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半導体・電子部品・ディスプレイ・プリント基板の工場や研究室で、回路を写すフォトマスクを選んで発注する、プロセス技術・生産技術・研究開発・購買の担当の方へ

フォトマスクのメーカー9社比較【2026年】

フォトマスクは、半導体や液晶パネル、プリント基板の回路を、
光で写すための原版です。

ABOUT

フォトマスクとは

比較表を見る ↓

フォトマスクとは、半導体・ディスプレイ・プリント基板・MEMSを作るときに、
回路のパターンを写す原版です。
ガラスやフィルムの上に、クロムや乳剤で、
光を通す所と通さない所を作ります。
ステッパーで使うものは、レチクルとも呼びます。

製品の特長

  • 基板で選べる(合成石英・ソーダライム・フィルム)
  • 遮光膜で選べる(クロム・銀塩の乳剤)
  • 大きさの幅が広い(5インチ角から1400×1500mmまで)

使うメリット

  • 同じパターンを何度も写せる(露光装置で基板に転写する)
  • 細かい線を描ける(レチクルは最小寸法0.5μmから)
  • 安い原版も選べる(フィルムマスクはガラスより安い)

選ぶときに注意すること

  1. フィルムは、温度だけでなく湿度でも伸び縮みする
  2. フィルムやエマルジョンの膜はゼラチン質で、傷が付きやすい
  3. ソーダライムは石英より熱で伸びる。精度の厳しい品は石英にする
  4. ゴミが付くとそのまま写る。ステッパー用はペリクルで守る
  5. 値段は公開されていない。大きさ・線幅・精度で見積もる

※仕様は各メーカーの公式の製品ページによる。値段は公開されていないので載せていない。基板と膜の違いはエクア、構造は日本フイルコン、マスクの種類はテクセンドフォトマスクとエスケーエレクトロニクスの解説による。

LIST

フォトマスクの比較表

フォトマスク14製品の比較
製品・メーカーコスト製品の強み仕様公式ページ

小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)

4製品
株式会社エクアクロムマスク 小サイズ(228.6mm角)228.6mm角までの小型・高精度口コミを書く要見積

レーザー描画で作る小型のクロムマスクで、最小線幅は1μm、線幅精度は±0.1μmから選べます。基板は228.6mm角までで、合成石英とソーダライムがあります。濃度や透過率を変えたグラデーションのパターンも設計します。

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
品種
低反射二層クロム(光学濃度3.0OD)
基板
合成石英、ソーダライム
基板サイズ
最大228.6×228.6mm
最小線幅
1μm
線幅精度
±0.1・±0.3・±0.5・±1.0μm
描画エリア
212.8×212.8mm
記載なし
位置精度・主な用途
公式ページへ詳細・仕様
テクセンドフォトマスク株式会社各種用途向けフォトマスク(5・6インチ)MEMS・パッケージ用の石英マスク口コミを書く要見積

半導体用フォトマスクの技術で、MEMSやパッケージ向けの石英マスクを作ります。基板は5インチ角と6インチ角の合成石英で、ペリクルも貼れます。GDSやガーバーのデータのほか、図面からも作れます。

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
基板
合成石英、厚み0.09〜0.25インチ
基板サイズ
5インチ角(127.0mm)、6インチ角(152.4mm)
主な用途
MEMS、ICバンプ、半導体パッケージ、マイクロレンズアレイ
記載なし
品種・最小線幅・線幅精度・描画エリア・位置精度
公式ページへ詳細・仕様
東洋精密工業株式会社9インチから700×800mmまでのクロムマスク試作の小ロットを短納期で口コミを書く要見積

マスターマスクからコピーマスク、大型マスクまで作るマスクショップです。最小線幅は1.0μmから、線幅精度は±0.1μmからです。短い納期と、データの作成や補正の手伝いにも応じます。

