イメージナノインプリント装置ステップ&リピート式
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepper
株式会社三明小型モールドで繰り返し転写するUV機
- 価格
- 公開価格なし(見積もり)
- 転写のしかた
- ステップ&リピート式
- 向いている所
- デバイス試作の位置合わせ転写
- カタログ
- あり(PDF)
比較表での位置

ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperは、ナノインプリント装置のメーカー10社比較の転写のしかた「ステップ&リピート式」の3製品の1つとして載っています。
- 10社掲載社数
- 15製品比較表の製品
- 3製品同じ転写のしかた
- 0製品公開価格あり
比較表を見るナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの強みと方式
小型モールドで繰り返し転写できるステッパーで、デバイス試作の位置合わせに向きます。ワークは2〜8インチ、モールドは石英とPDMSです。アライメント精度は±1μmで、加熱機構はオプションで足せます。
向いている所デバイス試作の位置合わせ転写
転写のしかた:ステップ&リピート式
小さな型で転写しては基板を送り、同じ形を繰り返し写す型です。基板より小さな型で済み、位置を合わせて重ねられます。大きな基板のマスター作りや、半導体デバイスの製造で使います。
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの仕様
- 転写のしかた
- ステップ&リピート式
- 方式
- UVナノインプリント(自動ステップはオプション)
- 基板・ワーク
- 2〜8インチ
- 加圧
- —公式資料で確認できず
- 温度
- —公式資料で確認できず
- UV光
- —公式資料で確認できず
- 位置合わせ
- ±1μm(マークサイズによる)
- 外形寸法
- 1800(H)×760(W)×1160(D)
- 価格
- —公式資料で確認できず
- 転写範囲
- —公式資料で確認できず
- モールド
- 石英、PDMS
- 解像度
- —公式資料で確認できず
- 処理量
- —公式資料で確認できず
- 真空度
- —公式資料で確認できず
- プレス速度
- —公式資料で確認できず
- 質量
- —公式資料で確認できず
- 電源
- —公式資料で確認できず
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepper株式会社三明 | ステップ&リピート装置 EVG 770 NTイーヴィグループジャパン株式会社 | ナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cキヤノン株式会社 |
|---|
| 転写のしかた | ステップ&リピート式 | ステップ&リピート式 | ステップ&リピート式 |
|---|
| 方式 | UVナノインプリント(自動ステップはオプション) | ステップ&リピート(LED露光) | マスク(型)をウエハー上のレジストに押し付けて形成 |
|---|
| 基板・ワーク | 2〜8インチ | 80mm、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ、Gen2(370×470mm) | 300mm(12インチ) |
|---|
| 加圧 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
|---|
| 温度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| UV光 | —公式資料で確認できず | 365nm、300mW/cm²超 | —公式資料で確認できず |
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| 位置合わせ | ±1μm(マークサイズによる) | —公式資料で確認できず | 重ね合わせ精度4nm以下 |
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| 外形寸法 | 1800(H)×760(W)×1160(D) | —公式資料で確認できず | W2,700×D6,600×H2,830mm(2ステーション) |
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| 価格 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 転写範囲 | —公式資料で確認できず | 30cm² | 26×33mm |
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| モールド | 石英、PDMS | 最大80×80mm | マスク6インチ |
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| 解像度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 処理量 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 真空度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| プレス速度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 質量 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 電源 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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ナノインプリント装置の15製品を比較表で見る
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperのよくある質問
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperはどんな人に向いている?
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperは、デバイス試作の位置合わせ転写に使う人向けです。ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperは、小型モールドで繰り返し転写できるステッパーで、デバイス試作の位置合わせに向きます。
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの強みは?
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperのワークは2〜8インチ、モールドは石英とPDMSです。アライメント精度は±1μmで、加熱機構はオプションで足せます。
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperはどんな方式?
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの転写のしかたはステップ&リピート式です。小さな型で転写しては基板を送り、同じ形を繰り返し写す型です。
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの主な仕様は?
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの方式はUVナノインプリント(自動ステップはオプション)、基板・ワークは2〜8インチです。位置合わせは±1μm(マークサイズによる)、外形寸法は1800(H)×760(W)×1160(D)です。
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperとステップ&リピート装置 EVG 770 NTはどっちがいい?
デバイス試作の位置合わせ転写ならナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepper、マスター型の製作ならイーヴィグループジャパンのステップ&リピート装置 EVG 770 NTです。ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの方式はUVナノインプリント(自動ステップはオプション)、基板・ワークは2〜8インチです。イーヴィグループジャパンのステップ&リピート装置 EVG 770 NTの方式はステップ&リピート(LED露光)、基板・ワークは80mm、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ、Gen2(370×470mm)です。
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperのモールドは?
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperのモールドは石英、PDMSです。イーヴィグループジャパンのステップ&リピート装置 EVG 770 NTのモールドは最大80×80mmです。
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperとナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cはどっちがいい?
デバイス試作の位置合わせ転写ならナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepper、最先端の半導体デバイス製造ならキヤノンのナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cです。ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの方式はUVナノインプリント(自動ステップはオプション)、基板・ワークは2〜8インチです。キヤノンのナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cの方式はマスク(型)をウエハー上のレジストに押し付けて形成、基板・ワークは300mm(12インチ)です。
Q.ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperはどこのメーカー?
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperは株式会社三明の製品です。三明の主な製品分野はスプレーコーター・ナノインプリント装置です。
口コミ
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