株式会社マルチビームで
コスト要見積
- ビーム方式
- マルチビーム型
- ビーム方式
- マルチビーム
- 最小ビーム径
- 10nm
ビーム - 精度
- 位置精度
1.1nm、 寸法精度 0.5nm - 基板サイズ
- 6inch
マスク - 主な用途
- 14A
ノードの 先端マスクの量産 - 記載なし
- 加速電圧・
フィールドサイズ・ ビーム電流・ 走査速度・ 消費電力

半導体の
電子ビーム
マスクや

電子ビーム
レジストを
電子線描画装置、
※各メーカーの
ブログや
| 製品・ | コスト | 製品の強み | 仕様 | 公式ページ |
|---|---|---|---|---|
マルチビーム型1製品 | ||||
株式会社 | 要見積 | マルチビームで |
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可変成形型2製品 | ||||
日本電子 | 要見積 | ステップ&リピートで |
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株式会社 | 要見積 | ビームの |
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株式会社 | 要見積 | 12インチの |
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株式会社 | 要見積 | 研究開発向けの |
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| 要見積 | 130kVの |
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日本電子 | 要見積 | エントリー |
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SEM後付け型1製品 | ||||
サンユー電子 | 要見積 | 手元の |
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マルチビーム型1製品
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可変成形型2製品
日本電子ステップ&リピートで
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スポットビーム型
株式会社12インチの
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研究開発用と、
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130kVの
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日本電子エントリー
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SEM後付け型1製品
サンユー電子手元の
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出典:

載せた

マルチビーム

可変成形は

マスク描画は、

ステッパーは

レジストの

同じではありません。

ステージを

載せた中では

手元の

電源と

クレステックは
多数の
向いている用途
根拠:
穴を
向いている用途
根拠:7nm+/5nm
一本の
向いている用途
根拠:JBX-8100FS は
手元の
向いている用途
根拠:アドオンスタイル
半導体の
電子ビーム描画装置を