イメージ半導体洗浄装置バッチ式(ウェットステーション)
ウェットステーション FC-3100
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ毎時1,000枚を処理し、減圧IPA乾燥を備えた300mm用のウェットステーション。
- 価格
- 公開価格なし(見積もり)
- 主な仕様
- 対応ウェーハ径300mm
- 方式
- バッチ式(ウェットステーション)
- 向いている所
- 300mmのバッチ洗浄と減圧IPA乾燥
比較表での位置

ウェットステーション FC-3100は、半導体洗浄装置のメーカー9社比較の方式がバッチ式(ウェットステーション)の4製品の1つとして載っています。
- 9社掲載社数
- 14製品比較表の製品
- 4製品同じ方式
- 0製品公開価格あり
比較表を見るウェットステーション FC-3100の強みと方式
減圧乾燥システムHiLPDで、キャリアN2を使わずに高濃度IPAを送って乾かすウェットステーションです。毎時1,000枚を処理でき、ウォータマークを大きく抑えます。本体は7つの独立モジュールを組み合わせた作りです。
向いている所300mmのバッチ洗浄と減圧IPA乾燥
方式:バッチ式(ウェットステーション)
キャリアに並べたウェーハを、薬液と純水の槽に順に浸けて洗います。50枚前後をまとめて流せるので、薬液あたりの処理枚数が多くなります。槽の数と並びは工程に合わせて組みます。
ウェットステーション FC-3100の仕様
- 方式
- バッチ式(ウェットステーション)
- 方式
- ウェットステーション
- 対応ウェーハ径
- 300mm
- 処理能力
- 毎時1,000枚
- 洗い方
- —公式資料で確認できず
- 乾燥
- 減圧乾燥(HiLPD)、高濃度IPA
- 価格
- —公式資料で確認できず
- 対象の基板
- —公式資料で確認できず
- 装置の構成
- 7つの独立モジュール
- 落とせる粒子
- —公式資料で確認できず
- 使う工程
- —公式資料で確認できず
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| ウェットステーション FC-3100株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ | バッチ洗浄装置 EXPEDIUS-i東京エレクトロン株式会社 | ウェーハ自動洗浄装置 SCC-250PHT株式会社 |
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| 方式 | バッチ式(ウェットステーション) | バッチ式(ウェットステーション) | バッチ式(ウェットステーション) |
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| 方式 | ウェットステーション | バッチ式 | バッチ式 |
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| 対応ウェーハ径 | 300mm | 300mm | 直径200mm・300mm |
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| 処理能力 | 毎時1,000枚 | 毎時1,000枚 | —公式資料で確認できず |
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| 洗い方 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 乾燥 | 減圧乾燥(HiLPD)、高濃度IPA | New SD2 | —公式資料で確認できず |
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| 価格 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 対象の基板 | —公式資料で確認できず | Si | シリコン(SiCなどは別途打ち合わせ) |
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| 装置の構成 | 7つの独立モジュール | 1回に最大50枚、複数の処理槽 | 処理槽はラインに合わせて決める |
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| 落とせる粒子 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 使う工程 | —公式資料で確認できず | 前後洗浄、ウェットエッチング、レジスト剥離 | —公式資料で確認できず |
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半導体洗浄装置の14製品を比較表で見る
ウェットステーション FC-3100のよくある質問
Q.ウェットステーション FC-3100はどんな人に向いている?
ウェットステーション FC-3100は、300mmのバッチ洗浄と減圧IPA乾燥に使う人向けです。ウェットステーション FC-3100は、減圧乾燥システムHiLPDで、キャリアN2を使わずに高濃度IPAを送って乾かすウェットステーションです。
Q.ウェットステーション FC-3100の強みは?
ウェットステーション FC-3100は、毎時1,000枚を処理でき、ウォータマークを大きく抑えます。本体は7つの独立モジュールを組み合わせた作りです。
Q.ウェットステーション FC-3100はどんな方式?
ウェットステーション FC-3100の方式はバッチ式(ウェットステーション)です。キャリアに並べたウェーハを、薬液と純水の槽に順に浸けて洗います。
Q.ウェットステーション FC-3100の主な仕様は?
ウェットステーション FC-3100の対応ウェーハ径は300mm、方式はウェットステーションです。処理能力は毎時1,000枚、乾燥は減圧乾燥(HiLPD)、高濃度IPAです。
Q.ウェットステーション FC-3100とバッチ洗浄装置 EXPEDIUS-iはどっちがいい?
300mmのバッチ洗浄と減圧IPA乾燥ならウェットステーション FC-3100、300mmのバッチ洗浄とSiN選択エッチングなら東京エレクトロンのバッチ洗浄装置 EXPEDIUS-iです。ウェットステーション FC-3100の対応ウェーハ径は300mm、方式はウェットステーションです。東京エレクトロンのバッチ洗浄装置 EXPEDIUS-iの対応ウェーハ径は300mm、方式はバッチ式です。
Q.ウェットステーション FC-3100の装置の構成は?
ウェットステーション FC-3100の装置の構成は7つの独立モジュールです。東京エレクトロンのバッチ洗浄装置 EXPEDIUS-iの装置の構成は1回に最大50枚、複数の処理槽です。
Q.ウェットステーション FC-3100とウェーハ自動洗浄装置 SCC-250はどっちがいい?
300mmのバッチ洗浄と減圧IPA乾燥ならウェットステーション FC-3100、ラインに合わせたバッチ洗浄ならPHTのウェーハ自動洗浄装置 SCC-250です。ウェットステーション FC-3100の対応ウェーハ径は300mm、方式はウェットステーションです。PHTのウェーハ自動洗浄装置 SCC-250の対応ウェーハ径は直径200mm・300mm、方式はバッチ式です。
Q.ウェットステーション FC-3100のほかにSCREENセミコンダクターソリューションズの半導体洗浄装置はある?
あります。SCREENセミコンダクターソリューションズの半導体洗浄装置には、ウェットステーション FC-3100のほかに枚葉式洗浄装置 SU-3400(対応ウェーハ径は300mm)があります。
Q.ウェットステーション FC-3100はどこのメーカー?
ウェットステーション FC-3100は株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズの製品です。SCREENグループで半導体製造装置を手がける会社で、1983年に枚葉式洗浄装置を開発しています。
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