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半導体・液晶・太陽電池の成膜用シランを調達する、プロセス開発・製造・設備・購買の方へ

シランのメーカー4社比較【2026年】

シランは、半導体などの製造工程で、
シリコンを含む薄膜の原料に使うガスです。

ABOUT

シランとは

比較表を見る ↓

シランとは、ケイ素と水素の化合物で、
半導体・液晶・太陽電池などの薄膜を作る原料ガスです。
モノシラン(別名:水素化ケイ素)とジシランをガス種ごとに比較します。
混合ガスは、希釈ガスと濃度まで指定します。

製品の特長

  • ガス種を選び分けるモノシランとジシラン
  • 純度の条件まで比べる含有量・除外成分・不純物
  • 容器と中身の量を分ける内容積と充填質量

使うメリット

  • 膜の用途に合う原料を探せるシリコン膜・シリコン酸化膜
  • 低温成膜用のガスを比べられるジシランの用途を確認
  • 発注条件をそろえやすい組成・不純物・容器を照合

選ぶときに注意すること

  1. モノシランとジシランは、純度が同じでも置き換えない
  2. 水素を除く純度と、混合ガスの濃度を混同しない
  3. 三井化学のGPS記載値は、現在の品質保証規格ではない
  4. 充填圧力・容器弁・不純物規格は、発注前に確認する
  5. 自然発火性があるため、最新SDSと設備の取扱手順を確認する

※用途と仕様はメーカー公式資料によります。三井化学の含有量は2014年作成のGPS資料、SKの数値は親会社の日本語製品資料です。SKの水分欄は重複表間に不一致があるため転載していません。確認日は2026年10月28日です。

LIST

シランの比較表

コストは、値段を公開している製品どうしで比べています。値段を出していない製品は「要見積」。

CSV

シラン7製品の比較
製品・メーカーコスト製品の強み仕様公式ページ

モノシラン(SiH₄)

4製品
SK specialty Japan株式会社モノシラン 99.9999%・47L・10kg半導体・ディスプレイの成膜口コミを書く要見積

水素を除いて純度99.9999%とするモノシランです。47L容器の10kg充填仕様を掲載し、半導体・ディスプレイ・太陽電池の膜形成に使います。

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
99.9999%(H₂を除く)
主な不純物
O₂+Ar 1.0ppmv、N₂ 1.0ppmv
容器内容積
47L
充填質量
10kg
用途
半導体・ディスプレイ⁠・太陽電池の膜形成
数値の資料・⁠⁠⁠条件
親会社の日本語製品仕様
記載なし
充填圧力・容器弁
公式ページへ詳細・⁠⁠⁠仕様
高千穂化学工業株式会社モノシラン R(Research)純度を指定する半導体材料口コミを書く要見積

Researchグレードで純度99.999%を示すモノシランです。容器弁と圧力調整器の組み合わせも公式ページで確認できます。

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
99.999%
容器弁
22mm左
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・用途・数値の資料・⁠⁠⁠条件
公式ページへ詳細・⁠⁠⁠仕様
日本酸素株式会社モノシラン >99.9995%・47Lシリコン膜・酸化膜の成膜口コミを書く要見積

純度>99.9995%のモノシランです。代表仕様は47L容器で、半導体と太陽電池のCVD工程向けに案内しています。

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
>99.9995%
容器内容積
47L
用途
半導体CVD、太陽電池CVD
記載なし
主な不純物・充填圧力・充填質量・容器弁・数値の資料・⁠⁠⁠条件
公式ページへ詳細・⁠⁠⁠仕様
三井化学株式会社モノシラン 99.999%以上(GPS記載)半導体・液晶のCVD成膜口コミを書く要見積

