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電子ビーム描画装置スポットビーム型

電子ビーム描画装置 ELS-BODEN

株式会社エリオニクス

12インチのウェハーまで全面を描ける型を用意した機種です。

価格
公開価格なし（見積もり）
主な仕様
加速電圧50kV・100kV・125kV・150kV
ビーム方式
スポットビーム型
向いている所
小片から12インチまでの研究開発
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比較表での位置

電子ビーム描画装置 ELS-BODENは、電子ビーム描画装置のメーカー5社比較⁠のビーム方式「スポットビーム型」の5製品の1つとして載っています。

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電子ビーム描画装置 ELS-BODEN​の強みと方式

12インチのウェハーまで全面を描ける型を用意した機種です。加速電圧は50kVから150kVまで選べ、150kVの型で最小ビーム径は1.5nmです。研究開発で使う小片からウェハーまで載せられます。

向いている所小片から12インチまでの研究開発

ビーム方式：スポットビーム型

一本のビームを点まで絞り、線をなぞって描く型です。細かいパターンを描けるので、研究開発や少量の生産に向きます。日本電子・エリオニクス・クレステックがこの型を作っています。

電子ビーム描画装置 ELS-BODEN​の仕様

ビーム方式
スポットビーム型
ビーム方式
細く絞ったビームで描く
加速電圧
50kV・100kV・125kV・150kV
最小ビーム径
最小1.5nm
精度
—公式資料で確認できず
基板サイズ
8インチ・12インチのウェハー
価格
—公式資料で確認できず
フィールドサイズ
100μm角〜3000μm角（最大はオプション）
ビーム電流
5pA〜800nA
走査速度
標準100MHz、オプションで最大200MHz
消費電力
—公式資料で確認できず
主な用途
高精細描画から大電流の高速描画

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

電子ビーム描画装置 ELS-BODEN株式会社エリオニクス電子線描画装置 CABL-AP株式会社クレステック電子線描画装置 CABL-UH株式会社クレステック
ビーム方式スポットビーム型スポットビーム型スポットビーム型
ビーム方式細く絞ったビームで描くポイントビームポイントビーム
加速電圧50kV・100kV・125kV・150kV5〜50kV25〜130kV
最小ビーム径最小1.5nm研究開発用2.0nm、生産用4.0nm1.6nm
精度—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
基板サイズ8インチ・12インチのウェハー4・6・8インチ4・6・8インチ
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
フィールドサイズ100μm角〜3000μm角（最大はオプション）研究開発用は1000μm角まで、生産用は1500μm角まで30μm角〜1000μm角
ビーム電流5pA〜800nA—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
走査速度標準100MHz、オプションで最大200MHz—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
消費電力—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
主な用途高精細描画から大電流の高速描画研究開発、DFB-LDの生産より微細な加工

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電子ビーム描画装置 ELS-BODEN​のよくある質問

Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENはどんな人に向いている？
電子ビーム描画装置 ELS-BODENは、小片から12インチまでの研究開発に使う人向けです。電子ビーム描画装置 ELS-BODENは、12インチのウェハーまで全面を描ける型を用意した機種です。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENの強みは？
電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kVから150kVまで選べ、150kVの型で最小ビーム径は1.5nmです。研究開発で使う小片からウェハーまで載せられます。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENはどんな方式？
電子ビーム描画装置 ELS-BODENのビーム方式はスポットビーム型です。一本のビームを点まで絞り、線をなぞって描く型です。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENの主な仕様は？
電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kV・100kV・125kV・150kV、最小ビーム径は最小1.5nmです。ビーム方式は細く絞ったビームで描く、基板サイズは8インチ・12インチのウェハーです。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENと電子線描画装置 CABL-APはどっちがいい？
小片から12インチまでの研究開発なら電子ビーム描画装置 ELS-BODEN、研究開発とDFB-LDの生産ならクレステックの電子線描画装置 CABL-APです。電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kV・100kV・125kV・150kV、最小ビーム径は最小1.5nmです。クレステックの電子線描画装置 CABL-APの加速電圧は5〜50kV、最小ビーム径は研究開発用2.0nm、生産用4.0nmです。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENのフィールドサイズは？
電子ビーム描画装置 ELS-BODENのフィールドサイズは100μm角〜3000μm角（最大はオプション）⁠で⁠す⁠。クレステックの電子線描画装置 CABL-APのフィールドサイズは研究開発用は1000μm角まで、生産用は1500μm角までです。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENのビーム電流は？
電子ビーム描画装置 ELS-BODENのビーム電流は5pA〜800nAです。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-8100FSのビーム電流は5×10^-12〜2×10^-7Aです。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENと電子線描画装置 CABL-UHはどっちがいい？
小片から12インチまでの研究開発なら電子ビーム描画装置 ELS-BODEN、高い加速電圧で微細に描くならクレステックの電子線描画装置 CABL-UHです。電子ビーム描画装置 ELS-BODENの加速電圧は50kV・100kV・125kV・150kV、最小ビーム径は最小1.5nmです。クレステックの電子線描画装置 CABL-UHの加速電圧は25〜130kV、最小ビーム径は1.6nmです。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENのほかにエリオニクスの電子ビーム描画装置はある？
あります。エリオニクスの電子ビーム描画装置には、電子ビーム描画装置 ELS-BODENのほかに電子ビーム描画装置 ELS-ORCA（加速電圧は1〜30kV、オプションで1〜50kV）があります。
Q.電子ビーム描画装置 ELS-BODENはどこのメーカー？
電子ビーム描画装置 ELS-BODENは株式会社エリオニクスの製品です。電子ビーム描画装置やナノインデンテーションテスターを作っています。

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    研究開発向けのエントリーモデルで、加速電圧30kVを標準にして必要なオプションを足していく機種です。

    加速電圧1〜30kV

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    研究開発用と、通信用半導体レーザーDFB-LDの生産用のモデルがある50kV機です。

    加速電圧5〜50kV

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    出典
    1. 株式会社エリオニクス 公式
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