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
品種
クロムマスク
基板
ソーダライムガラス、合成石英
基板サイズ
〜9インチ、10インチ〜700×800mm
最小線幅
1.0μm〜
線幅精度
±0.1μm〜
位置精度
ピッチ±1.0μm〜
主な用途
半導体素子、パッケージ、ディスプレイ、MEMSセンサ
記載なし
描画エリア
公式ページへ詳細・仕様
日本フイルコン株式会社半導体用レチクル(5・6インチ)パワー半導体・ASICのステッパー用口コミを書く要見積

ステッパーとスキャナーで使う、石英のレチクルです。最小寸法0.5μmから、寸法と位置の保証は±0.05μmです。0.35μmルールのディスクリートやパワーデバイス、マイコン向けに納めています。

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
品種
2層クロム(バイナリー)
基板
石英
基板サイズ
5×5×0.09インチ、6×6×0.25インチ
最小線幅
0.5μm〜
線幅精度
±0.05μm
位置精度
±0.05μm
主な用途
ディスクリート、パワーデバイス、ASIC、マイコン
記載なし
描画エリア
公式ページへ詳細・仕様

大型クロムマスク(FPD・基板用)

4製品
株式会社エスケーエレクトロニクスFPD用大型フォトマスク(第10・11世代)第10・11世代の大型液晶パネル口コミを書く要見積

液晶パネルの第10世代と第11世代に使う、超大型のフォトマスクを滋賀工場で量産します。中間の露光ができるグレイトーンマスクとハーフトーンマスクも作ります。第10世代以上のフォトマスクを量産できる体制は、業界で初めて整えました。

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
品種
グレイトーンマスク、ハーフトーンマスク
基板サイズ
第10世代、第11世代のパネル用
主な用途
液晶パネル
記載なし
基板・最小線幅・線幅精度・描画エリア・位置精度
公式ページへ詳細・仕様
竹田東京プロセスサービス株式会社クロムガラスマスクMEMS・WLP・パネル用の高精細口コミを書く要見積

遮光膜を低反射2層・単層・3層のクロムから選べるガラスマスクです。最小ラインは2μmで、700×800mmまで作れます。人工石英を選ぶと、露光中の温度変化で寸法が動きにくくなります。

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
品種
低反射2層クロム、単層クロム、3層クロム
基板
ソーダライム、人工石英
基板サイズ
〜700×800mm、厚み1.0〜5.0mm
最小線幅
2μm〜
線幅精度
短寸法±0.2μm〜
位置精度
長寸法±0.5μm〜
主な用途
MEMS、LCD、OLED、WLP、薄膜チップ部品
記載なし
描画エリア
公式ページへ詳細・仕様
日本フイルコン株式会社大版フォトマスク(10〜32インチ)基板・パネル用の10インチ超口コミを書く要見積

プリント基板や液晶・有機EL・タッチパネルに使う、10インチより大きいフォトマスクです。最大813mm×813mmまで作れ、線幅はL/S 5/5μm、線幅精度は±0.3μmからです。基板は石英とソーダライムから選べます。

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
基板
石英、ソーダライム
基板サイズ
10×10〜32×32インチ、最大813mm×813mm
最小線幅
L/S 5/5μm
線幅精度
±0.3μm〜
位置精度
トータルピッチ±0.4μm〜
主な用途
プリント基板、液晶、有機EL、タッチパネル
記載なし
品種・描画エリア
公式ページへ詳細・仕様
メッシュ株式会社大型クロムマスク(1400×1500mm)大型パネル用の1400×1500mm口コミを書く要見積

1400×1500mmまでの大型クロムマスクを作ります。描画エリアは1350×1450mmで、最小寸法は0.75μmです。大型のマスクを全面で測れる装置で検査します。

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
品種
クロムマスク
基板
ソーダライムガラス、合成石英
基板サイズ
〜1400×1500mm
最小線幅
0.75μm(描画モードI)
線幅精度
CD均一性65nm(3σ)
描画エリア
1350×1450mm
位置精度
重ね精度225nm(3σ)
主な用途
有機EL、タッチパネル、液晶パネル、電子部品
公式ページへ詳細・仕様