シリコン膜とシリコン酸化膜の形成に使うCVDガスです。半導体・液晶・太陽電池向けに案内し、含有量はGPS資料の記載値を掲載しています。

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
含有量99.999%以上(GPS資料)
用途
シリコン膜・シリコン酸化膜のCVD
数値の資料・⁠⁠⁠条件
2014年作成GPSの含有量、品質保証値ではない
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・容器弁
公式ページへ詳細・⁠⁠⁠仕様カタログ(PDF)

ジシラン(Si₂H₆)

3製品
高千穂化学工業株式会社ジシラン R(Research)純度を指定する半導体材料口コミを書く要見積

Researchグレードで純度99.99%を示すジシランです。容器弁と圧力調整器の組み合わせも公式ページで確認できます。

ガス種
ジシラン(Si₂H₆)
ガス組成
Si₂H₆
純度・含有量
99.99%
容器弁
22mm左
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・用途・数値の資料・⁠⁠⁠条件
公式ページへ詳細・⁠⁠⁠仕様
日本酸素株式会社ジシラン >99.99%・47Lジシランを指定したCVD工程口コミを書く要見積

純度>99.99%のジシランです。47Lと10Lの容器を案内しており、ここでは47Lを比べます。

ガス種
ジシラン(Si₂H₆)
ガス組成
Si₂H₆
純度・含有量
>99.99%
容器内容積
47L
用途
半導体CVD
記載なし
主な不純物・充填圧力・充填質量・容器弁・数値の資料・⁠⁠⁠条件
公式ページへ詳細・⁠⁠⁠仕様
三井化学株式会社ジシラン 99.99%以上(GPS記載)低温・高速のシリコン成膜口コミを書く要見積

低温・高速でシリコン膜を形成する工程用のCVDガスです。含有量はGPS資料の記載値で、現在の発注規格はメーカーに確認します。

ガス種
ジシラン(Si₂H₆)
ガス組成
Si₂H₆
純度・含有量
含有量99.99%以上(GPS資料)
用途
低温・高速成膜用CVD
数値の資料・⁠⁠⁠条件
2014年作成GPSの含有量、品質保証値ではない
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・容器弁
公式ページへ詳細・⁠⁠⁠仕様カタログ(PDF)

モノシラン(SiH₄)4製品

SK specialty Japan株式会社

モノシラン 99.9999%・47L・10kg

半導体・ディスプレイの成膜

水素を除いて純度99.9999%とするモノシランです。47L容器の10kg充填仕様を掲載し、半導体・ディスプレイ・太陽電池の膜形成に使います。

コスト要見積

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
99.9999%(H₂を除く)
主な不純物
O₂+Ar 1.0ppmv、N₂ 1.0ppmv
容器内容積
47L
充填質量
10kg
用途
半導体・ディスプレイ⁠・太陽電池の膜形成
数値の資料・⁠⁠⁠条件
親会社の日本語製品仕様
記載なし
充填圧力・容器弁
公式ページへ
高千穂化学工業株式会社

モノシラン R(Research)

純度を指定する半導体材料

Researchグレードで純度99.999%を示すモノシランです。容器弁と圧力調整器の組み合わせも公式ページで確認できます。

コスト要見積

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
99.999%
容器弁
22mm左
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・用途・数値の資料・⁠⁠⁠条件
公式ページへ
日本酸素株式会社

モノシラン >99.9995%・47L

シリコン膜・酸化膜の成膜

純度>99.9995%のモノシランです。代表仕様は47L容器で、半導体と太陽電池のCVD工程向けに案内しています。

コスト要見積

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
>99.9995%
容器内容積
47L
用途
半導体CVD、太陽電池CVD
記載なし
主な不純物・充填圧力・充填質量・容器弁・数値の資料・⁠⁠⁠条件
公式ページへ
三井化学株式会社

モノシラン 99.999%以上(GPS記載)

