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半導体のドライエッチングや有機合成で三塩化ホウ素(BCl3)を選ぶ、製造・設備・研究・購買の担当の方へ

三塩化ホウ素のメーカー5社比較【2026年】

三塩化ホウ素は、半導体の金属配線のエッチングや
有機合成に使う、ホウ素と塩素の化合物です。

ABOUT

三塩化ホウ素とは

比較表を見る ↓

三塩化ホウ素とは、ホウ素と塩素からなる化合物で、化学式はBCl3です。
沸点は12.5℃で、ボンベでは液化ガスとして届きます。
三塩化ほう素とも書きます。

製品の特長

  • 沸点は12.5℃液化ガスでボンベに入る
  • 半導体の金属配線のエッチングに使う
  • 試薬はジクロロメタン溶液で買える

使うメリット

  • メタルのエッチングに向いている
  • 容器は3.4Lから47Lまである
  • 溶液の試薬ならボンベの設備なしで使える

選ぶときに注意すること

  1. 毒物受け入れと保管の決まりを先に確かめる
  2. 吸入の毒性は区分3局所排気・全体換気を行う
  3. 皮膚腐食性は区分1A-1C保護具を着ける
  4. 施錠して保管する
  5. 純度の書き方は会社ごとに違う5Nとwt%をそろえて比べる

※物性と用途はレゾナック、危険有害性は高千穂化学工業のSDS、溶液は富士フイルム和光純薬の公式資料によります。

LIST

三塩化ホウ素の比較表

三塩化ホウ素5製品の比較
製品・メーカーコスト製品の強み仕様公式ページ

高純度ガス(ボンベ)

4製品
高千穂化学工業株式会社三塩化ホウ素 R研究用のグレードRを探している現場口コミを書く要見積

半導体製造用ガスの一覧にResearchグレードとして載り、純度は99.999%です。容器バルブは22mmとPF1/4の記載があります。公式の資料に新しい日付が無いので、販売中かどうかは問い合わせで確かめます。

形態
高純度ガス(ボンベ)
形態
低圧液化ガス
純度・濃度
99.999%
容器弁
22mm、PF1/4
法規制
医薬用外毒物
用途
化学物質の製造原料用等
販売の状況
販売中か未確認
記載なし
容器・充填量・容量・製造場所
公式ページへ詳細・仕様カタログ(PDF)
日本酸素株式会社三塩化ホウ素 BCl3小さい容器から試したい半導体の工程口コミを書く要見積

公式に出ている純度が99.9999wt%以上と、この表で一番細かい桁まで書かれています。容器は47L・10Lに加えて3.4Lがあり、少ない量から使えます。分類はCVDとドライエッチングの両方に入っています。

形態
高純度ガス(ボンベ)
純度・濃度
99.9999wt%⁠⁠⁠以上
容器
47L、10L、3.4L
用途
CVD、ドライエッチング
記載なし
形態・充填量・容量・容器弁・製造場所・法規制・販売の状況
公式ページへ詳細・仕様
UBE株式会社三塩化ホウ素アルミ配線のドライエッチング口コミを書く要見積

日本で初めて三塩化ホウ素を国産化した会社の製品で、アルミニウム配線のドライエッチング用です。公式ページに純度と容器の数字は出ていません。仕様は機能品事業部に問い合わせて確かめます。

形態
高純度ガス(ボンベ)
純度・濃度
高純度品(数値の記載なし)
用途
アルミニウム配線のドライエッチング
記載なし
形態・容器・充填量・容量・容器弁・製造場所・法規制・販売の状況
公式ページへ詳細・仕様
株式会社レゾナック高純度三塩化ホウ素(BCl3)メタルのエッチングに量を使うライン口コミを書く要見積

容器ごとの充填量と弁の規格まで公式資料に載っていて、受け入れ設備を先に決められます。10L容器は10kg、47L容器は50kgで、弁はW26mmです。最先端ロジック半導体のゲートエッチングにも使われています。

形態
高純度ガス(ボンベ)
形態
液化ガス
純度・濃度
5N
容器
10L、47L
充填量・容量
10kg、50kg
容器弁
W26mm 14山 右ネジ
製造場所
川崎
法規制
毒物
用途
エッチング
記載なし
販売の状況
公式ページへ詳細・仕様カタログ(PDF)

溶液の試薬(ジクロロメタン溶液)

1製品
富士フイルム和光純薬株式会社1.0mol/L三塩化ほう素ジクロロメタン溶液 029-13941ボンベを置かない少量の有機合成口コミを書く17,400円税抜

ガスをボンベで受けず、ジクロロメタンに溶かした状態で100mLから買えます。濃度は0.9〜1.1mol/Lで、希望納入価格は17,400円(税抜)⁠で⁠す⁠。製造元は富士フイルム和光純薬で、冷所で保存します。

