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半導体のマスクや微細なパターンを電子ビームで描く装置を選ぶ、研究開発・プロセス・設備・購買の担当の方へ

電子ビーム描画装置のメーカー5社比較【2026年】

電子ビーム描画装置は、絞った電子ビームでレジストに、
マスクや微細なパターンを直接描く装置です。

ABOUT

電子ビーム描画装置とは

比較表を見る ↓

電子ビーム描画装置とは、絞った電子ビームで、
レジストを塗った基板やマスクに直接パターンを描く装置です。
電子線描画装置、EB描画装置とも呼びます。マスクの原版を描く量産機と、ナノ構造を作る研究開発機に大きく分かれます。

製品の特長

  • マスクなしで基板に直接描ける図形データを変えればすぐ別のパターンに移れる
  • 電子ビームを細く絞れる最小ビーム径1.5nmの型もある
  • ビームの出し方で速さが変わる量産はマルチビームと可変成形、研究はスポットが中心

使うメリット

  • 光の露光では出しにくい細さまで描けるELS-BODENは加速電圧150kVで線幅3nmの例を公開
  • マスクの原版を作れるフォトマスク製造の工程で使う
  • 少量・試作に合わせやすいデータの変更だけでパターンを替えられる

選ぶときに注意すること

  1. 最小ビーム径と描ける線幅は別の数字なので、レジストと条件をそろえて比べる
  2. フィールドサイズが狭いとつなぎの回数が増えるので、つなぎ精度も見る
  3. 基板サイズは、最大試料サイズと描画エリアを分けて確かめる
  4. 高加速電圧の型は機種や構成で仕様が変わるので、型を指定して見積を取る
  5. SEM後付け型の描ける細さは、付けるSEMの仕様で決まる

※各メーカーの公式製品ページを2026-11-06に確認。ビーム径・精度は各社の条件での値で、そのまま横には比べられません。

LIST

電子ビーム描画装置の比較表

電子ビーム描画装置9製品の比較
製品・メーカーコスト製品の強み仕様公式ページ

マルチビーム型

1製品
株式会社ニューフレアテクノロジーマルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-400014Aノードの先端マスク量産口コミを書く要見積

マルチビームで14Aノードのマスク量産に向けた機種です。10nmビームを使い、位置精度1.1nm・寸法精度0.5nmを公式に出しています。大量のビームと高速のデータ転送で、生産性も上げています。

ビーム方式
マルチビーム型
ビーム方式
マルチビーム
最小ビーム径
10nmビーム
精度
位置精度1.1nm、寸法精度0.5nm
基板サイズ
6inchマスク
主な用途
14Aノードの先端マスクの量産
記載なし
加速電圧・フィールドサイズ・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ詳細・仕様

可変成形型

2製品
日本電子株式会社電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS32nm〜28nmノードのマスク口コミを書く要見積

ステップ&リピートで止めて描く可変成形機で、32nm〜28nmノードのマスクとレチクルに使います。ドーズ量の変調や重ね描きを組み合わせて、レガシーマスクの補正に合わせられます。つなぎ精度は≦±3.5nm、重ね合わせ精度は≦±5nmです。

ビーム方式
可変成形型
ビーム方式
可変成形ビーム、ステップ&リピート
加速電圧
50kV
精度
つなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm
主な用途
32nm〜28nmノードのマスク・レチクル
記載なし
最小ビーム径・基板サイズ・フィールドサイズ・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ詳細・仕様
株式会社ニューフレアテクノロジー可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS7nm+・5nmノードのマスク量産口コミを書く要見積

ビームの形を変えながら描く可変成型で、7nm+・5nmノードのマスク量産に使う機種です。高電流密度1200A/cm²とステージの可変速移動で処理量を上げています。位置精度は1.8nm、寸法精度は1.3nmです。

ビーム方式
可変成形型
ビーム方式
可変成型ビーム
加速電圧
50kV
精度
位置精度1.8nm、寸法精度1.3nm
基板サイズ
6inchマスク
ビーム電流
電流密度1200A/cm²
主な用途
7nm+・5nmノードのマスク量産
記載なし
最小ビーム径・フィールドサイズ・走査速度・消費電力
公式ページへ詳細・仕様

スポットビーム型

5製品
株式会社エリオニクス電子ビーム描画装置 ELS-BODEN小片から12インチまでの研究開発口コミを書く要見積

12インチのウェハーまで全面を描ける型を用意した機種です。加速電圧は50kVから150kVまで選べ、150kVの型で最小ビーム径は1.5nmです。研究開発で使う小片からウェハーまで載せられます。