フィルム・エマルジョンマスク

3製品
株式会社エクアフィルムマスク(2300×1506mm)2m級の大判フィルム口コミを書く要見積

PETに銀塩の乳剤を塗ったフィルムマスクを、最大2300×1506mmの大判まで作ります。最小線幅は20μm、線幅精度は±4.0μmです。表面はゼラチンなので、傷が付かないように扱います。

種類
フィルム・エマルジョンマスク
品種
写真銀塩乳剤
基板
PET
基板サイズ
最大2300×1506mm
最小線幅
20μm
線幅精度
±4.0μm
描画エリア
2200×1400mm程度
記載なし
位置精度・主な用途
公式ページへ詳細・仕様
竹田東京プロセスサービス株式会社エマルジョンガラスマスクフィルムより寸法が動かない乳剤口コミを書く要見積

銀塩の乳剤をガラスに塗ったマスクで、フィルムマスクより寸法が動きません。最小ラインは10μmからで、711×813mmまで作れます。ハードコートも付けられます。

種類
フィルム・エマルジョンマスク
品種
銀塩ゼラチン乳剤
基板
ソーダライム
基板サイズ
〜711×813mm、厚み1.8〜5.0mm
最小線幅
10μm〜
線幅精度
短寸法±1.0μm〜
位置精度
長寸法±3.0μm〜
主な用途
LCD、OLED、電子部品、パッケージ
記載なし
描画エリア
公式ページへ詳細・仕様
メッシュ株式会社フィルムマスク(711.2×812.8mm)基板・電子部品の安価な原版口コミを書く要見積

ポリエステルのフィルムに描く、安く早く作れるフォトマスクです。基板は28×32インチ(711.2×812.8mm)ま⁠で⁠、最小線幅は30μmです。位置精度は100mmあたり±10μmです。

種類
フィルム・エマルジョンマスク
品種
フィルムマスク
基板
ポリエステル
基板サイズ
〜28×32インチ(711.2×812.8mm)
最小線幅
30μm
線幅精度
±3μm〜
描画エリア
600×700mm
位置精度
±10μm/100mm
記載なし
主な用途
公式ページへ詳細・仕様

ナノインプリント用の型・3Dマスク

3製品
株式会社コシブ精密フォトマスク3Dマイクロレンズなど立体の形口コミを書く要見積

立体の形を作るためのフォトマスクで、マイクロレンズアレイや流路、フレネルレンズに使います。描ける大きさは最大400mm角です。ニッケル電鋳やインプリントまで、協力先と組んで相談に乗ります。

種類
ナノインプリント用の型・3Dマスク
描画エリア
最大400mm角
主な用途
マイクロレンズアレイ、流路、フレネルレンズ、DOE
記載なし
品種・基板・基板サイズ・最小線幅・線幅精度・位置精度
公式ページへ詳細・仕様
大日本印刷株式会社マスター金型(ナノインプリント用)20nm級の微細な型と立体の型口コミを書く要見積

20nm程度の細かい凹凸や、立体の形を持つ型を作ります。大きさは最大6インチ角です。型押しで同じ形をたくさん作るナノインプリント向けです。

種類
ナノインプリント用の型・3Dマスク
基板サイズ
最大6インチ角
最小線幅
20nm程度
記載なし
品種・基板・線幅精度・描画エリア・位置精度・主な用途
公式ページへ詳細・仕様
テクセンドフォトマスク株式会社ナノインプリント用石英モールド 6025数十nmの凹凸を型押しで写す口コミを書く要見積

半導体用フォトマスクと同じ石英と工程で作る、ナノインプリントの型です。基板は6025(152×152×6.35mm)で、数十nmの細かい凹凸を作れます。多段の立体の型も作っています。

種類
ナノインプリント用の型・3Dマスク
基板
石英
基板サイズ
6025(152×152×6.35mm)
最小線幅
数十nmレベル
記載なし
品種・線幅精度・描画エリア・位置精度・主な用途
公式ページへ詳細・仕様