形態
溶液の試薬(ジクロロメタン溶液)
形態
ジクロロメタン溶液
純度・濃度
0.9〜1.1mol/L
充填量・容量
100mL
法規制
毒-II、特化則第2類
用途
有機合成用
記載なし
容器・容器弁・製造場所・販売の状況
公式ページへ詳細・仕様

高純度ガス(ボンベ)4製品

高千穂化学工業株式会社

三塩化ホウ素 R

研究用のグレードRを探している現場

半導体製造用ガスの一覧にResearchグレードとして載り、純度は99.999%です。容器バルブは22mmとPF1/4の記載があります。公式の資料に新しい日付が無いので、販売中かどうかは問い合わせで確かめます。

コスト要見積

形態
高純度ガス(ボンベ)
形態
低圧液化ガス
純度・濃度
99.999%
容器弁
22mm、PF1/4
法規制
医薬用外毒物
用途
化学物質の製造原料用等
販売の状況
販売中か未確認
記載なし
容器・充填量・容量・製造場所
公式ページへ
日本酸素株式会社

三塩化ホウ素 BCl3

小さい容器から試したい半導体の工程

公式に出ている純度が99.9999wt%以上と、この表で一番細かい桁まで書かれています。容器は47L・10Lに加えて3.4Lがあり、少ない量から使えます。分類はCVDとドライエッチングの両方に入っています。

コスト要見積

形態
高純度ガス(ボンベ)
純度・濃度
99.9999wt%⁠⁠⁠以上
容器
47L、10L、3.4L
用途
CVD、ドライエッチング
記載なし
形態・充填量・容量・容器弁・製造場所・法規制・販売の状況
公式ページへ
UBE株式会社

三塩化ホウ素

アルミ配線のドライエッチング

日本で初めて三塩化ホウ素を国産化した会社の製品で、アルミニウム配線のドライエッチング用です。公式ページに純度と容器の数字は出ていません。仕様は機能品事業部に問い合わせて確かめます。

コスト要見積

形態
高純度ガス(ボンベ)
純度・濃度
高純度品(数値の記載なし)
用途
アルミニウム配線のドライエッチング
記載なし
形態・容器・充填量・容量・容器弁・製造場所・法規制・販売の状況
公式ページへ
株式会社レゾナック

高純度三塩化ホウ素(BCl3)

メタルのエッチングに量を使うライン

容器ごとの充填量と弁の規格まで公式資料に載っていて、受け入れ設備を先に決められます。10L容器は10kg、47L容器は50kgで、弁はW26mmです。最先端ロジック半導体のゲートエッチングにも使われています。

コスト要見積

形態
高純度ガス(ボンベ)
形態
液化ガス
純度・濃度
5N
容器
10L、47L
充填量・容量
10kg、50kg
容器弁
W26mm 14山 右ネジ
製造場所
川崎
法規制
毒物
用途
エッチング
記載なし
販売の状況
公式ページへ

溶液の試薬(ジクロロメタン溶液)1製品

富士フイルム和光純薬株式会社

1.0mol/L三塩化ほう素ジクロロメタン溶液 029-13941

ボンベを置かない少量の有機合成

ガスをボンベで受けず、ジクロロメタンに溶かした状態で100mLから買えます。濃度は0.9〜1.1mol/Lで、希望納入価格は17,400円(税抜)⁠で⁠す⁠。製造元は富士フイルム和光純薬で、冷所で保存します。

コスト17,400円税抜

形態
溶液の試薬(ジクロロメタン溶液)
形態
ジクロロメタン溶液
純度・濃度
0.9〜1.1mol/L
充填量・容量
100mL
法規制
毒-II、特化則第2類
用途
有機合成用
記載なし
容器・容器弁・製造場所・販売の状況
公式ページへ
Q&A

三塩化ホウ素選びで、よくある疑問

購買担当の疑問三塩化ホウ素の価格はいくら?

公式に値段が出ているのは、富士フイルム和光純薬の溶液029-13941の100mLで17,400円(税抜)⁠で⁠す⁠。高純度ガスは公式に値段が出ていないので、レゾナックや日本酸素に容器と量を伝えて見積もりをとります。

設備担当の疑問三塩化ホウ素の高純度ガスと溶液の試薬の違いは?

高純度ガスはボンベで受けて、エッチング装置やCVD装置に流します。溶液の試薬はジクロロメタンに溶かしたもので、用途は有機合成です。製造ラインならガス、研究室の少量の合成なら溶液です。

設備担当の疑問純度はどれくらい?

日本酸素の三塩化ホウ素 BCl3は99.9999wt%以上、レゾナックの高純度BCl3は5N、高千穂化学工業のRは99.999%です。UBEは高純度品と書いていますが、数字は公式ページに出ていません。

購買担当の疑問ボンベの大きさと充填量は?

レゾナックは10L容器に10kg、47L容器に50kgです。日本酸素の容器は47L・10L・3.4Lの3つで、充填量は公式ページに出ていません。

設備担当の疑問容器弁の規格は?

