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電子ビーム描画装置可変成形型

可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS

株式会社ニューフレアテクノロジー

ビームの形を変えながら描く可変成型で、7nm+・5nmノードのマスク量産に使う機種です。

価格
公開価格なし（見積もり）
主な仕様
加速電圧50kV
ビーム方式
可変成形型
向いている所
7nm+・5nmノードのマスク量産
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比較表での位置

可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSは、電子ビーム描画装置のメーカー5社比較⁠のビーム方式「可変成形型」の2製品の1つとして載っています。

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可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS​の強みと方式

ビームの形を変えながら描く可変成型で、7nm+・5nmノードのマスク量産に使う機種です。高電流密度1200A/cm²とステージの可変速移動で処理量を上げています。位置精度は1.8nm、寸法精度は1.3nmです。

向いている所7nm+・5nmノードのマスク量産

ビーム方式：可変成形型

穴を通してビームを四角などの形に変え、面で焼いていく型です。一度に描く面積が広いので、マスクやレチクルの量産に向きます。ニューフレアのEBM-9500PLUSと日本電子のJBX-3200MVSがこの型です。

可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS​の仕様

ビーム方式
可変成形型
ビーム方式
可変成型ビーム
加速電圧
50kV
最小ビーム径
—公式資料で確認できず
精度
位置精度1.8nm、寸法精度1.3nm
基板サイズ
6inchマスク
価格
—公式資料で確認できず
フィールドサイズ
—公式資料で確認できず
ビーム電流
電流密度1200A/cm²
走査速度
—公式資料で確認できず
消費電力
—公式資料で確認できず
主な用途
7nm+・5nmノードのマスク量産

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS株式会社ニューフレアテクノロジー電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS日本電子株式会社電子ビーム描画装置 ELS-BODEN株式会社エリオニクス
ビーム方式可変成形型可変成形型スポットビーム型
ビーム方式可変成型ビーム可変成形ビーム、ステップ＆リピート細く絞ったビームで描く
加速電圧50kV50kV50kV・100kV・125kV・150kV
最小ビーム径—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず最小1.5nm
精度位置精度1.8nm、寸法精度1.3nmつなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm—公式資料で確認できず
基板サイズ6inchマスク—公式資料で確認できず8インチ・12インチのウェハー
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
フィールドサイズ—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず100μm角〜3000μm角（最大はオプション）
ビーム電流電流密度1200A/cm²—公式資料で確認できず5pA〜800nA
走査速度—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず標準100MHz、オプションで最大200MHz
消費電力—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
主な用途7nm+・5nmノードのマスク量産32nm〜28nmノードのマスク・レチクル高精細描画から大電流の高速描画

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可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS​のよくある質問

Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSはどんな人に向いている？
可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSは、7nm+・5nmノードのマスク量産に使う人向けです。可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSは、ビームの形を変えながら描く可変成型で、7nm+・5nmノードのマスク量産に使う機種です。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの強みは？
可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSは、高電流密度1200A/cm²とステージの可変速移動で処理量を上げています。位置精度は1.8nm、寸法精度は1.3nmです。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSはどんな方式？
可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSのビーム方式は可変成形型です。穴を通してビームを四角などの形に変え、面で焼いていく型です。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの主な仕様は？
可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成型ビームです。精度は位置精度1.8nm、寸法精度1.3nm、基板サイズは6inchマスクです。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSと電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSはどっちがいい？
7nm+・5nmノードのマスク量産なら可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS、32nm〜28nmノードのマスクなら日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSです。可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成型ビームです。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成形ビーム、ステップ＆リピートです。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSのビーム電流は？
可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSのビーム電流は電流密度1200A/cm²です。エリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENのビーム電流は5pA〜800nAです。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの主な用途は？
可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの主な用途は7nm+・5nmノードのマスク量産です。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの主な用途は32nm〜28nmノードのマスク・レチクルです。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSと電子ビーム描画装置 ELS-BODENはどっちがいい？
7nm+・5nmノードのマスク量産なら可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS、小片から12インチまでの研究開発ならエリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENです。可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成型ビームです。エリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kV・100kV・125kV・150kV、最小ビーム径は最小1.5nmです。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSのほかにニューフレアテクノロジーの電子ビーム描画装置はある？
あります。ニューフレアテクノロジーの電子ビーム描画装置には、可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSのほかにマルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000（最小ビーム径は10nmビーム）があります。
Q.可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSはどこのメーカー？
可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSは株式会社ニューフレアテクノロジーの製品です。電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心に、半導体製造装置を開発・製造・販売する会社です。

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