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小型UVナノインプリント装置 CI-80
株式会社卓上で
- 価格
- 公開価格なし
（見積もり） - 転写の
しかた - UV一括式
- 向いている所
- 材料と
金型の 相性を 手元で試す - カタログ
- あり（PDF）
比較表での位置
小型UV
- 10社掲載社数
- 15製品比較表の製品
- 6製品同じ
転写の しかた - 0製品公開価格あり
小型UVナノインプリント装置 CI-80の強みと方式
枚葉の
向いている所材料と
転写のしかた：UV一括式
樹脂に
小型UVナノインプリント装置 CI-80の仕様
- 転写の
しかた - UV一括式
- 方式
- バッチ式低真
空UV - 基板・ワーク
- 100×
100mm - 加圧
- —公式資料で
確認できず - 温度
- —公式資料で
確認できず - UV光
- 365nm、
50mW/cm² （上下2面） - 位置合わせ
- —公式資料で
確認できず - 外形寸法
- W320×
D290× H445mm（転写部） - 価格
- —公式資料で
確認できず - 転写範囲
- 80×
80mm - モールド
- —公式資料で
確認できず - 解像度
- —公式資料で
確認できず - 処理量
- —公式資料で
確認できず - 真空度
- 1000Pa
- プレス速度
- —公式資料で
確認できず - 質量
- 約30kg（転写部）
- 電源
- —公式資料で
確認できず
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| 小型UV | R&D用 | 微細転写装置 ST50-UV芝浦機械 | |
|---|---|---|---|
| 転写の | UV一括式 | UV一括式 | UV一括式 |
| 方式 | バッチ式低真 | UV、 | UV転写 |
| 基板・ワーク | 100× | 直径200mmまで | 4インチまで |
| 加圧 | —公式資料で | 最大0.7MPa | 最大50kN |
| 温度 | —公式資料で | 最高 | —公式資料で |
| UV光 | 365nm、 | 365nm、 | —公式資料で |
| 位置合わせ | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 外形寸法 | W320× | W700× | —公式資料で |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 転写範囲 | 80× | —公式資料で | —公式資料で |
| モールド | —公式資料で | —公式資料で | 樹脂、石英 |
| 解像度 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 処理量 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 真空度 | 1000Pa | —公式資料で | —公式資料で |
| プレス速度 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 質量 | 約30kg（転写部） | —公式資料で | —公式資料で |
| 電源 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
小型UVナノインプリント装置 CI-80のよくある質問
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80はどんな人に向いている？
小型UVナノインプリント装置 CI-80は、材料と金型の相性を手元で試す人向けです。小型UVナノインプリント装置 CI-80は、枚葉のUV転写を卓上にまとめた低真空の機種で、材料や金型の相性を手元で試せます。
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80の強みは？
小型UVナノインプリント装置 CI-80のワークは100×100mm、転写エリアは80×80mmです。精密金型やウエハモールドなど種々の金型を使えます。
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80はどんな方式？
小型UVナノインプリント装置 CI-80の転写のしかたはUV一括式です。樹脂に型を押し当て、UVで固めて基板の全面を一度に写す型です。
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80の主な仕様は？
小型UVナノインプリント装置 CI-80の方式はバッチ式低真空UV、基板・ワークは100×100mmです。UV光は365nm、50mW/cm²（上下2面）、外形寸法はW320×D290×H445mm（転写部）です。
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80とR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200はどっちがいい？
材料と金型の相性を手元で試すなら小型UVナノインプリント装置 CI-80、直径200mmのパイロット生産ならSCIVAXのR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200です。小型UVナノインプリント装置 CI-80の方式はバッチ式低真空UV、基板・ワークは100×100mmです。SCIVAXのR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の方式はUV、UV＋熱アシスト（FLAN空気加圧）、基板・ワークは直径200mmまでです。
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80の真空度は？
小型UVナノインプリント装置 CI-80の真空度は1000Paです。タツモの全自動UVナノインプリント装置 DYADの真空度は50Pa以下です。
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80と微細転写装置 ST50-UVはどっちがいい？
材料と金型の相性を手元で試すなら小型UVナノインプリント装置 CI-80、4インチ基板の全面一括転写なら芝浦機械の微細転写装置 ST50-UVです。小型UVナノインプリント装置 CI-80の方式はバッチ式低真空UV、基板・ワークは100×100mmです。芝浦機械の微細転写装置 ST50-UVの方式はUV転写（全面一括）、基板・ワークは4インチまで（オプションで6インチ）です。
Q.小型UVナノインプリント装置 CI-80はどこのメーカー？
小型UVナノインプリント装置 CI-80は株式会社ウェルテックの製品です。静岡市に本社を置き、小型枚葉ナノインプリント装置や光学用の高精度自動位置決めユニットを手がける会社です。
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