ステップ＆リピート式ナノインプリント装置のメーカー3社比較【2026年】

3製品とも、公式に価格を出していません。キヤノンのFPA-1200NZ2Cは半導体デバイス製造向け、イーヴィグループジャパンのEVG 770 NTはマスター作り向け、三明のImpFlex-Essential Stepperはデバイス試作向けで、用途が違います。見積もりのときは、基板サイズ・型・位置合わせの条件を伝えます。自動ステップなどオプションの有無も、合わせて伝えます。

用途と基板サイズが違います。キヤノンのFPA-1200NZ2Cは300mmウエハーに回路を形成する半導体製造向けで、マスクは6インチです。イーヴィグループジャパンのEVG 770 NTは80mmから12インチ、Gen2（370×470mm）⁠ま⁠で使え、型は最大80×80mmです。三明のImpFlex-Essential Stepperは2〜8インチで、モールドは石英とPDMSです。

キヤノンのFPA-1200NZ2Cは、重ね合わせ精度が4nm以下です。三明のImpFlex-Essential Stepperは、アライメント精度が±1μm（マークサイズによる）⁠で⁠す⁠。イーヴィグループジャパンのEVG 770 NTは、位置合わせの値を製品ページに出していません。半導体の回路を重ねるならFPA-1200NZ2C、デバイスの試作ならImpFlexから見ます。精度の条件は、各社に確かめます。

キヤノンのFPA-1200NZ2Cは、300mm（12インチ）ウエハーです。イーヴィグループジャパンのEVG 770 NTは、80mm・4インチ・6インチ・8インチ・12インチ・Gen2（370×470mm）を使えます。三明のImpFlex-Essential Stepperは、2〜8インチです。角型の大きな基板なら、Gen2まで使えるEVG 770 NTです。今と将来の基板で選びます。

キヤノンのFPA-1200NZ2Cはマスクが6インチ、転写の範囲は26×33mmです。イーヴィグループジャパンのEVG 770 NTは型が最大80×80mmで、有効範囲は30cm²です。三明のImpFlex-Essential Stepperは、石英とPDMSのモールドを使えます。手持ちの型の材料と大きさを伝えて、使えるか先に聞きます。型の精度が、そのまま形に出ます。

マスターモールドを作るなら、イーヴィグループジャパンのEVG 770 NTです。超微細パターンの効率的なマスター製造と、直接パターニング向けのステップ＆リピート装置です。LED露光で、UVは365nm、300mW/cm²超です。小さな型を繰り返し写して、大きな基板のマスターを作れます。マスターの大きさを決めてから、基板サイズを選びます。

半導体デバイスの製造なら、キヤノンのFPA-1200NZ2Cです。回路を刻んだマスクをウエハー上のレジストに押し付けて回路を作り、300mmウエハーに使えます。キヤノンは、5ナノノード（線幅15nm）のロジック向け露光技術と比べて、消費電力を大幅に減らせると公表しています。光源の波長で微細化しない装置です。製造ラインの条件を伝えて相談します。

ステッパーは光で回路を焼き付け、ナノインプリント装置は型を押し付けて形を作ります。キヤノンのFPA-1200NZ2Cは、光源の波長でなく型の細かさで形が決まります。三明のImpFlex-Essential Stepperも、UVナノインプリントで繰り返し転写するステッパーです。光で焼き付けるステッパーは、別の比較のページで扱います。作りたい形と用途で選びます。

キヤノンのFPA-1200NZ2Cは、2ステーションでW2,700×D6,600×H2,830mmです。三明のImpFlex-Essential Stepperは、1800(H)×760(W)×1160(D)です。イーヴィグループジャパンのEVG 770 NTは、大きさを製品ページに出していません。大きな装置は、搬入経路と床の強さを先に確かめます。クリーンな環境に置ける広さも見ます。

このページには、キヤノン・イーヴィグループジャパン・三明の3社を載せています。半導体の回路を300mmウエハーに重ねるならキヤノン、Gen2までのマスターを作るならイーヴィグループジャパンです。2〜8インチでデバイスを試作するなら、三明です。基板の全面を一度に写すなら、UVナノインプリント装置のページも見てください。