半導体・液晶のCVD成膜

シリコン膜とシリコン酸化膜の形成に使うCVDガスです。半導体・液晶・太陽電池向けに案内し、含有量はGPS資料の記載値を掲載しています。

コスト要見積

ガス種
モノシラン(SiH₄)
ガス組成
SiH₄
純度・含有量
含有量99.999%以上(GPS資料)
用途
シリコン膜・シリコン酸化膜のCVD
数値の資料・⁠⁠⁠条件
2014年作成GPSの含有量、品質保証値ではない
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・容器弁
公式ページへ

ジシラン(Si₂H₆)3製品

高千穂化学工業株式会社

ジシラン R(Research)

純度を指定する半導体材料

Researchグレードで純度99.99%を示すジシランです。容器弁と圧力調整器の組み合わせも公式ページで確認できます。

コスト要見積

ガス種
ジシラン(Si₂H₆)
ガス組成
Si₂H₆
純度・含有量
99.99%
容器弁
22mm左
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・用途・数値の資料・⁠⁠⁠条件
公式ページへ
三井化学株式会社

ジシラン 99.99%以上(GPS記載)

低温・高速のシリコン成膜

低温・高速でシリコン膜を形成する工程用のCVDガスです。含有量はGPS資料の記載値で、現在の発注規格はメーカーに確認します。

コスト要見積

ガス種
ジシラン(Si₂H₆)
ガス組成
Si₂H₆
純度・含有量
含有量99.99%以上(GPS資料)
用途
低温・高速成膜用CVD
数値の資料・⁠⁠⁠条件
2014年作成GPSの含有量、品質保証値ではない
記載なし
主な不純物・充填圧力・容器内容積・充填質量・容器弁
公式ページへ
Q&A

シラン選びで、よくある疑問

購買担当の疑問シランガスの価格は、どう見積もる?

掲載仕様の価格は、確認した公式資料に記載がありません。日本酸素の47L仕様など、同じガス種・純度・容器条件で見積もりを取り、ガス代・容器貸与・配送条件を分けて確認します。

設備担当の疑問モノシランとジシランの化学式・用途の違いは?

モノシランはSiH₄、ジシランはSi₂H₆で、ガス種が異なります。三井化学はモノシランをシリコン膜・酸化膜の形成用、ジシランを低温・高速のシリコン成膜用として案内しています。

工場長の疑問シランは半導体の何に使う?

薄膜を作るCVD工程の原料として使います。三井化学のモノシランは半導体・液晶・太陽電池向けで、シリコン膜とシリコン酸化膜を形成します。

購買担当の疑問純度99.9999%なら、そのまま比較できる?

純度に含める成分の条件をそろえます。SK specialtyのモノシランは99.9999%ですが、水素を除いた表記なので、日本酸素の>99.9995%と数字だけで優劣を決めません。

設備担当の疑問純度と不純物は、両方確認する?

工程が管理する不純物を個別に確認します。SKのモノシランはO₂+Arが1.0ppmv、N₂が1.0ppmvの仕様表記がありますが、水分欄は重複表で異なるため、この比較では数値を載せていません。

施設管理の疑問47L容器なら、ガスの量も同じ?

内容積と充填質量は別の値です。SKのモノシランは47L容器に10kgまたは12kgの仕様があり、この比較では10kg仕様を載せています。

購買担当の疑問混合ガスの濃度は、どこまで選べる?

日本酸素のモノシランは製造可能濃度1ppm〜50%、ジシランは10ppm〜30%です。これは固定製品の組成ではないため、必要濃度・希釈ガス・容器条件を伝えて仕様を確定します。

設備担当の疑問シランの充填圧力は、どの値を見る?

製品の充填圧力と温度条件を確認します。日本酸素のモノシラン47L仕様は公開ページに充填圧力がなく、ガスの蒸気圧や容器の耐圧を充填圧力として使えません。

工場長の疑問R(Research)とGPS記載値は、同じグレード?

Rは高千穂化学工業のグレード表示で、モノシランは99.999%、ジシランは99.99%です。三井化学のGPSは安全性要約書で、記載の含有量は現在の品質保証規格ではありません。

施設管理の疑問シランの毒性と自然発火の危険性は?