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
細く絞ったビームで描く
加速電圧
50kV・100kV・125kV・150kV
最小ビーム径
最小1.5nm
基板サイズ
8インチ・12インチのウェハー
フィールドサイズ
100μm角〜3000μm角(最大はオプション)
ビーム電流
5pA〜800nA
走査速度
標準100MHz、オプションで最大200MHz
主な用途
高精細描画から大電流の高速描画
記載なし
精度・消費電力
公式ページへ詳細・仕様
株式会社エリオニクス電子ビーム描画装置 ELS-ORCA研究開発の入門機口コミを書く要見積

研究開発向けのエントリーモデルで、加速電圧30kVを標準にして必要なオプションを足していく機種です。予算とパターンに合わせて50kVにも広げられます。描画エリアは最大150mm x 150mmです。

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
細く絞ったビームで描く
加速電圧
1〜30kV、オプションで1〜50kV
最小ビーム径
2.0nm、1.6nm(加速電圧で異なる)
基板サイズ
8インチのウェハー
フィールドサイズ
最大1000μm角
ビーム電流
5pA〜80nA
走査速度
100MHz
主な用途
研究開発の入門機
記載なし
精度・消費電力
公式ページへ詳細・仕様
株式会社クレステック電子線描画装置 CABL-AP研究開発とDFB-LDの生産口コミを書く要見積

研究開発用と、通信用半導体レーザーDFB-LDの生産用のモデルがある50kV機です。研究開発用は50kVで最小ビーム径2.0nm、生産用は4.0nmです。周期の変わる回折格子も作れます。

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
ポイントビーム
加速電圧
5〜50kV
最小ビーム径
研究開発用2.0nm、生産用4.0nm
基板サイズ
4・6・8インチ
フィールドサイズ
研究開発用は1000μm角まで、生産用は1500μm角まで
主な用途
研究開発、DFB-LDの生産
記載なし
精度・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ詳細・仕様
株式会社クレステック電子線描画装置 CABL-UH高い加速電圧で微細に描く口コミを書く要見積

130kVの高い加速電圧で、レジストの中で電子が広がりにくい機種です。放電がほとんど起きない鏡筒を新しく作り、長時間の安定稼動につなげています。予算に合わせて、加速電圧の低い型も選べます。

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
ポイントビーム
加速電圧
25〜130kV
最小ビーム径
1.6nm
基板サイズ
4・6・8インチ
フィールドサイズ
30μm角〜1000μm角
主な用途
より微細な加工
記載なし
精度・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ詳細・仕様
日本電子株式会社電子ビーム描画装置 JBX-8100FS極微細加工から少・中量生産口コミを書く要見積

エントリーのG1から200kVのG3まで、同じ機種で3つの版を選べるスポットビーム機です。高分解能と高速の2つのモードを切り替え、極微細加工から少・中量生産まで使えます。通常時の消費電力は3kVAです。

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
スポットビーム、ベクタースキャン
加速電圧
100kV、上位の型は最大200kV
精度
重ね合わせ・接合とも≦±9nm、上位の型は≦±8nm
基板サイズ
最大200mmウエハー、6インチマスク、微小サンプル片
フィールドサイズ
最大1,000μm角、上位の型は最大2,000μm角
ビーム電流
5×10^-12〜2×10^-7A
走査速度
最大125MHz
消費電力
通常時3kVA
主な用途
極微細加工から少・中量生産
記載なし
最小ビーム径
公式ページへ詳細・仕様

SEM後付け型

1製品
サンユー電子株式会社電子線描画用パターン発生装置 SPG-724手元のSEMで描画を始める口コミを書く要見積

手元のSEMに取り付けて描画に使う装置で、専用機を入れずに始められます。市販のCADで図形を作れて、専用機ほどの専門知識を求めません。ブロックスキャンなら2,500μm角を一括で露光できます。

ビーム方式
SEM後付け型
ビーム方式
SEMに取り付けるパターン発生装置
フィールドサイズ
50μm角〜500μm角、ブロックスキャンで2,500μm角
走査速度
0.5〜10,000μsec/ピクセル
主な用途
手元のSEMで描画
記載なし
加速電圧・最小ビーム径・精度・基板サイズ・ビーム電流・消費電力
公式ページへ詳細・仕様

マルチビーム型1製品

株式会社ニューフレアテクノロジー

マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000

14Aノードの先端マスク量産

マルチビームで14Aノードのマスク量産に向けた機種です。10nmビームを使い、位置精度1.1nm・寸法精度0.5nmを公式に出しています。大量のビームと高速のデータ転送で、生産性も上げています。

