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SPUTTERING-SYSTEM / MZ-40813

RFスパッタ装置 SVC-700RF IIサンユー電子株式会社

絶縁膜や酸化物薄膜を付ける、RFマグネトロンの研究用スパッタ装置です。

2026年10月30日確認

仕様

向いている所:絶縁膜・酸化物膜の研究

種類
卓上・研究用小型
基板サイズ
—公式資料で確認できず
スパッタ源
Type-Ⅰは直径2インチ×3源と直径4インチ×1源、Type-Ⅱは直径4インチ×2源と直径6インチ×1源を追加
室の構成
Type-Ⅰは直径230mm×H200mm、SUS製
到達圧力
10-5Pa台
電源
RF 300W、13.56MHz
価格
—公式資料で確認できず
搬送
—公式資料で確認できず
基板加熱
オプションで300℃、600℃
寸法・⁠⁠⁠質量
本体W744mm×D595mm×H1046mm、約140kg
所要電源
単相100V、3kVA
主な用途
絶縁膜、酸化物薄膜

— は公式の資料で確かめられなかった項目です。

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出典(2026年10月30日確認)

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