小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)4製品

株式会社エクア

クロムマスク 小サイズ(228.6mm角)

228.6mm角までの小型・高精度

レーザー描画で作る小型のクロムマスクで、最小線幅は1μm、線幅精度は±0.1μmから選べます。基板は228.6mm角までで、合成石英とソーダライムがあります。濃度や透過率を変えたグラデーションのパターンも設計します。

コスト要見積

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
品種
低反射二層クロム(光学濃度3.0OD)
基板
合成石英、ソーダライム
基板サイズ
最大228.6×228.6mm
最小線幅
1μm
線幅精度
±0.1・±0.3・±0.5・±1.0μm
描画エリア
212.8×212.8mm
記載なし
位置精度・主な用途
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テクセンドフォトマスク株式会社

各種用途向けフォトマスク(5・6インチ)

MEMS・パッケージ用の石英マスク

半導体用フォトマスクの技術で、MEMSやパッケージ向けの石英マスクを作ります。基板は5インチ角と6インチ角の合成石英で、ペリクルも貼れます。GDSやガーバーのデータのほか、図面からも作れます。

コスト要見積

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
基板
合成石英、厚み0.09〜0.25インチ
基板サイズ
5インチ角(127.0mm)、6インチ角(152.4mm)
主な用途
MEMS、ICバンプ、半導体パッケージ、マイクロレンズアレイ
記載なし
品種・最小線幅・線幅精度・描画エリア・位置精度
公式ページへ
東洋精密工業株式会社

9インチから700×800mmまでのクロムマスク

試作の小ロットを短納期で

マスターマスクからコピーマスク、大型マスクまで作るマスクショップです。最小線幅は1.0μmから、線幅精度は±0.1μmからです。短い納期と、データの作成や補正の手伝いにも応じます。

コスト要見積

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
品種
クロムマスク
基板
ソーダライムガラス、合成石英
基板サイズ
〜9インチ、10インチ〜700×800mm
最小線幅
1.0μm〜
線幅精度
±0.1μm〜
位置精度
ピッチ±1.0μm〜
主な用途
半導体素子、パッケージ、ディスプレイ、MEMSセンサ
記載なし
描画エリア
公式ページへ
日本フイルコン株式会社

半導体用レチクル(5・6インチ)

パワー半導体・ASICのステッパー用

ステッパーとスキャナーで使う、石英のレチクルです。最小寸法0.5μmから、寸法と位置の保証は±0.05μmです。0.35μmルールのディスクリートやパワーデバイス、マイコン向けに納めています。

コスト要見積

種類
小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)
品種
2層クロム(バイナリー)
基板
石英
基板サイズ
5×5×0.09インチ、6×6×0.25インチ
最小線幅
0.5μm〜
線幅精度
±0.05μm
位置精度
±0.05μm
主な用途
ディスクリート、パワーデバイス、ASIC、マイコン
記載なし
描画エリア
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大型クロムマスク(FPD・基板用)4製品

株式会社エスケーエレクトロニクス

FPD用大型フォトマスク(第10・11世代)

第10・11世代の大型液晶パネル

液晶パネルの第10世代と第11世代に使う、超大型のフォトマスクを滋賀工場で量産します。中間の露光ができるグレイトーンマスクとハーフトーンマスクも作ります。第10世代以上のフォトマスクを量産できる体制は、業界で初めて整えました。

コスト要見積

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
品種
グレイトーンマスク、ハーフトーンマスク
基板サイズ
第10世代、第11世代のパネル用
主な用途
液晶パネル
記載なし
基板・最小線幅・線幅精度・描画エリア・位置精度
公式ページへ
竹田東京プロセスサービス株式会社

クロムガラスマスク

MEMS・WLP・パネル用の高精細

遮光膜を低反射2層・単層・3層のクロムから選べるガラスマスクです。最小ラインは2μmで、700×800mmまで作れます。人工石英を選ぶと、露光中の温度変化で寸法が動きにくくなります。