コスト要見積

ビーム方式
マルチビーム型
ビーム方式
マルチビーム
最小ビーム径
10nmビーム
精度
位置精度1.1nm、寸法精度0.5nm
基板サイズ
6inchマスク
主な用途
14Aノードの先端マスクの量産
記載なし
加速電圧・フィールドサイズ・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ

可変成形型2製品

日本電子株式会社

電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS

32nm〜28nmノードのマスク

ステップ&リピートで止めて描く可変成形機で、32nm〜28nmノードのマスクとレチクルに使います。ドーズ量の変調や重ね描きを組み合わせて、レガシーマスクの補正に合わせられます。つなぎ精度は≦±3.5nm、重ね合わせ精度は≦±5nmです。

コスト要見積

ビーム方式
可変成形型
ビーム方式
可変成形ビーム、ステップ&リピート
加速電圧
50kV
精度
つなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm
主な用途
32nm〜28nmノードのマスク・レチクル
記載なし
最小ビーム径・基板サイズ・フィールドサイズ・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ
株式会社ニューフレアテクノロジー

可変成型電子ビームマスク描画装置 EBM-9500PLUS

7nm+・5nmノードのマスク量産

ビームの形を変えながら描く可変成型で、7nm+・5nmノードのマスク量産に使う機種です。高電流密度1200A/cm²とステージの可変速移動で処理量を上げています。位置精度は1.8nm、寸法精度は1.3nmです。

コスト要見積

ビーム方式
可変成形型
ビーム方式
可変成型ビーム
加速電圧
50kV
精度
位置精度1.8nm、寸法精度1.3nm
基板サイズ
6inchマスク
ビーム電流
電流密度1200A/cm²
主な用途
7nm+・5nmノードのマスク量産
記載なし
最小ビーム径・フィールドサイズ・走査速度・消費電力
公式ページへ

スポットビーム型5製品

株式会社エリオニクス

電子ビーム描画装置 ELS-BODEN

小片から12インチまでの研究開発

12インチのウェハーまで全面を描ける型を用意した機種です。加速電圧は50kVから150kVまで選べ、150kVの型で最小ビーム径は1.5nmです。研究開発で使う小片からウェハーまで載せられます。

コスト要見積

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
細く絞ったビームで描く
加速電圧
50kV・100kV・125kV・150kV
最小ビーム径
最小1.5nm
基板サイズ
8インチ・12インチのウェハー
フィールドサイズ
100μm角〜3000μm角(最大はオプション)
ビーム電流
5pA〜800nA
走査速度
標準100MHz、オプションで最大200MHz
主な用途
高精細描画から大電流の高速描画
記載なし
精度・消費電力
公式ページへ
株式会社エリオニクス

電子ビーム描画装置 ELS-ORCA

研究開発の入門機

研究開発向けのエントリーモデルで、加速電圧30kVを標準にして必要なオプションを足していく機種です。予算とパターンに合わせて50kVにも広げられます。描画エリアは最大150mm x 150mmです。

コスト要見積

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
細く絞ったビームで描く
加速電圧
1〜30kV、オプションで1〜50kV
最小ビーム径
2.0nm、1.6nm(加速電圧で異なる)
基板サイズ
8インチのウェハー
フィールドサイズ
最大1000μm角
ビーム電流
5pA〜80nA
走査速度
100MHz
主な用途
研究開発の入門機
記載なし
精度・消費電力
公式ページへ
株式会社クレステック

電子線描画装置 CABL-AP

研究開発とDFB-LDの生産

研究開発用と、通信用半導体レーザーDFB-LDの生産用のモデルがある50kV機です。研究開発用は50kVで最小ビーム径2.0nm、生産用は4.0nmです。周期の変わる回折格子も作れます。

コスト要見積

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
ポイントビーム
加速電圧
5〜50kV
最小ビーム径
研究開発用2.0nm、生産用4.0nm
基板サイズ
4・6・8インチ
フィールドサイズ
研究開発用は1000μm角まで、生産用は1500μm角まで
主な用途
研究開発、DFB-LDの生産
記載なし
精度・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ
株式会社クレステック

電子線描画装置 CABL-UH

高い加速電圧で微細に描く

130kVの高い加速電圧で、レジストの中で電子が広がりにくい機種です。放電がほとんど起きない鏡筒を新しく作り、長時間の安定稼動につなげています。予算に合わせて、加速電圧の低い型も選べます。

コスト要見積

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
ポイントビーム
加速電圧
25〜130kV
最小ビーム径
1.6nm
基板サイズ
4・6・8インチ
フィールドサイズ
30μm角〜1000μm角
主な用途
より微細な加工
記載なし
精度・ビーム電流・走査速度・消費電力
公式ページへ
日本電子株式会社

