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電子ビーム描画装置スポットビーム型

電子線描画装置 CABL-AP

株式会社クレステック

研究開発用と、通信用半導体レーザーDFB-LDの生産用のモデルがある50kV機です。

価格
公開価格なし（見積もり）
主な仕様
加速電圧5〜50kV
ビーム方式
スポットビーム型
向いている所
研究開発とDFB-LDの生産
公式の製品ページを見る比較表で見る

比較表での位置

電子線描画装置 CABL-APは、電子ビーム描画装置のメーカー5社比較⁠のビーム方式「スポットビーム型」の5製品の1つとして載っています。

  • 5社掲載社数
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電子線描画装置 CABL-AP​の強みと方式

研究開発用と、通信用半導体レーザーDFB-LDの生産用のモデルがある50kV機です。研究開発用は50kVで最小ビーム径2.0nm、生産用は4.0nmです。周期の変わる回折格子も作れます。

向いている所研究開発とDFB-LDの生産

ビーム方式：スポットビーム型

一本のビームを点まで絞り、線をなぞって描く型です。細かいパターンを描けるので、研究開発や少量の生産に向きます。日本電子・エリオニクス・クレステックがこの型を作っています。

電子線描画装置 CABL-AP​の仕様

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
ポイントビーム
加速電圧
5〜50kV
最小ビーム径
研究開発用2.0nm、生産用4.0nm
精度
—公式資料で確認できず
基板サイズ
4・6・8インチ
価格
—公式資料で確認できず
フィールドサイズ
研究開発用は1000μm角まで、生産用は1500μm角まで
ビーム電流
—公式資料で確認できず
走査速度
—公式資料で確認できず
消費電力
—公式資料で確認できず
主な用途
研究開発、DFB-LDの生産

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

電子線描画装置 CABL-AP株式会社クレステック電子ビーム描画装置 JBX-8100FS日本電子株式会社電子ビーム描画装置 ELS-BODEN株式会社エリオニクス
ビーム方式スポットビーム型スポットビーム型スポットビーム型
ビーム方式ポイントビームスポットビーム、ベクタースキャン細く絞ったビームで描く
加速電圧5〜50kV100kV、上位の型は最大200kV50kV・100kV・125kV・150kV
最小ビーム径研究開発用2.0nm、生産用4.0nm—公式資料で確認できず最小1.5nm
精度—公式資料で確認できず重ね合わせ・接合とも≦±9nm、上位の型は≦±8nm—公式資料で確認できず
基板サイズ4・6・8インチ最大200mmウエハー、6インチマスク、微小サンプル片8インチ・12インチのウェハー
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
フィールドサイズ研究開発用は1000μm角まで、生産用は1500μm角まで最大1,000μm角、上位の型は最大2,000μm角100μm角〜3000μm角（最大はオプション）
ビーム電流—公式資料で確認できず5×10^-12〜2×10^-7A5pA〜800nA
走査速度—公式資料で確認できず最大125MHz標準100MHz、オプションで最大200MHz
消費電力—公式資料で確認できず通常時3kVA—公式資料で確認できず
主な用途研究開発、DFB-LDの生産極微細加工から少・中量生産高精細描画から大電流の高速描画

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電子線描画装置 CABL-AP​のよくある質問

Q.電子線描画装置 CABL-APはどんな人に向いている？
電子線描画装置 CABL-APは、研究開発とDFB-LDの生産に使う人向けです。電子線描画装置 CABL-APは、研究開発用と、通信用半導体レーザーDFB-LDの生産用のモデルがある50kV機です。
Q.電子線描画装置 CABL-APの強みは？
電子線描画装置 CABL-APの研究開発用は50kVで最小ビーム径2.0nm、生産用は4.0nmです。周期の変わる回折格子も作れます。
Q.電子線描画装置 CABL-APはどんな方式？
電子線描画装置 CABL-APのビーム方式はスポットビーム型です。一本のビームを点まで絞り、線をなぞって描く型です。
Q.電子線描画装置 CABL-APの主な仕様は？
電子線描画装置 CABL-APの加速電圧は5〜50kV、最小ビーム径は研究開発用2.0nm、生産用4.0nmです。ビーム方式はポイントビーム、基板サイズは4・6・8インチです。
Q.電子線描画装置 CABL-APと電子ビーム描画装置 JBX-8100FSはどっちがいい？
研究開発とDFB-LDの生産なら電子線描画装置 CABL-AP、極微細加工から少・中量生産なら日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-8100FSです。電子線描画装置 CABL-APの加速電圧は5〜50kV、最小ビーム径は研究開発用2.0nm、生産用4.0nmです。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-8100FSの加速電圧は100kV、上位の型は最大200kV、ビーム方式はスポットビーム、ベクタースキャンです。
Q.電子線描画装置 CABL-APのフィールドサイズは？
電子線描画装置 CABL-APのフィールドサイズは研究開発用は1000μm角まで、生産用は1500μm角までです。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-8100FSのフィールドサイズは最大1,000μm角、上位の型は最大2,000μm角です。
Q.電子線描画装置 CABL-APの主な用途は？
電子線描画装置 CABL-APの主な用途は研究開発、DFB-LDの生産です。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-8100FSの主な用途は極微細加工から少・中量生産です。
Q.電子線描画装置 CABL-APと電子ビーム描画装置 ELS-BODENはどっちがいい？
研究開発とDFB-LDの生産なら電子線描画装置 CABL-AP、小片から12インチまでの研究開発ならエリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENです。電子線描画装置 CABL-APの加速電圧は5〜50kV、最小ビーム径は研究開発用2.0nm、生産用4.0nmです。エリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kV・100kV・125kV・150kV、最小ビーム径は最小1.5nmです。
Q.電子線描画装置 CABL-APのほかにクレステックの電子ビーム描画装置はある？
あります。クレステックの電子ビーム描画装置には、電子線描画装置 CABL-APのほかに電子線描画装置 CABL-UH（加速電圧は25〜130kV）があります。
Q.電子線描画装置 CABL-APはどこのメーカー？
電子線描画装置 CABL-APは株式会社クレステックの製品です。東京都八王子市に本社と工場を置く、ポイントビーム型の電子線描画装置の専用メーカーです。

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