コスト要見積

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
品種
低反射2層クロム、単層クロム、3層クロム
基板
ソーダライム、人工石英
基板サイズ
〜700×800mm、厚み1.0〜5.0mm
最小線幅
2μm〜
線幅精度
短寸法±0.2μm〜
位置精度
長寸法±0.5μm〜
主な用途
MEMS、LCD、OLED、WLP、薄膜チップ部品
記載なし
描画エリア
公式ページへ
日本フイルコン株式会社

大版フォトマスク(10〜32インチ)

基板・パネル用の10インチ超

プリント基板や液晶・有機EL・タッチパネルに使う、10インチより大きいフォトマスクです。最大813mm×813mmまで作れ、線幅はL/S 5/5μm、線幅精度は±0.3μmからです。基板は石英とソーダライムから選べます。

コスト要見積

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
基板
石英、ソーダライム
基板サイズ
10×10〜32×32インチ、最大813mm×813mm
最小線幅
L/S 5/5μm
線幅精度
±0.3μm〜
位置精度
トータルピッチ±0.4μm〜
主な用途
プリント基板、液晶、有機EL、タッチパネル
記載なし
品種・描画エリア
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メッシュ株式会社

大型クロムマスク(1400×1500mm)

大型パネル用の1400×1500mm

1400×1500mmまでの大型クロムマスクを作ります。描画エリアは1350×1450mmで、最小寸法は0.75μmです。大型のマスクを全面で測れる装置で検査します。

コスト要見積

種類
大型クロムマスク(FPD・基板用)
品種
クロムマスク
基板
ソーダライムガラス、合成石英
基板サイズ
〜1400×1500mm
最小線幅
0.75μm(描画モードI)
線幅精度
CD均一性65nm(3σ)
描画エリア
1350×1450mm
位置精度
重ね精度225nm(3σ)
主な用途
有機EL、タッチパネル、液晶パネル、電子部品
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フィルム・エマルジョンマスク3製品

株式会社エクア

フィルムマスク(2300×1506mm)

2m級の大判フィルム

PETに銀塩の乳剤を塗ったフィルムマスクを、最大2300×1506mmの大判まで作ります。最小線幅は20μm、線幅精度は±4.0μmです。表面はゼラチンなので、傷が付かないように扱います。

コスト要見積

種類
フィルム・エマルジョンマスク
品種
写真銀塩乳剤
基板
PET
基板サイズ
最大2300×1506mm
最小線幅
20μm
線幅精度
±4.0μm
描画エリア
2200×1400mm程度
記載なし
位置精度・主な用途
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竹田東京プロセスサービス株式会社

エマルジョンガラスマスク

フィルムより寸法が動かない乳剤

銀塩の乳剤をガラスに塗ったマスクで、フィルムマスクより寸法が動きません。最小ラインは10μmからで、711×813mmまで作れます。ハードコートも付けられます。

コスト要見積

種類
フィルム・エマルジョンマスク
品種
銀塩ゼラチン乳剤
基板
ソーダライム
基板サイズ
〜711×813mm、厚み1.8〜5.0mm
最小線幅
10μm〜
線幅精度
短寸法±1.0μm〜
位置精度
長寸法±3.0μm〜
主な用途
LCD、OLED、電子部品、パッケージ
記載なし
描画エリア
公式ページへ
メッシュ株式会社

フィルムマスク(711.2×812.8mm)

基板・電子部品の安価な原版

ポリエステルのフィルムに描く、安く早く作れるフォトマスクです。基板は28×32インチ(711.2×812.8mm)ま⁠で⁠、最小線幅は30μmです。位置精度は100mmあたり±10μmです。

コスト要見積

種類
フィルム・エマルジョンマスク
品種
フィルムマスク
基板
ポリエステル
基板サイズ
〜28×32インチ(711.2×812.8mm)
最小線幅
30μm
線幅精度
±3μm〜
描画エリア
600×700mm
位置精度
±10μm/100mm
記載なし
主な用途
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ナノインプリント用の型・3Dマスク3製品

