イメージ
イメージナノインプリント
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100
SCIVAXUV・熱・加圧方式を
- 価格
- 公開価格なし
(見積もり) - 転写の
しかた - 熱式
(熱・UV兼用) - 向いている所
- 硬化と
加圧を 組み替える 研究開発
比較表での位置

R&D用
- 10社掲載社数
- 15製品比較表の製品
- 4製品同じ
転写の しかた - 0製品公開価格あり
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の強みと方式
硬化方式と
向いている所硬化と
転写のしかた:熱式(熱・UV兼用)
樹脂を
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の仕様
- 転写の
しかた - 熱式
(熱・UV兼用) - 方式
- UV、熱、
UV+ 熱アシスト (平行平板または FLAN 空気加圧) - 基板・ワーク
- 直径100mmまで
- 加圧
- 最大0.7MPa
- 温度
- 最高
200℃ - UV光
- 365nm、
200mW/cm² - 位置合わせ
- —公式資料で
確認できず - 外形寸法
- W540×
D790× H1,790mm - 価格
- —公式資料で
確認できず - 転写範囲
- —公式資料で
確認できず - モールド
- —公式資料で
確認できず - 解像度
- —公式資料で
確認できず - 処理量
- —公式資料で
確認できず - 真空度
- —公式資料で
確認できず - プレス速度
- —公式資料で
確認できず - 質量
- —公式資料で
確認できず - 電源
- —公式資料で
確認できず
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| R&D用 | 微細転写装置 ST50芝浦機械 | ナノインプリント | |
|---|---|---|---|
| 転写の | 熱式 | 熱式 | 熱式 |
| 方式 | UV、熱、 | UV転写または | 熱硬化方式、 |
| 基板・ワーク | 直径100mmまで | —公式資料で | 50× |
| 加圧 | 最大0.7MPa | 0〜50kN | —公式資料で |
| 温度 | 最高 | 最大200℃ | 室温 |
| UV光 | 365nm、 | —公式資料で | —公式資料で |
| 位置合わせ | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 外形寸法 | W540× | L1.9m× | —公式資料で |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 転写範囲 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| モールド | —公式資料で | 最大直径150mm | —公式資料で |
| 解像度 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 処理量 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 真空度 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| プレス速度 | —公式資料で | 0.01〜30mm/s | 1〜1000μm/sec |
| 質量 | —公式資料で | 2,800kg | —公式資料で |
| 電源 | —公式資料で | AC220/200V、 | —公式資料で |
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100のよくある質問
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100はどんな人に向いている?
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100は、硬化と加圧を組み替える研究開発に使う人向けです。R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100は、硬化方式と加圧方式を組み合わせて選べる研究開発機です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の強みは?
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100のワークは直径100mmまで、加熱は最高200℃で、熱可塑樹脂と熱硬化樹脂を使えます。導入後も現地でオプションを足せます。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100はどんな方式?
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の転写のしかたは熱式(熱・UV兼用)です。樹脂を温めて軟らかくし、型を押し当てて形を写す型です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の主な仕様は?
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の方式はUV、熱、UV+熱アシスト(平行平板またはFLAN空気加圧)、基板・ワークは直径100mmまでです。加圧は最大0.7MPa、温度は最高200℃です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100と微細転写装置 ST50はどっちがいい?
硬化と加圧を組み替える研究開発ならR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100、位置と力を細かく決める転写なら芝浦機械の微細転写装置 ST50です。R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の方式はUV、熱、UV+熱アシスト(平行平板またはFLAN空気加圧)、基板・ワークは直径100mmまでです。芝浦機械の微細転写装置 ST50の方式はUV転写または熱転写、加圧は0〜50kNです。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100のUV光は?
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100のUV光は365nm、200mW/cm²です。イーヴィグループジャパンのステップ&リピート装置 EVG 770 NTのUV光は365nm、300mW/cm²超です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の外形寸法は?
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の外形寸法はW540×D790×H1,790mmです。芝浦機械の微細転写装置 ST50の外形寸法はL1.9m×W1.0m×H2.3mです。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100とナノインプリント装置 Model TM-02はどっちがいい?
硬化と加圧を組み替える研究開発ならR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100、熱と光を1台で試す研究・試作なら三井電気精機のナノインプリント装置 Model TM-02です。R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100の方式はUV、熱、UV+熱アシスト(平行平板またはFLAN空気加圧)、基板・ワークは直径100mmまでです。三井電気精機のナノインプリント装置 Model TM-02の方式は熱硬化方式、光硬化方式、基板・ワークは50×50mmです。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100のほかにSCIVAXのナノインプリント装置はある?
あります。SCIVAXのナノインプリント装置には、R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100のほかにR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200(方式はUV、UV+熱アシスト)があります。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100はどこのメーカー?
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100はSCIVAX株式会社の製品です。川崎市に本社を置き、ナノインプリントの受託加工と、装置・光学製品の販売を行う会社です。
口コミ
R&D用
使った
同じ分類のほかの型番
イメージ
イメージ
イメージ
イメージ
イメージナノインプリント装置ナノインプリント
キヤノン株式会社
ナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2C
キヤノン回路を
イメージナノインプリント装置ナノイン
株式会社三明
ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepper
株式会社三明小型モールドで
同じメーカーのほかの製品SCIVAX株式会社
イメージ