SPUTTERING-SYSTEM / MZ-40811スパッタ装置 RAS-1100C株式会社
スパッタ装置 RAS-1100C株式会社シンクロン
RAS方式で
仕様
向いている
- 種類
- ドラム・
カルーセル式 (バッチ) - 基板サイズ
- 基板ドラム直径
1,100mm× 230mm - スパッタ源
- デュアルカソード、
18× 5インチの 平板カソード - 室の構成
- CH-1
(あらびき)、 CH-2 (14インチTMP×2) - 到達圧力
- —公式資料で
確認できず - 電源
- ラジカル源は
ICP RF電源 - 価格
- —公式資料で
確認できず - 搬送
- —公式資料で
確認できず - 基板加熱
- —公式資料で
確認できず - 寸法・質量
- —公式資料で
確認できず - 所要電源
- —公式資料で
確認できず - 主な用途
- 光学薄膜、
金属膜
— は
RASシリーズには
口コミ
スパッタ装置 RAS-1100Cの
使った
運営が
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出典