レゾナックの弁はW26mm 14山 右ネジです。高千穂化学工業の一覧には22mmとPF1/4の記載があります。同じガスでも会社ごとに弁が違うので、配管側の規格と先に合わせます。

施設管理の疑問沸点が低いガスは、どう扱う?

沸点は12.5℃で、20℃の蒸気圧は132kPaです。液化ガスとして容器に入っているので、充填量をkgで見ます。容器を加熱すると爆発のおそれがあるので、日光を避けて換気の良い場所にしまっておきます。

工場長の疑問法規制と危険性は?

レゾナックは毒物、高千穂化学工業は医薬用外毒物と書いています。SDSでは吸入の急性毒性が区分3、皮膚腐食性が区分1A-1Cです。施錠して保管し、局所排気か全体換気を行います。

設備担当の疑問三塩化ホウ素はどの工程で使う?

レゾナックはコンダクタのエッチング工程に使うガスと書いていて、メタルのエッチングに向いています。UBEはアルミニウム配線のドライエッチング用、日本酸素はCVDとドライエッチングの分類に入れています。

設備担当の疑問溶液の試薬はどうしまっておく?

富士フイルム和光純薬の溶液は不活性ガスを封入していて、保存は冷所(25℃以下)⁠で⁠す⁠。水とアセトンで分解するので、湿気を入れないようにします。

施設管理の疑問漏れたときや火災のときは?

高千穂化学工業のSDSは、棒状放水を使わないと書いています。危険でなければ火災区域から容器を移し、消火後は大量の水で容器を冷やします。詳しくは使う製品のSDSで確かめます。

TYPES

三塩化ホウ素の形態の違い

高純度ガス(ボンベ)

液化した三塩化ホウ素をボンベで受けて、エッチング装置やCVD装置へ流します。純度は5Nから99.9999wt%以上まで公式に出ています。毒物なので、受け入れの設備と保管のしかたを先に決めます。

向いている使い方

  • 半導体・液晶のドライエッチング
  • 金属配線の加工
  • CVDの材料

根拠:半導体製造におけるコンダクタのエッチング工程で使用されるガスです。(出典1)

この形態の4製品を表で見る

溶液の試薬(ジクロロメタン溶液)

三塩化ホウ素をジクロロメタンに溶かした試薬で、ボンベを使わずに量りとれます。濃度は1.0mol/Lで、100mLから買えます。水とアセトンで分解するので、乾いた状態で扱います。

向いている使い方

  • 有機合成の研究室
  • 少量だけ試す
  • ボンベの設備が無い

根拠:概要 有機合成用試薬 用途 有機合成用。(出典6)

この形態の1製品を表で見る
MAKERS

三塩化ホウ素の主なメーカー5社

高千穂化学工業株式会社

半導体製造用ガスの一覧にResearchグレードとして載り、純度は99.999%です。

東京都

日本酸素株式会社

公式に出ている純度が99.9999wt%以上と、この表で一番細かい桁まで書かれています。

東京都

富士フイルム和光純薬株式会社

ガスをボンベで受けず、ジクロロメタンに溶かした状態で100mLから買えます。

大阪府

UBE株式会社

日本で初めて三塩化ホウ素を国産化した会社の製品で、アルミニウム配線のドライエッチング用です。

東京都

株式会社レゾナック

容器ごとの充填量と弁の規格まで公式資料に載っていて、受け入れ設備を先に決められます。

東京都

出典
  1. レゾナック 高純度三塩化ホウ素(BCl3)
  2. レゾナック 電子材料用高純度ガス事業紹介
  3. UBE 半導体ガス関連製品
  4. 日本酸素 三塩化ホウ素
  5. 高千穂化学工業 半導体製造用ガス
  6. 富士フイルム和光純薬 三塩化ほう素ジクロロメタン溶液
  7. 高千穂化学工業 三塩化ホウ素SDS
掲載基準

半導体製造のドライエッチング・CVDに使う三塩化ホウ素ガスと、研究用の三塩化ホウ素溶液(CAS 10294-34-5)で、日本法人が自社の製品として公式サイトで案内していて、仕様を公式で確かめられた品を載せています。原料から全工程を自社で一貫製造するという意味ではありません。品番が無いガスは、公式の商品名で載せています。東京化成工業とメルクの試薬は公式サイトが取得を拒み仕様を確かめられず、日本エア・リキードは特殊ガスのページを読めず、今回は載せていません。住友精化は公式のガススペック表に三塩化ホウ素が見当たらないので載せていません。高千穂化学工業は公式の一覧に載っていますが、資料の日付が古く販売中か未確認です。三フッ化ホウ素など他のホウ素ガス、塩素などの他の塩化物ガス、商社が売る他社の製品は除いています。

三塩化ホウ素を作っているメーカーの方へ:掲載・訂正のご依頼(掲載は無料です)

CITE

引用

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