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イメージヒ化ガリウム
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlled
住友電気工業VB法・
- 価格
- 公開価格なし
(見積もり) - 主な仕様
- 口径150mm
- 種類
- 半絶縁性基板
- 向いている所
- 150mm
径のエピ 成長用半絶縁性基板 - カタログ
- あり(PDF)
比較表での位置

半絶縁性 GaAs基板 VB・
- 3社掲載社数
- 6製品比較表の製品
- 2製品同じ種類
- 0製品公開価格あり
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの強みと方式
150mm
向いている所
種類:半絶縁性基板
電気を
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの仕様
- 種類
- 半絶縁性基板
- 導電型・
ドーパント - 半絶縁性、C
コントロール - 結晶の製法
- VB法
- 口径
- 150mm
- キャリア濃度
- 1×
10⁸/cm³以下 - 抵抗率
- 8×
10⁷Ω・cm以上 - 価格
- —公式資料で
確認できず - 転位密度(EPD)
- 平均
10,000/cm²以下 - 厚さ
- 675μm、
550μm - 面方位
- (100)、
(100)2°off - エピの構造
- —公式資料で
確認できず - 表面の
仕上げ - P/P
- 用途
- エピ成長用
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| 半絶縁性 GaAs基板 VB・ | VGF-半絶縁性 GaAs基板 | VGF-n型 LDグレード GaAs基板 | |
|---|---|---|---|
| 種類 | 半絶縁性基板 | 半絶縁性基板 | 導電性基板 |
| 導電型・ | 半絶縁性、C | 半絶縁性、 | n型、 |
| 結晶の製法 | VB法 | VGF法 | VGF法 |
| 口径 | 150mm | 4インチ、 | 6インチ、 |
| キャリア濃度 | 1× | —公式資料で | 0.4〜4E18cm⁻³ |
| 抵抗率 | 8× | 1E7Ω・cm以上 | —公式資料で |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 転位密度(EPD) | 平均 | 平均 | 平均 |
| 厚さ | 675μm、 | 350・ | 350・ |
| 面方位 | (100)、 | (100)0°・ | (100)0°〜15°off |
| エピの構造 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 表面の | P/P | 表面ミラー、 | 表面ミラー、 |
| 用途 | エピ成長用 | —公式資料で | 高出力LD、 |
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledのよくある質問
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledはどんな人に向いている?
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledは、150mm径のエピ成長用半絶縁性基板に使う人向けです。半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledは、150mm径のノッチ付きで標準仕様を公開している半絶縁性基板です。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの強みは?
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの抵抗率は8×10⁷Ω・cm以上、移動度は3000cm²/V・s以上です。オプションでEPDマップと光点欠陥のデータを付けられます。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledはどんな方式?
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの種類は半絶縁性基板です。電気をほとんど通さない基板です。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの主な仕様は?
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの口径は150mm、厚さは675μm、550μmです。導電型・ドーパントは半絶縁性、Cコントロール、結晶の製法はVB法です。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-ControlledとVGF-半絶縁性 GaAs基板はどっちがいい?
150mm径のエピ成長用半絶縁性基板なら半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlled、転位を抑えた半絶縁性の3・4インチならDOWAエレクトロニクスのVGF-半絶縁性 GaAs基板です。半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの口径は150mm、厚さは675μm、550μmです。DOWAエレクトロニクスのVGF-半絶縁性 GaAs基板の口径は4インチ、3インチ、厚さは350・450・625μmです。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledのキャリア濃度は?
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledのキャリア濃度は1×10⁸/cm³以下です。DOWAエレクトロニクスのVGF-n型 LDグレード GaAs基板のキャリア濃度は0.4〜4E18cm⁻³です。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの抵抗率は?
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの抵抗率は8×10⁷Ω・cm以上です。DOWAエレクトロニクスのVGF-半絶縁性 GaAs基板の抵抗率は1E7Ω・cm以上です。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-ControlledとVGF-n型 LDグレード GaAs基板はどっちがいい?
150mm径のエピ成長用半絶縁性基板なら半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlled、高出力LD・VCSELのn型基板ならDOWAエレクトロニクスのVGF-n型 LDグレード GaAs基板です。半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledの口径は150mm、厚さは675μm、550μmです。DOWAエレクトロニクスのVGF-n型 LDグレード GaAs基板の口径は6インチ、4インチ、3インチ、2インチ、厚さは350・450・625・675μmです。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledのほかに住友電気工業のヒ化ガリウムはある?
あります。住友電気工業のヒ化ガリウムには、半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledのほかにレーザー用 GaAs基板 VB・Si(口径は76.0mm、100.0mm、150.0mm)があります。
Q.半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledはどこのメーカー?
半絶縁性 GaAs基板 VB・C-Controlledは住友電気工業株式会社の製品です。登記上の本店は〒541-0041 大阪府大阪市中央区北浜4丁目5番33号。住友電気工業の主な製品分野は光ファイバーケーブル・ヒ化ガリウム・半導体材料・スピネルです。
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