株式会社コシブ精密

フォトマスク3D

マイクロレンズなど立体の形

立体の形を作るためのフォトマスクで、マイクロレンズアレイや流路、フレネルレンズに使います。描ける大きさは最大400mm角です。ニッケル電鋳やインプリントまで、協力先と組んで相談に乗ります。

コスト要見積

種類
ナノインプリント用の型・3Dマスク
描画エリア
最大400mm角
主な用途
マイクロレンズアレイ、流路、フレネルレンズ、DOE
記載なし
品種・基板・基板サイズ・最小線幅・線幅精度・位置精度
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大日本印刷株式会社

マスター金型(ナノインプリント用)

20nm級の微細な型と立体の型

20nm程度の細かい凹凸や、立体の形を持つ型を作ります。大きさは最大6インチ角です。型押しで同じ形をたくさん作るナノインプリント向けです。

コスト要見積

種類
ナノインプリント用の型・3Dマスク
基板サイズ
最大6インチ角
最小線幅
20nm程度
記載なし
品種・基板・線幅精度・描画エリア・位置精度・主な用途
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テクセンドフォトマスク株式会社

ナノインプリント用石英モールド 6025

数十nmの凹凸を型押しで写す

半導体用フォトマスクと同じ石英と工程で作る、ナノインプリントの型です。基板は6025(152×152×6.35mm)で、数十nmの細かい凹凸を作れます。多段の立体の型も作っています。

コスト要見積

種類
ナノインプリント用の型・3Dマスク
基板
石英
基板サイズ
6025(152×152×6.35mm)
最小線幅
数十nmレベル
記載なし
品種・線幅精度・描画エリア・位置精度・主な用途
公式ページへ
Q&A

フォトマスク選びで、よくある疑問

購買担当の疑問フォトマスクの価格は、いくら?

フォトマスクは受注生産で、ここに載せた9社とも公式サイトに値段を出していません。大きさ・最小線幅・精度・枚数で変わるので、データを渡して見積もりをとります。フィルムマスクはガラスのマスクより安く、日本フイルコンはコストパフォーマンスに優れた製品と案内しています。

設備担当の疑問フォトマスクの種類と違いは?

基板と遮光膜で分かれます。ガラスにクロムで描くクロムマスク、ガラスに銀塩の乳剤を塗るエマルジョンマスク、ポリエステルに乳剤を塗るフィルムマスクです。半導体用には、光の位相を変える位相シフトマスクや、反射で写すEUVマスクもあります。

設備担当の疑問クロムマスクとフィルムマスクの違いは?

クロムマスクは細かく、寸法も動きにくいマスクです。最小線幅はメッシュの大型クロムマスクが0.75μm、エクアの小型が1μmです。フィルムマスクは安く早くできますが、最小線幅はメッシュが30μm、エクアが20μmで、湿度でも伸び縮みします。

設備担当の疑問石英とソーダライムの違いは?

熱での伸びが違います。エクアの解説では、1℃・100mmあたり合成石英は0.05μm、ソーダライムは0.8μm伸びます。竹田東京プロセスサービスの温度変化率は、ソーダライムが0.00085%、人工石英が0.00006%です。露光中の温度で寸法を動かしたくないなら石英にします。

工場長の疑問フォトマスクのサイズは、どこまで作れる?

半導体用は5インチ角と6インチ角が中心で、テクセンドフォトマスクは6インチ角(152.4mm)⁠ま⁠で作ります。大型は日本フイルコンが813mm×813mmまで、メッシュが1400×1500mmまでです。フィルムはエクアが2300×1506mmまで作ります。

設備担当の疑問フォトマスクの最小線幅と精度は?

日本フイルコンのレチクルは最小寸法0.5μmから、寸法の保証は±0.05μmです。東洋精密工業は最小線幅1.0μmから、線幅精度±0.1μmからです。竹田東京プロセスサービスはクロムガラスマスクが2μmから、エマルジョンガラスマスクが10μmからです。

設備担当の疑問位相シフトマスク・ハーフトーンマスクとは?