電子ビーム描画装置 JBX-8100FS

極微細加工から少・中量生産

エントリーのG1から200kVのG3まで、同じ機種で3つの版を選べるスポットビーム機です。高分解能と高速の2つのモードを切り替え、極微細加工から少・中量生産まで使えます。通常時の消費電力は3kVAです。

コスト要見積

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
スポットビーム、ベクタースキャン
加速電圧
100kV、上位の型は最大200kV
精度
重ね合わせ・接合とも≦±9nm、上位の型は≦±8nm
基板サイズ
最大200mmウエハー、6インチマスク、微小サンプル片
フィールドサイズ
最大1,000μm角、上位の型は最大2,000μm角
ビーム電流
5×10^-12〜2×10^-7A
走査速度
最大125MHz
消費電力
通常時3kVA
主な用途
極微細加工から少・中量生産
記載なし
最小ビーム径
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SEM後付け型1製品

サンユー電子株式会社

電子線描画用パターン発生装置 SPG-724

手元のSEMで描画を始める

手元のSEMに取り付けて描画に使う装置で、専用機を入れずに始められます。市販のCADで図形を作れて、専用機ほどの専門知識を求めません。ブロックスキャンなら2,500μm角を一括で露光できます。

コスト要見積

ビーム方式
SEM後付け型
ビーム方式
SEMに取り付けるパターン発生装置
フィールドサイズ
50μm角〜500μm角、ブロックスキャンで2,500μm角
走査速度
0.5〜10,000μsec/ピクセル
主な用途
手元のSEMで描画
記載なし
加速電圧・最小ビーム径・精度・基板サイズ・ビーム電流・消費電力
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Q&A

電子ビーム描画装置選びで、よくある疑問

購買担当の疑問電子ビーム描画装置の価格はいくら?

載せた9製品のうち、公式に価格を出している製品はありません。型と構成を決めてメーカーに見積を取ります。オプションで金額が動くので、加速電圧・基板サイズ・搬送機構を先に決めておきます。

設備担当の疑問電子ビーム描画装置の種類は?

マルチビーム型・可変成形型・スポットビーム型・SEM後付け型の4つに分けました。量産のマスクはマルチビームと可変成形、研究開発はスポットで描きます。手元のSEMで試すならサンユー電子のSPG-724のような後付けの装置があります。

設備担当の疑問可変成形とスポットビームの違いは?

可変成形はビームを四角などの形に変えて面で描くので、マスクの量産に向きます。スポットは点まで絞って線をなぞるので、細かさを優先する研究開発に向きます。日本電子はJBX-3200MVSとJBX-8100FSで両方を作っています。

工場長の疑問マスク描画と直接描画の違いは?

マスク描画は、露光装置で使うフォトマスクの原版を描きます。直接描画は、ウェハーや基板のレジストに回路や構造をそのまま描きます。MBM-4000はマスク専用で、ELS-BODENやCABL-UHはウェハーに直接描けます。

設備担当の疑問電子ビーム描画装置とステッパーの違いは?

ステッパーは光でマスクのパターンをまとめて焼き付けます。電子ビーム描画装置はマスクなしで電子ビームが直接描きます。量産の回路形成はステッパー、マスクの原版や試作は電子ビームという使い分けです。

設備担当の疑問加速電圧が高いと何が変わる?

レジストの中で電子が広がりにくくなり、細かく、厚い膜でも垂直に描きやすくなります。CABL-UHは130kVで前方散乱が少なく、JBX-8100FSは10μm厚のレジストで200kVにするとテーパーが減るデータを公開しています。

設備担当の疑問最小ビーム径と最小線幅は同じ?

同じではありません。ビーム径は電子ビームの細さで、線幅はレジストに描けた線の細さです。ELS-BODENは最小ビーム径1.5nmで、公開例は線幅3nmです。

工場長の疑問フィールドサイズとは?

ステージを動かさずに一度に描ける範囲です。広いほどつなぎが減ります。CABL-UHは30μm角から1000μm角まで選べ、JBX-8100FSのG2・G3は最大2,000μm角です。

設備担当の疑問12インチのウェハーに描ける機種は?

載せた中ではELS-BODENの12インチの型が使えます。クレステックのCABL-UH・CABL-APとELS-ORCAは8インチまで、JBX-8100FSは最大200mmウエハーです。

経営者の疑問専用機を入れずに始められる?

手元のSEMがあれば、サンユー電子のSPG-724のようなパターン発生装置を付けて描けます。専用機ほどの専門知識を求めず、市販のCADで図形を作れます。描ける細さや精度は付けるSEMで変わります。

施設管理の疑問設置する前に確かめることは?

