イメージステップ&リピート装置 EVG 770 NTの強みと方式
型を送りながら繰り返し転写するステップ&リピート機で、マスター作りに向きます。基板は80mmから12インチ、Gen2(370×470mm)まで使えます。型は最大80×80mm、有効範囲は30cm²です。
向いている所マスター型の製作
転写のしかた:ステップ&リピート式
小さな型で転写しては基板を送り、同じ形を繰り返し写す型です。基板より小さな型で済み、位置を合わせて重ねられます。大きな基板のマスター作りや、半導体デバイスの製造で使います。
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの仕様
- 転写のしかた
- ステップ&リピート式
- 方式
- ステップ&リピート(LED露光)
- 基板・ワーク
- 80mm、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ、Gen2(370×470mm)
- 加圧
- —公式資料で確認できず
- 温度
- —公式資料で確認できず
- UV光
- 365nm、300mW/cm²超
- 位置合わせ
- —公式資料で確認できず
- 外形寸法
- —公式資料で確認できず
- 価格
- —公式資料で確認できず
- 転写範囲
- 30cm²
- モールド
- 最大80×80mm
- 解像度
- —公式資料で確認できず
- 処理量
- —公式資料で確認できず
- 真空度
- —公式資料で確認できず
- プレス速度
- —公式資料で確認できず
- 質量
- —公式資料で確認できず
- 電源
- —公式資料で確認できず
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| ステップ&リピート装置 EVG 770 NTイーヴィグループジャパン株式会社 | ナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cキヤノン株式会社 | ナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepper株式会社三明 |
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| 転写のしかた | ステップ&リピート式 | ステップ&リピート式 | ステップ&リピート式 |
|---|
| 方式 | ステップ&リピート(LED露光) | マスク(型)をウエハー上のレジストに押し付けて形成 | UVナノインプリント(自動ステップはオプション) |
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| 基板・ワーク | 80mm、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ、Gen2(370×470mm) | 300mm(12インチ) | 2〜8インチ |
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| 加圧 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 温度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| UV光 | 365nm、300mW/cm²超 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 位置合わせ | —公式資料で確認できず | 重ね合わせ精度4nm以下 | ±1μm(マークサイズによる) |
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| 外形寸法 | —公式資料で確認できず | W2,700×D6,600×H2,830mm(2ステーション) | 1800(H)×760(W)×1160(D) |
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| 価格 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 転写範囲 | 30cm² | 26×33mm | —公式資料で確認できず |
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| モールド | 最大80×80mm | マスク6インチ | 石英、PDMS |
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| 解像度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 処理量 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 真空度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| プレス速度 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 質量 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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| 電源 | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず | —公式資料で確認できず |
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ナノインプリント装置の15製品を比較表で見る
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTのよくある質問
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTはどんな人に向いている?
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTは、マスター型の製作に使う人向けです。ステップ&リピート装置 EVG 770 NTは、型を送りながら繰り返し転写するステップ&リピート機で、マスター作りに向きます。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの強みは?
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの基板は80mmから12インチ、Gen2(370×470mm)まで使えます。型は最大80×80mm、有効範囲は30cm²です。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTはどんな方式?
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの転写のしかたはステップ&リピート式です。小さな型で転写しては基板を送り、同じ形を繰り返し写す型です。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの主な仕様は?
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの方式はステップ&リピート(LED露光)、基板・ワークは80mm、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ、Gen2(370×470mm)です。UV光は365nm、300mW/cm²超、転写範囲は30cm²です。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTとナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cはどっちがいい?
マスター型の製作ならステップ&リピート装置 EVG 770 NT、最先端の半導体デバイス製造ならキヤノンのナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cです。ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの方式はステップ&リピート(LED露光)、基板・ワークは80mm、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ、Gen2(370×470mm)です。キヤノンのナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cの方式はマスク(型)をウエハー上のレジストに押し付けて形成、基板・ワークは300mm(12インチ)です。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTのモールドは?
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTのモールドは最大80×80mmです。キヤノンのナノインプリント半導体製造装置 FPA-1200NZ2Cのモールドはマスク6インチです。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTとナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperはどっちがいい?
マスター型の製作ならステップ&リピート装置 EVG 770 NT、デバイス試作の位置合わせ転写なら三明のナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperです。ステップ&リピート装置 EVG 770 NTの方式はステップ&リピート(LED露光)、基板・ワークは80mm、4インチ、6インチ、8インチ、12インチ、Gen2(370×470mm)です。三明のナノインプリントステッパー ImpFlex-Essential Stepperの方式はUVナノインプリント(自動ステップはオプション)、基板・ワークは2〜8インチです。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTのほかにイーヴィグループジャパンのナノインプリント装置はある?
あります。イーヴィグループジャパンのナノインプリント装置には、ステップ&リピート装置 EVG 770 NTのほかにSmartNIL UVナノインプリント装置 EVG 7200(方式はSmartNIL)があります。
Q.ステップ&リピート装置 EVG 770 NTはどこのメーカー?
ステップ&リピート装置 EVG 770 NTはイーヴィグループジャパン株式会社の製品です。イーヴィグループジャパンの主な製品分野はナノインプリント装置です。
口コミ
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