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CVD装置MOCVD（有機金属CVD）

MOCVD装置 SR4000

日本酸素株式会社

AlGaN膜を研究開発で成膜する小型のMOCVD装置です。

価格
公開価格なし（見積もり）
方式
MOCVD（有機金属CVD）
向いている所
AlGaNデバイスと紫外LEDの研究開発
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比較表での位置

MOCVD装置 SR4000は、CVD装置のメーカー7社比較⁠の方式がMOCVD（有機金属CVD）の3製品の1つとして載っています。

  • 7社掲載社数
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  • 3製品同じ方式
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MOCVD装置 SR4000​の強みと方式

研究開発向けの小型MOCVD装置で、制御温度で1350℃まで上げられます。4インチなら1枚、2インチなら3枚を成膜します。パワー制御向けのAlGaNデバイスや紫外LEDの開発に使われています。

向いている所AlGaNデバイスと紫外LEDの研究開発

方式：MOCVD（有機金属CVD）

有機金属のガスを原料に、GaNやAlGaNなどの化合物半導体の膜を積む方式です。LED・レーザー・GaNパワーデバイスのウェーハを作ります。研究用の小型から量産用の多数枚まであります。

MOCVD装置 SR4000​の仕様

方式
MOCVD（有機金属CVD）
方式
研究開発向けの小型MOCVD
基板サイズ
4インチ、2インチ
処理枚数
4インチ1枚、2インチ3枚
膜の種類
AlGaN
温度
制御温度で1350℃まで
価格
—公式資料で確認できず
プラズマの周波数
—公式資料で確認できず
成膜の速さ
—公式資料で確認できず
特長
—公式資料で確認できず

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

MOCVD装置 SR4000日本酸素株式会社MOCVD装置 EPIREVO G8株式会社ニューフレアテクノロジープラズマCVD装置 CC-200株式会社アルバック
方式MOCVD（有機金属CVD）MOCVD（有機金属CVD）プラズマCVD
方式研究開発向けの小型MOCVD枚葉式MOCVDPE-CVD
基板サイズ4インチ、2インチ200mm（Si基板）トレー搬送で多様な基板サイズ
処理枚数4インチ1枚、2インチ3枚枚葉—公式資料で確認できず
膜の種類AlGaNGaNSiO2、SiNx、SiON、a-⁠Si
温度制御温度で1350℃まで1100℃でスリップフリー—公式資料で確認できず
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
プラズマの周波数—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず27.12MHz
成膜の速さ—公式資料で確認できず9µm/h以上—公式資料で確認できず
特長—公式資料で確認できずTMGの利用効率20%以上CF4＋O2プラズマでチャンバーを洗える

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MOCVD装置 SR4000​のよくある質問

Q.MOCVD装置 SR4000はどんな人に向いている？
MOCVD装置 SR4000は、AlGaNデバイスと紫外LEDの研究開発に使う人向けです。MOCVD装置 SR4000は、研究開発向けの小型MOCVD装置で、制御温度で1350℃まで上げられます。
Q.MOCVD装置 SR4000の強みは？
MOCVD装置 SR4000は、4インチなら1枚、2インチなら3枚を成膜します。パワー制御向けのAlGaNデバイスや紫外LEDの開発に使われています。
Q.MOCVD装置 SR4000はどんな方式？
MOCVD装置 SR4000の方式はMOCVD（有機金属CVD）⁠で⁠す⁠。有機金属のガスを原料に、GaNやAlGaNなどの化合物半導体の膜を積む方式です。
Q.MOCVD装置 SR4000の主な仕様は？
MOCVD装置 SR4000の方式は研究開発向けの小型MOCVD、基板サイズは4インチ、2インチです。処理枚数は4インチ1枚、2インチ3枚、膜の種類はAlGaNです。
Q.MOCVD装置 SR4000とMOCVD装置 EPIREVO G8はどっちがいい？
AlGaNデバイスと紫外LEDの研究開発ならMOCVD装置 SR4000、200mmのSi基板にGaNを積むならニューフレアテクノロジーのMOCVD装置 EPIREVO G8です。MOCVD装置 SR4000の方式は研究開発向けの小型MOCVD、基板サイズは4インチ、2インチです。ニューフレアテクノロジーのMOCVD装置 EPIREVO G8の方式は枚葉式MOCVD、基板サイズは200mm（Si基板）⁠で⁠⁠⁠⁠す⁠。
Q.MOCVD装置 SR4000の温度は？
MOCVD装置 SR4000の温度は制御温度で1350℃までです。ニューフレアテクノロジーのMOCVD装置 EPIREVO G8の温度は1100℃でスリップフリーです。
Q.MOCVD装置 SR4000とプラズマCVD装置 CC-200はどっちがいい？
AlGaNデバイスと紫外LEDの研究開発ならMOCVD装置 SR4000、研究開発から少量生産までの絶縁膜ならアルバックのプラズマCVD装置 CC-200です。MOCVD装置 SR4000の方式は研究開発向けの小型MOCVD、基板サイズは4インチ、2インチです。アルバックのプラズマCVD装置 CC-200の方式はPE-CVD、基板サイズはトレー搬送で多様な基板サイズです。
Q.MOCVD装置 SR4000のほかに日本酸素のCVD装置はある？
あります。日本酸素のCVD装置には、MOCVD装置 SR4000のほかにMOCVD装置 UR26K（方式は量産向けMOCVD）があります。
Q.MOCVD装置 SR4000はどこのメーカー？
MOCVD装置 SR4000は日本酸素株式会社の製品です。日本酸素の主な製品分野は高圧ガス・アルゴンガス・三塩化ホウ素・塩素です。

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    純度・濃度99.9999wt%以上

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    出典
    1. 日本酸素株式会社 公式
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