三井化学のモノシランの案内には自然発火性があり、空気に触れるだけで発火すると記載されています。同社のGPS安全性要約書には、吸入すると有害と記載されています。購入する仕様の最新SDSを入手し、設備と容器交換の手順を供給元・保安担当と確認します。

総務の疑問シランカップリング剤や水溶液も同じもの?

この比較はSiH₄・Si₂H₆を主成分とする成膜原料ガスです。シランカップリング剤、クロロシラン、有機シラン、水溶液は対象から分け、名称だけで注文しないようにします。

TYPES

シランのガス種の違い

ボタンを押すと、表がそのガス種の製品だけになります。

モノシラン(SiH₄)

シリコン膜やシリコン酸化膜を形成するCVD用のガスです。半導体・液晶・太陽電池などで使われ、純度の計算から水素を除く製品はその条件も確認します。

向いている工程

  • 半導体のシリコン膜形成
  • 液晶・太陽電池の成膜
  • 装置がモノシランを指定する工程

根拠:三井化学はシリコン膜・シリコン酸化膜形成用CVDガスとして案内しています。(出典6)

このガス種の4製品を表で見る

ジシラン(Si₂H₆)

低温・高速でシリコン膜を形成する工程向けのガスです。モノシランと名前が似ていますが、同じ純度でも別の原料として工程条件を確認します。

向いている工程

  • 低温のシリコン成膜
  • 高速成膜のプロセス開発
  • 装置がジシランを指定する工程

根拠:三井化学は低温・高速成膜プロセス用シリコン膜形成用CVDガスとして案内しています。(出典7)

このガス種の3製品を表で見る
MAKERS

シランの主なメーカー4社

シランの主なメーカーは、次の4社です。社名を押すと、その会社のページ(ほかの製品と所在地)に移ります。

SK specialty Japan株式会社

水素を除いて純度99.9999%とするモノシランです。

三重県

高千穂化学工業株式会社

Researchグレードで純度99.999%を示すモノシランです。

東京都

三井化学株式会社

シリコン膜とシリコン酸化膜の形成に使うCVDガスです。

東京都

この比較表のデータ:CSV・JSON(出典を明記すれば引用できます)

掲載基準と並び順

掲載基準:半導体・液晶・太陽電池などの成膜工程で使うモノシラン(SiH₄)・ジシラン(Si₂H₆)と⁠、それらを含む混合ガスを調査対象にしています。日本法人のある会社が、自社または自社グループで製造・精製・混合する製品に限り、輸入販売元・総代理店として扱う他社ブランドは除きます。組成と純度・含有量または固定した混合濃度を公式の文字資料で特定できる仕様を、1社2製品まで掲載。型式がないガスは公式のグレードまたは資料上の含有量で識別し、容器が複数ある場合は代表容量を選びました。充填圧力や不純物の上限は他社品や物性値から補いません。三井化学の含有量は2014年作成のGPS資料の値で、現在の品質保証規格ではありません。混合ガスは製造可能濃度だけで固定の組成・希釈ガス・容器条件を特定できなかったため製品行を設けていません。一般の溶接・熱処理・分析用ガスは高圧ガスの比較へ分け、こちらはシリコン成膜用の材料ガスに限定します。クロロシラン・アルコキシシラン・有機シラン・シランカップリング剤・薬品の水溶液、家庭用・中古・販売終了品、ガス容器単体・配管機器・部品・消耗品単体は除外します。確認できた仕様は4社で、社数を増やすために仕様不明の品を加えていません。並びはガス種ごとに会社名の五十音順です。

並び順:ガス種ごとに分け、その中はメーカー名の五十音順です。おすすめ順ではなく、掲載料で順番は変えません。

シランを作っているメーカーの方へ:掲載・訂正のご依頼(掲載は無料です)

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