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電子ビーム描画装置SEM後付け型

電子線描画用パターン発生装置 SPG-724

サンユー電子株式会社

手元のSEMに取り付けて描画に使う装置で、専用機を入れずに始められます。

価格
公開価格なし(見積もり)
ビーム方式
SEM後付け型
向いている所
手元のSEMで描画を始める

比較表での位置

電子線描画用パターン発生装置 SPG-724は、電子ビーム描画装置のメーカー5社比較⁠のビーム方式「SEM後付け型」の1製品の1つとして載っています。

  • 5社掲載社数
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電子線描画用パターン発生装置 SPG-724​の強みと方式

手元のSEMに取り付けて描画に使う装置で、専用機を入れずに始められます。市販のCADで図形を作れて、専用機ほどの専門知識を求めません。ブロックスキャンなら2,500μm角を一括で露光できます。

向いている所手元のSEMで描画を始める

ビーム方式:SEM後付け型

手元の走査電子顕微鏡にパターン発生装置を付けて描く型です。専用機を入れなくても描画を始められます。描ける細さや精度は、付けるSEMの仕様で変わります。

電子線描画用パターン発生装置 SPG-724​の仕様

ビーム方式
SEM後付け型
ビーム方式
SEMに取り付けるパターン発生装置
加速電圧
—公式資料で確認できず
最小ビーム径
—公式資料で確認できず
精度
—公式資料で確認できず
基板サイズ
—公式資料で確認できず
価格
—公式資料で確認できず
フィールドサイズ
50μm角〜500μm角、ブロックスキャンで2,500μm角
ビーム電流
—公式資料で確認できず
走査速度
0.5〜10,000μsec/ピクセル
消費電力
—公式資料で確認できず
主な用途
手元のSEMで描画

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

電子線描画用パターン発生装置 SPG-724サンユー電子株式会社マルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000株式会社ニューフレアテクノロジー電子ビーム描画装置 JBX-3200MVS日本電子株式会社
ビーム方式SEM後付け型マルチビーム型可変成形型
ビーム方式SEMに取り付けるパターン発生装置マルチビーム可変成形ビーム、ステップ&リピート
加速電圧—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず50kV
最小ビーム径—公式資料で確認できず10nmビーム—公式資料で確認できず
精度—公式資料で確認できず位置精度1.1nm、寸法精度0.5nmつなぎ≦±3.5nm、重ね合わせ≦±5nm
基板サイズ—公式資料で確認できず6inchマスク—公式資料で確認できず
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
フィールドサイズ50μm角〜500μm角、ブロックスキャンで2,500μm角—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
ビーム電流—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
走査速度0.5〜10,000μsec/ピクセル—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
消費電力—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
主な用途手元のSEMで描画14Aノードの先端マスクの量産32nm〜28nmノードのマスク・レチクル

電子ビーム描画装置の9製品を比較表で見る

電子線描画用パターン発生装置 SPG-724​のよくある質問

Q.電子線描画用パターン発生装置 SPG-724はどんな人に向いている?
電子線描画用パターン発生装置 SPG-724は、手元のSEMで描画を始める人向けです。電子線描画用パターン発生装置 SPG-724は、手元のSEMに取り付けて描画に使う装置で、専用機を入れずに始められます。
Q.電子線描画用パターン発生装置 SPG-724の強みは?
電子線描画用パターン発生装置 SPG-724は、市販のCADで図形を作れて、専用機ほどの専門知識を求めません。ブロックスキャンなら2,500μm角を一括で露光できます。
Q.電子線描画用パターン発生装置 SPG-724はどんな方式?
電子線描画用パターン発生装置 SPG-724のビーム方式はSEM後付け型です。手元の走査電子顕微鏡にパターン発生装置を付けて描く型です。
Q.電子線描画用パターン発生装置 SPG-724の主な仕様は?
電子線描画用パターン発生装置 SPG-724のビーム方式はSEMに取り付けるパターン発生装置、フィールドサイズは50μm角〜500μm角、ブロックスキャンで2,500μm角です。走査速度は0.5〜10,000μsec/ピクセル、主な用途は手元のSEMで描画です。
Q.電子線描画用パターン発生装置 SPG-724とマルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000はどっちがいい?
手元のSEMで描画を始めるなら電子線描画用パターン発生装置 SPG-724、14Aノードの先端マスク量産ならニューフレアテクノロジーのマルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000です。電子線描画用パターン発生装置 SPG-724のビーム方式はSEMに取り付けるパターン発生装置、フィールドサイズは50μm角〜500μm角、ブロックスキャンで2,500μm角です。ニューフレアテクノロジーのマルチ電子ビームマスク描画装置 MBM-4000の最小ビーム径は10nmビーム、ビーム方式はマルチビームです。
Q.電子線描画用パターン発生装置 SPG-724と電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSはどっちがいい?
手元のSEMで描画を始めるなら電子線描画用パターン発生装置 SPG-724、32nm〜28nmノードのマスクなら日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSです。電子線描画用パターン発生装置 SPG-724のビーム方式はSEMに取り付けるパターン発生装置、フィールドサイズは50μm角〜500μm角、ブロックスキャンで2,500μm角です。日本電子の電子ビーム描画装置 JBX-3200MVSの加速電圧は50kV、ビーム方式は可変成形ビーム、ステップ&リピートです。
Q.電子線描画用パターン発生装置 SPG-724はどこのメーカー?
電子線描画用パターン発生装置 SPG-724はサンユー電子株式会社の製品です。登記上の本店は〒169-0073 東京都新宿区百人町1丁目22番6号。サンユー電子の主な製品分野はスパッタ装置・電子ビーム描画装置です。

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