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CVD装置プラズマCVD

プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

窒化ケイ素・酸化ケイ素を成膜する200mm対応のPECVD装置です。

価格
公開価格なし（見積もり）
方式
プラズマCVD
向いている所
200mmまでの窒化膜・酸化膜
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比較表での位置

プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDは、CVD装置のメーカー7社比較⁠の方式「プラズマCVD」の4製品の1つとして載っています。

  • 7社掲載社数
  • 11製品比較表の製品
  • 4製品同じ方式
  • 0製品公開価格あり
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プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVD​の強みと方式

屈折率や応力など膜の性質を細かく合わせ込めるPECVD装置です。200mmまでのウェハを載せ替えて使えます。電極は最大400℃の型と最大1200℃の型から選べます。

向いている所200mmまでの窒化膜・酸化膜

方式：プラズマCVD

原料のガスをプラズマにして、低い温度のまま膜をつける方式です。SiO2やSiNxの絶縁膜によく使います。サムコのPD-330STCは80℃から成膜できます。

プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVD​の仕様

方式
プラズマCVD
方式
PECVD（高濃度プラズマ・低圧）
基板サイズ
最大200mm
処理枚数
—公式資料で確認できず
膜の種類
窒化ケイ素、酸化ケイ素
温度
最大400℃または1200℃
価格
—公式資料で確認できず
プラズマの周波数
—公式資料で確認できず
成膜の速さ
—公式資料で確認できず
特長
その場でチェンバー洗浄と終点検出

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDオックスフォード・インストゥルメンツ株式会社プラズマCVD装置 PD-220NLサムコ株式会社液体ソースCVD装置 PD-330STCサムコ株式会社
方式プラズマCVDプラズマCVDプラズマCVD
方式PECVD（高濃度プラズマ・低圧）ロードロック式のプラズマCVD液体ソースCVD（カソードカップリング方式）
基板サイズ最大200mm2インチ・3インチ・4インチ（トレイ搬送）300mm
処理枚数—公式資料で確認できず2インチ9枚、3インチ5枚、4インチ3枚—公式資料で確認できず
膜の種類窒化ケイ素、酸化ケイ素SiO2、SiNxTEOS-SiO₂
温度最大400℃または1200℃—公式資料で確認できず80℃〜
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
プラズマの周波数—公式資料で確認できず13.56MHz、400kHz重畳の2周波—公式資料で確認できず
成膜の速さ—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず100nm/min以上
特長その場でチェンバー洗浄と終点検出四方向排気でガスの流れをそろえるTSVの側壁絶縁膜向け

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プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVD​のよくある質問

Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDはどんな人に向いている？
プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDは、200mmまでの窒化膜・酸化膜に使う人向けです。プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDは、屈折率や応力など膜の性質を細かく合わせ込めるPECVD装置です。
Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの強みは？
プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDは、200mmまでのウェハを載せ替えて使えます。電極は最大400℃の型と最大1200℃の型から選べます。
Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDはどんな方式？
プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの方式はプラズマCVDです。原料のガスをプラズマにして、低い温度のまま膜をつける方式です。
Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの主な仕様は？
プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの方式はPECVD（高濃度プラズマ・低圧）、基板サイズは最大200mmです。膜の種類は窒化ケイ素、酸化ケイ素、温度は最大400℃または1200℃です。
Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDとプラズマCVD装置 PD-220NLはどっちがいい？
200mmまでの窒化膜・酸化膜ならプラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVD、小径ウエハの絶縁膜の研究開発ならサムコのプラズマCVD装置 PD-220NLです。プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの方式はPECVD（高濃度プラズマ・低圧）、基板サイズは最大200mmです。サムコのプラズマCVD装置 PD-220NLの方式はロードロック式のプラズマCVD、基板サイズは2インチ・3インチ・4インチ（トレイ搬送）⁠で⁠⁠⁠⁠す⁠。
Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの特長は？
プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの特長はその場でチェンバー洗浄と終点検出です。サムコのプラズマCVD装置 PD-220NLの特長は四方向排気でガスの流れをそろえる。
Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDと液体ソースCVD装置 PD-330STCはどっちがいい？
200mmまでの窒化膜・酸化膜ならプラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVD、300mmウエハのTSV側壁の絶縁膜ならサムコの液体ソースCVD装置 PD-330STCです。プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDの方式はPECVD（高濃度プラズマ・低圧）、基板サイズは最大200mmです。サムコの液体ソースCVD装置 PD-330STCの方式は液体ソースCVD（カソードカップリング方式）、基板サイズは300mmです。
Q.プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDはどこのメーカー？
プラズマCVD装置 PlasmaPro 100 PECVDはオックスフォード・インストゥルメンツ株式会社の製品です。オックスフォード・インストゥルメンツの主な製品分野は原子間力顕微鏡・CVD装置・顕微鏡カメラです。

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