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CVD装置MOCVD（有機金属CVD）

MOCVD装置 UR26K

日本酸素株式会社

8インチを6枚同時に成膜する量産向けのGaN用MOCVD装置です。

価格
公開価格なし（見積もり）
方式
MOCVD（有機金属CVD）
向いている所
マイクロLEDとGaNパワーの量産
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比較表での位置

MOCVD装置 UR26Kは、CVD装置のメーカー7社比較⁠の方式がMOCVD（有機金属CVD）の3製品の1つとして載っています。

  • 7社掲載社数
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  • 3製品同じ方式
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MOCVD装置 UR26K​の強みと方式

8インチウェハを6枚まとめて成膜する、量産向けのGaN用MOCVD装置です。マイクロLEDやパワー制御向けトランジスタのウェハ製造を見込んで作られています。大きな工場で回すためのカセット搬送と炉内部品の洗浄システムが付いています。

向いている所マイクロLEDとGaNパワーの量産

方式：MOCVD（有機金属CVD）

有機金属のガスを原料に、GaNやAlGaNなどの化合物半導体の膜を積む方式です。LED・レーザー・GaNパワーデバイスのウェーハを作ります。研究用の小型から量産用の多数枚まであります。

MOCVD装置 UR26K​の仕様

方式
MOCVD（有機金属CVD）
方式
量産向けMOCVD
基板サイズ
8インチ
処理枚数
8インチ6枚
膜の種類
GaN
温度
—公式資料で確認できず
価格
—公式資料で確認できず
プラズマの周波数
—公式資料で確認できず
成膜の速さ
—公式資料で確認できず
特長
カセット搬送と炉内部品の洗浄システム付き

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

MOCVD装置 UR26K日本酸素株式会社MOCVD装置 EPIREVO G8株式会社ニューフレアテクノロジープラズマCVD装置 CC-200株式会社アルバック
方式MOCVD（有機金属CVD）MOCVD（有機金属CVD）プラズマCVD
方式量産向けMOCVD枚葉式MOCVDPE-CVD
基板サイズ8インチ200mm（Si基板）トレー搬送で多様な基板サイズ
処理枚数8インチ6枚枚葉—公式資料で確認できず
膜の種類GaNGaNSiO2、SiNx、SiON、a-⁠Si
温度—公式資料で確認できず1100℃でスリップフリー—公式資料で確認できず
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
プラズマの周波数—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず27.12MHz
成膜の速さ—公式資料で確認できず9µm/h以上—公式資料で確認できず
特長カセット搬送と炉内部品の洗浄システム付きTMGの利用効率20%以上CF4＋O2プラズマでチャンバーを洗える

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MOCVD装置 UR26K​のよくある質問

Q.MOCVD装置 UR26Kはどんな人に向いている？
MOCVD装置 UR26Kは、マイクロLEDとGaNパワーの量産に使う人向けです。MOCVD装置 UR26Kは、8インチウェハを6枚まとめて成膜する、量産向けのGaN用MOCVD装置です。
Q.MOCVD装置 UR26Kの強みは？
MOCVD装置 UR26Kは、マイクロLEDやパワー制御向けトランジスタのウェハ製造を見込んで作られています。大きな工場で回すためのカセット搬送と炉内部品の洗浄システムが付いています。
Q.MOCVD装置 UR26Kはどんな方式？
MOCVD装置 UR26Kの方式はMOCVD（有機金属CVD）⁠で⁠す⁠。有機金属のガスを原料に、GaNやAlGaNなどの化合物半導体の膜を積む方式です。
Q.MOCVD装置 UR26Kの主な仕様は？
MOCVD装置 UR26Kの方式は量産向けMOCVD、基板サイズは8インチです。処理枚数は8インチ6枚、膜の種類はGaNです。
Q.MOCVD装置 UR26KとMOCVD装置 EPIREVO G8はどっちがいい？
マイクロLEDとGaNパワーの量産ならMOCVD装置 UR26K、200mmのSi基板にGaNを積むならニューフレアテクノロジーのMOCVD装置 EPIREVO G8です。MOCVD装置 UR26Kの方式は量産向けMOCVD、基板サイズは8インチです。ニューフレアテクノロジーのMOCVD装置 EPIREVO G8の方式は枚葉式MOCVD、基板サイズは200mm（Si基板）⁠で⁠⁠⁠⁠す⁠。
Q.MOCVD装置 UR26Kの特長は？
MOCVD装置 UR26Kの特長はカセット搬送と炉内部品の洗浄システム付きです。ニューフレアテクノロジーのMOCVD装置 EPIREVO G8の特長はTMGの利用効率20%以上です。
Q.MOCVD装置 UR26KとプラズマCVD装置 CC-200はどっちがいい？
マイクロLEDとGaNパワーの量産ならMOCVD装置 UR26K、研究開発から少量生産までの絶縁膜ならアルバックのプラズマCVD装置 CC-200です。MOCVD装置 UR26Kの方式は量産向けMOCVD、基板サイズは8インチです。アルバックのプラズマCVD装置 CC-200の方式はPE-CVD、基板サイズはトレー搬送で多様な基板サイズです。
Q.MOCVD装置 UR26Kのほかに日本酸素のCVD装置はある？
あります。日本酸素のCVD装置には、MOCVD装置 UR26KのほかにMOCVD装置 SR4000（方式は研究開発向けの小型MOCVD）があります。
Q.MOCVD装置 UR26Kはどこのメーカー？
MOCVD装置 UR26Kは日本酸素株式会社の製品です。日本酸素の主な製品分野は高圧ガス・アルゴンガス・三塩化ホウ素・塩素です。

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    純度・濃度99.9999wt%以上

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    出典
    1. 日本酸素株式会社 公式
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