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小型
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小型CMP装置 ChaMP211の強みと方式
小型の
向いている
種類:量産用(全自動)
ウェーハの
小型CMP装置 ChaMP211の仕様
- 種類
- 量産用(全自動)
- 対応ウェーハ・試料
- 2〜8インチ、
研磨ヘッドを 替えて 径を変える - ヘッド・
テーブル - エアーフロート
式ヘッド (Sylphide) - 載せ方
- ウェーハローダ付き、
フルオート - 終点検出
- 光学式
(白色光源) - 洗浄・乾燥
- 洗浄
ユニット付き - 価格
- —公式資料で
確認できず - プラテン・定盤
- —公式資料で
確認できず - ドレス
- —公式資料で
確認できず - 装置寸法
- —公式資料で
確認できず - 電源
- —公式資料で
確認できず - 用途
- SiC・
MEMS・ マイクロLED・ SAWフィルター - 特長
- 低価格、小
フットプリント
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| 小型 | 全 | CMP装置 SPP600S株式会社 | |
|---|---|---|---|
| 種類 | 量産用(全自動) | 量産用(全自動) | 研究開発用(手置き) |
| 対応ウェーハ・試料 | 2〜8インチ、 | —公式資料で | —公式資料で |
| ヘッド・ | エアーフロート | 研磨ヘッド | 表面基準・裏面基準の |
| 載せ方 | ウェーハローダ付き、 | ロボットハンド | マニュアル |
| 終点検出 | 光学式 | —公式資料で | —公式資料で |
| 洗浄・乾燥 | 洗浄 | 洗浄機と | —公式資料で |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| プラテン・定盤 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| ドレス | —公式資料で | —公式資料で | 専用の |
| 装置寸法 | —公式資料で | 2650D× | —公式資料で |
| 電源 | —公式資料で | AC200・ | —公式資料で |
| 用途 | SiC・ | 前工程で | 研究開発、 |
| 特長 | 低価格、小 | ラップマスター | 取り代 |
小型CMP装置 ChaMP211のよくある質問
Q.小型CMP装置 ChaMP211はどんな人に向いている?
小型CMP装置 ChaMP211は、SiC・MEMSの試作から量産に使う人向けです。小型CMP装置 ChaMP211は、小型の本体にローダー・洗浄ユニット・光学式の終点検出まで載せたCMP装置です。
Q.小型CMP装置 ChaMP211の強みは?
小型CMP装置 ChaMP211は、2〜8インチの研磨ヘッドがあり、同じ本体で径の違うウェーハを磨けます。研究開発から試作・量産まで仕様を広げられます。
Q.小型CMP装置 ChaMP211はどんな方式?
小型CMP装置 ChaMP211の種類は量産用(全自動)です。ウェーハの出し入れをロボットやローダーに任せ、続けて磨く型です。
Q.小型CMP装置 ChaMP211の主な仕様は?
小型CMP装置 ChaMP211の対応ウェーハ・試料は2〜8インチ、研磨ヘッドを替えて径を変える、ヘッド・テーブルはエアーフロート式ヘッド(Sylphide)です。載せ方はウェーハローダ付き、フルオート、終点検出は光学式(白色光源)です。
Q.小型CMP装置 ChaMP211と全自動CMP装置 MGP708XJはどっちがいい?
SiC・MEMSの試作から量産なら小型CMP装置 ChaMP211、ウェーハの平坦度を上げる量産ならミクロ技研の全自動CMP装置 MGP708XJです。小型CMP装置 ChaMP211の対応ウェーハ・試料は2〜8インチ、研磨ヘッドを替えて径を変える、ヘッド・テーブルはエアーフロート式ヘッド(Sylphide)です。ミクロ技研の全自動CMP装置 MGP708XJのヘッド・テーブルは研磨ヘッド8軸、3テーブル、載せ方はロボットハンド(エッジクランプ)で搬送です。
Q.小型CMP装置 ChaMP211の洗浄・乾燥は?
小型CMP装置 ChaMP211の洗浄・乾燥は洗浄ユニット付きです。ミクロ技研の全自動CMP装置 MGP708XJの洗浄・乾燥は洗浄機とつないでドライアウト、ウェットアウトも選べる。
Q.小型CMP装置 ChaMP211の用途は?
小型CMP装置 ChaMP211の用途はSiC・MEMS・マイクロLED・SAWフィルターです。ミクロ技研の全自動CMP装置 MGP708XJの用途は前工程で付いた形に関係なく平坦に磨く。
Q.小型CMP装置 ChaMP211とCMP装置 SPP600Sはどっちがいい?
SiC・MEMSの試作から量産なら小型CMP装置 ChaMP211、量産機へ条件を移す研究開発なら岡本工作機械製作所のCMP装置 SPP600Sです。小型CMP装置 ChaMP211の対応ウェーハ・試料は2〜8インチ、研磨ヘッドを替えて径を変える、ヘッド・テーブルはエアーフロート式ヘッド(Sylphide)です。岡本工作機械製作所のCMP装置 SPP600Sのヘッド・テーブルは表面基準・裏面基準の加圧方式、載せ方はマニュアルです。
Q.小型CMP装置 ChaMP211のほかに東京精密のCMP装置はある?
あります。東京精密のCMP装置には、小型CMP装置 ChaMP211のほかにCMP装置 ChaMP332(対応ウェーハ・試料は300mm)があります。
Q.小型CMP装置 ChaMP211はどこのメーカー?
小型CMP装置 ChaMP211は株式会社東京精密の製品です。東京精密の主な製品分野はCMP装置・エアゲージ・表面粗さ測定器・三次元測定機です。
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