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R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200
SCIVAX直径200mm
- 価格
- 公開価格なし
（見積もり） - 転写の
しかた - UV一括式
- 向いている所
- 直径200mmの
パイロット生産
比較表での位置
R&D用
- 10社掲載社数
- 15製品比較表の製品
- 6製品同じ
転写の しかた - 0製品公開価格あり
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の強みと方式
直径200mmの
向いている所
転写のしかた：UV一括式
樹脂に
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の仕様
- 転写の
しかた - UV一括式
- 方式
- UV、
UV＋ 熱アシスト （FLAN空気加圧） - 基板・ワーク
- 直径200mmまで
- 加圧
- 最大0.7MPa
- 温度
- 最高
100℃ - UV光
- 365nm、
400mW/cm² - 位置合わせ
- —公式資料で
確認できず - 外形寸法
- W700×
D980× H2,100mm - 価格
- —公式資料で
確認できず - 転写範囲
- —公式資料で
確認できず - モールド
- —公式資料で
確認できず - 解像度
- —公式資料で
確認できず - 処理量
- —公式資料で
確認できず - 真空度
- —公式資料で
確認できず - プレス速度
- —公式資料で
確認できず - 質量
- —公式資料で
確認できず - 電源
- —公式資料で
確認できず
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| R&D用 | 微細転写装置 ST50-UV芝浦機械 | 全自動UV | |
|---|---|---|---|
| 転写の | UV一括式 | UV一括式 | UV一括式 |
| 方式 | UV、 | UV転写 | UV照射式。 |
| 基板・ワーク | 直径200mmまで | 4インチまで | 200mm、 |
| 加圧 | 最大0.7MPa | 最大50kN | 0.90MPa以下 |
| 温度 | 最高 | —公式資料で | —公式資料で |
| UV光 | 365nm、 | —公式資料で | 365nm |
| 位置合わせ | —公式資料で | —公式資料で | ±1μm以下 |
| 外形寸法 | W700× | —公式資料で | W5,460× |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 転写範囲 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| モールド | —公式資料で | 樹脂、石英 | —公式資料で |
| 解像度 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 処理量 | —公式資料で | —公式資料で | 20枚/時間 |
| 真空度 | —公式資料で | —公式資料で | 50Pa以下 |
| プレス速度 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 質量 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 電源 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200のよくある質問
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200はどんな人に向いている？
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200は、直径200mmのパイロット生産に使う人向けです。R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200は、直径200mmの基板を扱える、パイロット生産から量産向けのUV装置です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の強みは？
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200は、FLAN空気加圧と照度400mW/cm²のUV-LEDを備えます。高いタクトを求める工程に向きます。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200はどんな方式？
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の転写のしかたはUV一括式です。樹脂に型を押し当て、UVで固めて基板の全面を一度に写す型です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の主な仕様は？
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の方式はUV、UV＋熱アシスト（FLAN空気加圧）、基板・ワークは直径200mmまでです。加圧は最大0.7MPa、温度は最高100℃です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200と微細転写装置 ST50-UVはどっちがいい？
直径200mmのパイロット生産ならR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200、4インチ基板の全面一括転写なら芝浦機械の微細転写装置 ST50-UVです。R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の方式はUV、UV＋熱アシスト（FLAN空気加圧）、基板・ワークは直径200mmまでです。芝浦機械の微細転写装置 ST50-UVの方式はUV転写（全面一括）、基板・ワークは4インチまで（オプションで6インチ）です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200のUV光は？
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200のUV光は365nm、400mW/cm²です。タツモの全自動UVナノインプリント装置 DYADのUV光は365nm（UV-LED）です。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の外形寸法は？
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の外形寸法はW700×D980×H2,100mmです。タツモの全自動UVナノインプリント装置 DYADの外形寸法はW5,460×D2,560×H2,500mmです。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200と全自動UVナノインプリント装置 DYADはどっちがいい？
直径200mmのパイロット生産ならR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200、光学デバイスの量産ラインならタツモの全自動UVナノインプリント装置 DYADです。R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200の方式はUV、UV＋熱アシスト（FLAN空気加圧）、基板・ワークは直径200mmまでです。タツモの全自動UVナノインプリント装置 DYADの方式はUV照射式。塗布から乾燥、アライメント、貼合、剥離まで全自動、基板・ワークは200mm、300mmです。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200のほかにSCIVAXのナノインプリント装置はある？
あります。SCIVAXのナノインプリント装置には、R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200のほかにR&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-100（方式はUV、熱、UV＋熱アシスト）があります。
Q.R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200はどこのメーカー？
R&D用ナノインプリント装置 RubiQ RD-200はSCIVAX株式会社の製品です。川崎市に本社を置き、ナノインプリントの受託加工と、装置・光学製品の販売を行う会社です。
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