位相シフトマスクは、光の位相や透過率を変えて、露光の解像度と焦点深度を良くしたマスクです。ハーフトーンマスクは、半透過の膜で中間の露光をするマスクです。エスケーエレクトロニクスは、パネル用にハーフトーンマスクとグレイトーンマスクを作ります。

設備担当の疑問レチクルとフォトマスクの違いは?

レチクルは、ステッパーやスキャナーでウェハに回路を写すフォトマスクのことです。日本フイルコンは、アライナーで一括に写すものをワーキングマスクと呼んで分けています。レチクルは石英の5インチ角か6インチ角が中心です。

施設管理の疑問ペリクルとは?付けたほうがいい?

ペリクルは、クロムマスクの表面にゴミが付かないように守る保護膜です。主にステッパーなどの露光装置で使い、使える機種は装置で決まります。テクセンドフォトマスクの各種用途向けフォトマスクは、ペリクルを貼って納められます。

設備担当の疑問ナノインプリント用のモールドとは?

型を押し当てて、数十nm単位のパターンを写すナノインプリントの原版です。方式はUVと熱の2種類です。テクセンドフォトマスクは6025(152×152×6.35mm)の石英モールド、大日本印刷は最大6インチ角で20nm程度の型を作ります。

施設管理の疑問フォトマスクの扱いと手入れは?

フィルムやエマルジョンの膜はゼラチン質で、傷が付きやすいので、膜の面に触れずに扱います。竹田東京プロセスサービスは、エマルジョンガラスマスクにハードコートを、クロムガラスマスクに撥水撥油のコートを付けられます。ゴミはそのまま写るので、ペリクルで守る方法もあります。

購買担当の疑問発注に使えるデータの形式は?

竹田東京プロセスサービスはGerber・DWG・DXF・GDS・ODB++、メッシュはDXF・ガーバー・GDS IIなどを受け付けます。エクアは図面やラフスケッチからデータを作ります。テクセンドフォトマスクも図面の支給で作れます。

TYPES

フォトマスクの種類の違い

小型クロムマスク(レチクル・9インチまで)

石英やソーダライムのガラスに、クロムで回路を描いた9インチまでのマスクです。ステッパー・スキャナー用のレチクルと、アライナーで一括に写すマスクがあります。細かい線が描け、日本フイルコンのレチクルは最小寸法0.5μmからです。

向いている使い方

  • 半導体・パワーデバイスの露光
  • MEMS・パッケージの試作
  • 0.5〜1μmの細かい線

根拠:ステッパー/スキャナー(ステップ&リピート露光方式)でウェハに回路パターンを転写するためのフォトマスクです。(出典1)

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大型クロムマスク(FPD・基板用)

10インチを超える大きなガラスにクロムで描いたマスクで、液晶・有機ELのパネルやプリント基板に使います。メッシュは1400×1500mmまで、エスケーエレクトロニクスは第10・11世代のパネル用まで作ります。

向いている使い方

  • 液晶・有機ELパネルの露光
  • プリント基板・パッケージ基板
  • タッチパネル

根拠:プリント基板や液晶・有機EL・タッチパネル等の表示デバイスに使用されている10インチ以上のフォトマスクです。(出典2)

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フィルム・エマルジョンマスク

ポリエステルのフィルムやガラスに、銀塩の乳剤でパターンを作るマスクです。クロムマスクより安く早くでき、プリント基板やタッチパネルに使います。最小線幅は10〜30μmほどからです。

向いている使い方

  • プリント基板・FPCの露光
  • 安く早く原版を作りたい
  • 大判の原版

根拠:フイルムマスクは、ガラスマスクと比べコストパフォーマンスに優れた製品です。(出典3)

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ナノインプリント用の型・3Dマスク

型を押し当ててパターンを写すナノインプリントの原版と、立体の形を作るマスクです。テクセンドフォトマスクと大日本印刷は、数十nmから20nm程度の細かい凹凸の型を作ります。コシブ精密は、マイクロレンズなど立体の形のマスクを作ります。

