イメージ電子ビーム描画装置可変成形型
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS
日本電子株式会社ステップ&リピートで止めて描く可変成形機で、32nm〜28nmノードのマスクとレチクルに使います。
- 価格
- 公開価格なし(見積もり)
- 主な仕様
- 加速電圧50kV
- ビーム方式
- 可変成形型
- 向いている所
- 32nm〜28nmノードのマスク
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの強みと方式
ステップ&リピートで止めて描く可変成形機で、32nm〜28nmノードのマスクとレチクルに使います。ドーズ量の変調や重ね描きを組み合わせて、レガシーマスクの補正に合わせられます。つなぎ精度は≦±3.5nm、重ね合わせ精度は≦±5nmです。
向いている所32nm〜28nmノードのマスク
ビーム方式:可変成形型
穴を通してビームを四角などの形に変え、面で焼いていく型です。一度に描く面積が広いので、マスクやレチクルの量産に向きます。ニューフレアのEBM-9500PLUSと日本電子のJBX-3200MVSがこの型です。
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの仕様
- ビーム方式
- 可変成形型
- ビーム方式
- 可変成形ビーム、ステップ&リピート
- 加速電圧
- 50kV
- 最小ビーム径
- —公式資料で確認できず
- 精度
- つなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm
- 基板サイズ
- —公式資料で確認できず
- 価格
- —公式資料で確認できず
- フィールドサイズ
- —公式資料で確認できず
- ビーム電流
- —公式資料で確認できず
- 走査速度
- —公式資料で確認できず
- 消費電力
- —公式資料で確認できず
- 主な用途
- 32nm〜28nmノードのマスク・レチクル
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| 電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS日本電子株式会社 | 可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置 ELS-BODEN株式会社エリオニクス |
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| ビーム方式 | 可変成形型 | 可変成形型 | スポットビーム型 |
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| ビーム方式 | 可変成形ビーム、ステップ&リピート | 可変成型ビーム | 細く絞ったビームで描く |
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| 加速電圧 | 50kV | 50kV | 50kV・100kV・125kV・150kV |
|---|
| 最小ビーム径 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | 最小1.5nm |
|---|
| 精度 | つなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm | 位置精度1.8nm、寸法精度1.3nm | —公式資料で確認できず |
|---|
| 基板サイズ | —公式資料で確認できず | 6inchマスク | 8インチ・12インチのウェハー |
|---|
| 価格 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| フィールドサイズ | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | 100μm角〜3000μm角(最大はオプション) |
|---|
| ビーム電流 | —公式資料で確認できず | 電流密度1200A/cm² | 5pA〜800nA |
|---|
| 走査速度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | 標準100MHz、オプションで最大200MHz |
|---|
| 消費電力 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 主な用途 | 32nm〜28nmノードのマスク・レチクル | 7nm+・5nmノードのマスク量産 | 高精細描画から大電流の高速描画 |
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電子ビーム描画装置の9製品を比較表で見る
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSのよくある質問
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSはどんな人に向いている?
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSは、32nm〜28nmノードのマスクに使う人向けです。電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSは、ステップ&リピートで止めて描く可変成形機で、32nm〜28nmノードのマスクとレチクルに使います。
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの強みは?
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSは、ドーズ量の変調や重ね描きを組み合わせて、レガシーマスクの補正に合わせられます。つなぎ精度は≦±3.5nm、重ね合わせ精度は≦±5nmです。
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSはどんな方式?
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSのビーム方式は可変成形型です。穴を通してビームを四角などの形に変え、面で焼いていく型です。
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの主な仕様は?
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成形ビーム、ステップ&リピートです。精度はつなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm、主な用途は32nm〜28nmノードのマスク・レチクルです。
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSと可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSはどっちがいい?
32nm〜28nmノードのマスクなら電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS、7nm+・5nmノードのマスク量産ならニューフレアテクノロジーの可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSです。電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成形ビーム、ステップ&リピートです。ニューフレアテクノロジーの可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成型ビームです。
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSと電子ビーム描画装置 ELS-BODENはどっちがいい?
32nm〜28nmノードのマスクなら電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS、小片から12インチまでの研究開発ならエリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENです。電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成形ビーム、ステップ&リピートです。エリオニクスの電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kV・100kV・125kV・150kV、最小ビーム径は最小1.5nmです。
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSのほかに日本電子の電子ビーム描画装置はある?
あります。日本電子の電子ビーム描画装置には、電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSのほかに電子ビーム描画装置 JBX-8100FS(加速電圧は100kV、上位の型は最大200kV)があります。
Q.電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSはどこのメーカー?
電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSは日本電子株式会社の製品です。登記上の本店は〒196-0021 東京都昭島市武蔵野3丁目1番2号。日本電子の主な製品分野は3Dプリンタ・電子ビーム描画装置・電子顕微鏡・質量分析計です。
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