SPUTTERING-SYSTEM / MZ-40804スパッタリング
スパッタリング装置 EB1100キヤノンアネルバ株式会社
研究開発から
仕様
向いている所：800℃まで
- 種類
- ロードロック・単室式
- 基板サイズ
- 直径4・
6・ 8インチ、 トレイ - スパッタ源
- 直径4
インチカソード 最大4基 - 室の構成
- —公式資料で
確認できず - 到達圧力
- —公式資料で
確認できず - 電源
- —公式資料で
確認できず - 価格
- —公式資料で
確認できず - 搬送
- 全自動
（排気、基板搬送、成膜） - 基板加熱
- 最高
800℃ - 寸法・質量
- —公式資料で
確認できず - 所要電源
- —公式資料で
確認できず - 主な用途
- 小規模生産、
研究開発、 材料開発
— は
口コミ
スパッタリング
使った
運営が
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出典