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CMP装置量産用（全自動）

CMP装置 ChaMP332

株式会社東京精密

東京精密の300mmウェーハ用CMP装置。

価格
公開価格なし（見積もり）
種類
量産用（全自動）
向いている所
300mmウェーハの量産ライン
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比較表での位置

CMP装置 ChaMP332は、CMP装置のメーカー6社比較⁠の種類「量産用（全自動）」の3製品の1つとして載っています。

  • 6社掲載社数
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CMP装置 ChaMP332​の強みと方式

エアフィルムでウェーハを押すヘッドで、低い圧力でも加圧が安定する300mm機です。研磨ヘッドのリテーナは約5秒で外せて、約10秒で付けられます。ゾーン制御はオプションで足せます。

向いている所300mmウェーハの量産ライン

種類：量産用（全自動）

ウェーハの出し入れをロボットやローダーに任せ、続けて磨く型です。研磨ヘッドやテーブルを増やして枚数をこなします。洗浄機とつなぎ、乾いた状態で取り出せる機種もあります。

CMP装置 ChaMP332​の仕様

種類
量産用（全自動）
対応ウェーハ・試料
300mm
ヘッド・テーブル
エアフロート式ヘッド（Sylphide）、ゾーン制御はオプション
載せ方
—公式資料で確認できず
終点検出
—公式資料で確認できず
洗浄・乾燥
—公式資料で確認できず
価格
—公式資料で確認できず
プラテン・定盤
—公式資料で確認できず
ドレス
—公式資料で確認できず
装置寸法
—公式資料で確認できず
電源
—公式資料で確認できず
用途
先端デバイスの量産
特長
リテーナの取り外し約5秒、取り付け約10秒

ChaMPシリーズは200mmのChaMP232・ChaMP211もある。

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

CMP装置 ChaMP332株式会社東京精密全自動CMP装置 MGP708XJミクロ技研株式会社CMP装置 SPP600S株式会社岡本工作機械製作所
種類量産用（全自動）量産用（全自動）研究開発用（手置き）
対応ウェーハ・試料300mm—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
ヘッド・テーブルエアフロート式ヘッド（Sylphide）、ゾーン制御はオプション研磨ヘッド8軸、3テーブル表面基準・裏面基準の加圧方式
載せ方—公式資料で確認できずロボットハンド（エッジクランプ）で搬送マニュアル
終点検出—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
洗浄・乾燥—公式資料で確認できず洗浄機とつないでドライアウト、ウェットアウトも選べる—公式資料で確認できず
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
プラテン・定盤—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
ドレス—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず専用のドレッサー軸、ダイヤモンドドレッサーも使える
装置寸法—公式資料で確認できず2650D×3480W×2400H—公式資料で確認できず
電源—公式資料で確認できずAC200・220V、三相、60kVA—公式資料で確認できず
用途先端デバイスの量産前工程で付いた形に関係なく平坦に磨く研究開発、データを全自動ポリッシャーPNX332Bへ転用
特長リテーナの取り外し約5秒、取り付け約10秒ラップマスターSFT製LGP-708XJの後継機取り代10um以上でもウェハーの形を崩さない

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CMP装置 ChaMP332​のよくある質問

Q.CMP装置 ChaMP332はどんな人に向いている？
CMP装置 ChaMP332は、300mmウェーハの量産ラインに使う人向けです。CMP装置 ChaMP332は、エアフィルムでウェーハを押すヘッドで、低い圧力でも加圧が安定する300mm機です。
Q.CMP装置 ChaMP332の強みは？
研磨ヘッドのリテーナは約5秒で外せて、約10秒で付けられます。ゾーン制御はオプションで足せます。
Q.CMP装置 ChaMP332はどんな方式？
CMP装置 ChaMP332の種類は量産用（全自動）⁠で⁠す⁠。ウェーハの出し入れをロボットやローダーに任せ、続けて磨く型です。
Q.CMP装置 ChaMP332の主な仕様は？
CMP装置 ChaMP332の対応ウェーハ・試料は300mm、ヘッド・テーブルはエアフロート式ヘッド（Sylphide）、ゾーン制御はオプションです。用途は先端デバイスの量産、特長はリテーナの取り外し約5秒、取り付け約10秒です。
Q.CMP装置 ChaMP332と全自動CMP装置 MGP708XJはどっちがいい？
300mmウェーハの量産ラインならCMP装置 ChaMP332、ウェーハの平坦度を上げる量産ならミクロ技研の全自動CMP装置 MGP708XJです。CMP装置 ChaMP332の対応ウェーハ・試料は300mm、ヘッド・テーブルはエアフロート式ヘッド（Sylphide）、ゾーン制御はオプションです。ミクロ技研の全自動CMP装置 MGP708XJのヘッド・テーブルは研磨ヘッド8軸、3テーブル、載せ方はロボットハンド（エッジクランプ）で搬送です。
Q.CMP装置 ChaMP332とCMP装置 SPP600Sはどっちがいい？
300mmウェーハの量産ラインならCMP装置 ChaMP332、量産機へ条件を移す研究開発なら岡本工作機械製作所のCMP装置 SPP600Sです。CMP装置 ChaMP332の対応ウェーハ・試料は300mm、ヘッド・テーブルはエアフロート式ヘッド（Sylphide）、ゾーン制御はオプションです。岡本工作機械製作所のCMP装置 SPP600Sのヘッド・テーブルは表面基準・裏面基準の加圧方式、載せ方はマニュアルです。
Q.CMP装置 ChaMP332のほかに東京精密のCMP装置はある？
あります。東京精密のCMP装置には、CMP装置 ChaMP332のほかに小型CMP装置 ChaMP211（対応ウェーハ・試料は2〜8インチ、研磨ヘッドを替えて径を変える）があります。
Q.CMP装置 ChaMP332はどこのメーカー？
CMP装置 ChaMP332は株式会社東京精密の製品です。東京精密の主な製品分野はCMP装置・エアゲージ・表面粗さ測定器・三次元測定機です。

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    出典
    1. 株式会社東京精密 公式
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