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電子ビーム描画装置マルチビーム型

マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000

株式会社ニューフレアテクノロジー

マルチビームで14Aノードのマスク量産に向けた機種です。

価格
公開価格なし（見積もり）
主な仕様
最小ビーム径10nmビーム
ビーム方式
マルチビーム型
向いている所
14Aノードの先端マスク量産
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比較表での位置

マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000は、電子ビーム描画装置のメーカー5社比較⁠のビーム方式「マルチビーム型」の1製品の1つとして載っています。

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マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000​の強みと方式

マルチビームで14Aノードのマスク量産に向けた機種です。10nmビームを使い、位置精度1.1nm・寸法精度0.5nmを公式に出しています。大量のビームと高速のデータ転送で、生産性も上げています。

向いている所14Aノードの先端マスク量産

ビーム方式：マルチビーム型

多数の電子ビームを同時に出して、マスクを描く型です。ニューフレアのMBM-3000は50万本以上のビームを制御します。先端ノードの複雑なパターンを量産する工場で使います。

マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000​の仕様

ビーム方式
マルチビーム型
ビーム方式
マルチビーム
加速電圧
—公式資料で確認できず
最小ビーム径
10nmビーム
精度
位置精度1.1nm、寸法精度0.5nm
基板サイズ
6inchマスク
価格
—公式資料で確認できず
フィールドサイズ
—公式資料で確認できず
ビーム電流
—公式資料で確認できず
走査速度
—公式資料で確認できず
消費電力
—公式資料で確認できず
主な用途
14Aノードの先端マスクの量産

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000株式会社ニューフレアテクノロジー電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS日本電子株式会社電子ビーム描画装置 ELS-BODEN株式会社エリオニクス
ビーム方式マルチビーム型可変成形型スポットビーム型
ビーム方式マルチビーム可変成形ビーム、ステップ＆リピート細く絞ったビームで描く
加速電圧—公式資料で確認できず50kV50kV・100kV・125kV・150kV
最小ビーム径10nmビーム—公式資料で確認できず最小1.5nm
精度位置精度1.1nm、寸法精度0.5nmつなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm—公式資料で確認できず
基板サイズ6inchマスク—公式資料で確認できず8インチ・12インチのウェハー
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
フィールドサイズ—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず100μm角〜3000μm角（最大はオプション）
ビーム電流—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず5pA〜800nA
走査速度—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず標準100MHz、オプションで最大200MHz
消費電力—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
主な用途14Aノードの先端マスクの量産32nm〜28nmノードのマスク・レチクル高精細描画から大電流の高速描画

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マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000​のよくある質問

Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000はどんな人に向いている？
マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000は、14Aノードの先端マスク量産に使う人向けです。マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000は、マルチビームで14Aノードのマスク量産に向けた機種です。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の強みは？
マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000は、10nmビームを使い、位置精度1.1nm・寸法精度0.5nmを公式に出しています。大量のビームと高速のデータ転送で、生産性も上げています。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000はどんな方式？
マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000のビーム方式はマルチビーム型です。多数の電子ビームを同時に出して、マスクを描く型です。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の主な仕様は？
マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の最小ビーム径は10nmビーム、ビーム方式はマルチビームです。精度は位置精度1.1nm、寸法精度0.5nm、基板サイズは6inchマスクです。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000と電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSはどっちがいい？
14Aノードの先端マスク量産ならマルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000、32nm〜28nmノードのマスクなら日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSです。マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の最小ビーム径は10nmビーム、ビーム方式はマルチビームです。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成形ビーム、ステップ＆リピートです。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の主な用途は？
マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の主な用途は14Aノードの先端マスクの量産です。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの主な用途は32nm〜28nmノードのマスク・レチクルです。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000と電子ビーム描画装置 ELS-BODENはどっちがいい？
14Aノードの先端マスク量産ならマルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000、小片から12インチまでの研究開発ならエリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENです。マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の最小ビーム径は10nmビーム、ビーム方式はマルチビームです。エリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kV・100kV・125kV・150kV、最小ビーム径は最小1.5nmです。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000のほかにニューフレアテクノロジーの電子ビーム描画装置はある？
あります。ニューフレアテクノロジーの電子ビーム描画装置には、マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000のほかに可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS（加速電圧は50kV）があります。
Q.マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000はどこのメーカー？
マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000は株式会社ニューフレアテクノロジーの製品です。電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心に、半導体製造装置を開発・製造・販売する会社です。

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    1. 株式会社ニューフレアテクノロジー 公式
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