q.スパッタリング装置 EC7800の装置構成は？
スパッタリング装置 EC7800の装置構成は最大10モジュールです。KOKUSAI ELECTRICのバッチ成膜装置 VERTEX Revolutionの装置構成は高生産性炉・低天井対応炉はオプションです。
Q.スパッタリング装置 EC7800とバッチ成膜装置 VERTEX Revolutionはどっちがいい？
MRAMの多層膜形成ならスパッタリング装置 EC7800、小径ウエハのバッチ成膜ならKOKUSAI ELECTRICのバッチ成膜装置 VERTEX Revolutionです。スパッタリング装置 EC7800の対応基板径は直径8inch・12inch、工程は成膜です。KOKUSAI ELECTRICのバッチ成膜装置 VERTEX Revolutionの対応基板径は200mm、150mm以下にも対応、工程はCVD膜・酸化膜形成です。
Q.スパッタリング装置 EC7800はどこのメーカー？
スパッタリング装置 EC7800はキヤノンアネルバ株式会社の製品です。登記上の本店は〒215-0033 神奈川県川崎市麻生区栗木2丁目5番1号。スパッタリング装置などの製造装置と、真空計・リークディテクタ・質量分析計などの真空の部品を手がける会社です。

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    出典（2026年10月28日確認）

    1. キヤノンアネルバ株式会社 公式
    2. gBizINFO（経済産業省） 法人情報
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