電源と設置場所を先に見ます。JBX-8100FSの通常時の消費電力は3kVAです。外部の磁場の変動は電子線の揺れにつながるので、置く部屋の環境もメーカーと確かめます。

購買担当の疑問購入前に試し描きはできる?

クレステックは見学とデモ描画を随時受けています。ほかの会社も、自分のパターンで試せるかを見積の前に問い合わせて確かめます。

TYPES

電子ビーム描画装置のビーム方式の違い

マルチビーム型

多数の電子ビームを同時に出して、マスクを描く型です。ニューフレアのMBM-3000は50万本以上のビームを制御します。先端ノードの複雑なパターンを量産する工場で使います。

向いている用途

  • 先端ノードのマスクを量産する
  • 曲線の多いパターンを速く描く
  • 寸法の精度を1nm以下で管理する

根拠:1) 50 万本以上の電子ビームを高速・高精度に制御(出典2)

このビーム方式の1製品を表で見る

可変成形型

穴を通してビームを四角などの形に変え、面で焼いていく型です。一度に描く面積が広いので、マスクやレチクルの量産に向きます。ニューフレアのEBM-9500PLUSと日本電子のJBX-3200MVSがこの型です。

向いている用途

  • マスク・レチクルを量産する
  • レガシーマスクの補正を細かく合わせる
  • 7nm+・5nmノード以前の世代を描く

根拠:7nm+/5nmノードのマスク量産に対応した可変成型電子ビームマスク描画装置です。(出典3)

このビーム方式の2製品を表で見る

スポットビーム型

一本のビームを点まで絞り、線をなぞって描く型です。細かいパターンを描けるので、研究開発や少量の生産に向きます。日本電子・エリオニクス・クレステックがこの型を作っています。

向いている用途

  • 研究開発でナノ構造を作る
  • DFBレーザーの回折格子を作る
  • 小片から大口径まで同じ機械で描く

根拠:JBX-8100FS は高速・高精度な幅広いアプリケーションに適応するために開発されたスポットビーム描画装置です。(出典4)

このビーム方式の5製品を表で見る

SEM後付け型

手元の走査電子顕微鏡にパターン発生装置を付けて描く型です。専用機を入れなくても描画を始められます。描ける細さや精度は、付けるSEMの仕様で変わります。

向いている用途

  • 手元のSEMで描画を試す
  • 専用機を入れる前に小さく始める
  • 小さなパターンを少しだけ描く

根拠:アドオンスタイルのEBリソグラフィ用パターン発生装置 ⇒ 様々なタイプのSEMに取付けることが可能です。(出典9)

このビーム方式の1製品を表で見る
MAKERS

電子ビーム描画装置の主なメーカー5社

株式会社エリオニクス

12インチのウェハーまで全面を描ける型を用意した機種です。

東京都

株式会社クレステック

研究開発用と、通信用半導体レーザーDFB-LDの生産用のモデルがある50kV機です。

東京都

サンユー電子株式会社

手元のSEMに取り付けて描画に使う装置で、専用機を入れずに始められます。

東京都

日本電子株式会社

ステップ&リピートで止めて描く可変成形機で、32nm〜28nmノードのマスクとレチクルに使います。

東京都

出典
  1. ニューフレアテクノロジー 事業内容
  2. ニューフレアテクノロジー MBM-3000
  3. ニューフレアテクノロジー EBM-9500PLUS
  4. 日本電子 JBX-8100FS
  5. 日本電子 JBX-3200MVS
  6. エリオニクス ELS-BODEN
  7. エリオニクス ELS-ORCA
  8. クレステック 電子線描画装置
  9. サンユー電子 SPG-724
掲載基準

半導体のフォトマスクや、研究開発・少量生産の微細なパターンを電子ビームで描く新品の電子ビーム描画装置(電子線描画装置)と、SEMに取り付けて描画に使うパターン発生装置です。自社で作る日本の会社の製品を、公式の製品ページで仕様を確かめて、1社2製品まで載せています。光で焼き付ける露光装置は半導体用ステッパーのページで扱い、受託の描画サービス、部品だけの品、中古品は除いています。Raithの装置は伯東が販売する輸入品で、Raithの日本法人を公式で確かめられないので載せていません。東京テクノロジーのBeam Drawは公式ページを確かめられず、アドバンテストは公式の製品一覧に電子ビーム描画装置が見当たらないので載せていません。日本電子のJBX-A9シリーズはページにビーム方式の記載が無いので載せていません。ニューフレアのMBM-3000やエリオニクスのELS-BODEN Σなどは、1社2製品までとしたので省いています。

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引用

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