向いている使い方

  • 光学素子・回折格子の量産
  • マイクロレンズアレイ
  • nm単位の凹凸の研究開発

根拠:原版となるモールド(金型)を型押しすることで、数十ナノメートル単位のパターンを転写する微細加工技術です。(出典6)

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MAKERS

フォトマスクの主なメーカー9社

株式会社エクア

レーザー描画で作る小型のクロムマスクで、最小線幅は1μm、線幅精度は±0.1μmから選べます。

神奈川県

株式会社エスケーエレクトロニクス

液晶パネルの第10世代と第11世代に使う、超大型のフォトマスクを滋賀工場で量産します。

京都府

株式会社コシブ精密

立体の形を作るためのフォトマスクで、マイクロレンズアレイや流路、フレネルレンズに使います。

東京都

竹田東京プロセスサービス株式会社

遮光膜を低反射2層・単層・3層のクロムから選べるガラスマスクです。

東京都

大日本印刷株式会社

20nm程度の細かい凹凸や、立体の形を持つ型を作ります。

東京都

テクセンドフォトマスク株式会社

半導体用フォトマスクの技術で、MEMSやパッケージ向けの石英マスクを作ります。

東京都

東洋精密工業株式会社

マスターマスクからコピーマスク、大型マスクまで作るマスクショップです。

奈良県

日本フイルコン株式会社

ステッパーとスキャナーで使う、石英のレチクルです。

東京都

メッシュ株式会社

1400×1500mmまでの大型クロムマスクを作ります。

大阪府

出典
  1. 日本フイルコン フォトマスクの種類とマスクサイズ
  2. 日本フイルコン 大版マスク
  3. 日本フイルコン フイルムマスク
  4. テクセンドフォトマスク 半導体用フォトマスク
  5. テクセンドフォトマスク 各種用途向けフォトマスク
  6. テクセンドフォトマスク ナノインプリント用モールド
  7. エスケーエレクトロニクス SKEの技術
  8. エスケーエレクトロニクス 滋賀工場
  9. メッシュ フォトマスク
  10. メッシュ クロムマスク
  11. メッシュ フィルムマスク
  12. 竹田東京プロセスサービス フォトマスク
  13. エクア フォトマスクの種類と構造
  14. エクア フォトマスクの基本仕様と規格
  15. 東洋精密工業 フォトマスク事業
  16. 大日本印刷 DNPナノインプリントソリューション
  17. コシブ精密 フォトマスク2D・3D
  18. 日本フイルコン 半導体向けフォトマスク
  19. 日本フイルコン フォトマスクの構造と基本プロセス
  20. エスケーエレクトロニクス SKEのフォトマスク
掲載基準

半導体・ディスプレイ・プリント基板・MEMSの露光工程で回路のパターンを写すフォトマスク(レチクル・クロムマスク・エマルジョンマスク・フィルムマスク)と、ナノインプリント用の型・立体用のマスクで、日本の会社が自社で作り、公式サイトで今案内していて、基板サイズや最小線幅などの仕様を公式資料で確かめられたものを載せています。フォトマスクは受注生産なので、型番ではなく品種の単位で、1社2品種まで載せています。フォトマスクの材料のマスクブランクス、感光材のフォトレジスト(「フォトレジスト」の比較)、露光装置(「半導体用ステッパー」の比較)、印刷用のメタルマスクとスクリーンマスク、マスクを入れるケースは載せていません。HOYAはFPD用のフォトマスクを作っていますが公式に仕様の記載がなく、テクセンドフォトマスクの半導体用フォトマスク(バイナリー・位相シフト・EUV)とコシブ精密のフォトマスク2Dも仕様の数字の公開がないので、載せていません。大日本印刷はフォトマスクの製品ページを確かめられなかったので、ナノインプリント用の型だけを載せています。アルバック成膜はマスクブランクスのメーカーなので除いています。

フォトマスクを作っているメーカーの方へ:掲載・訂正のご依頼(掲載は無料です)

CITE

引用

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