分光エリプソメーター M-2000

分光エリプソメーター M-2000は、全波長を同時に取り成膜中も追う人向けです。分光エリプソメーター M-2000は、回転補償子とCCDを組み合わせ、全波長を同時に取る方式です。

分光エリプソメーター M-2000は、全スペクトルを最短0.05秒で取れるので、成膜中の変化を追う測定に使えます。日本語の公式サイトは休止中で、日本での販売中かは未確認です。

分光エリプソメーター M-2000の方式は回転補償子式（RCE）、波長範囲は193nm〜1690nm（構成による）⁠で⁠す⁠。入射角は45°〜90°（自動角度台）、試料は厚さ18mmまでです。

全波長を同時に取り成膜中も追うなら分光エリプソメーター M-2000、レジストのn・kを波長ごとに評価する開発なら大塚電子の分光エリプソメーター FE-5000です。分光エリプソメーター M-2000の方式は回転補償子式（RCE）、波長範囲は193nm〜1690nm（構成による）⁠で⁠す⁠。大塚電子の分光エリプソメーター FE-5000の方式は回転検光子法、波長範囲は300nm〜800nmです。

分光エリプソメーター M-2000の測定の速さは全波長で最短0.05秒です。大塚電子の分光エリプソメーター FE-5000の測定の速さは400ch以上の多チャンネル分光です。

分光エリプソメーター M-2000の電源はAC100〜240V、47〜63Hzです。堀場製作所の分光エリプソメーター UVISEL Plusの電源はAC100V、50/60Hzです。

全波長を同時に取り成膜中も追うなら分光エリプソメーター M-2000、レジスト膜の面内むらを高密度に見るならフォトニックラティスの高速エリプソメーター ME-210です。分光エリプソメーター M-2000の方式は回転補償子式（RCE）、波長範囲は193nm〜1690nm（構成による）⁠で⁠す⁠。フォトニックラティスの高速エリプソメーター ME-210の方式は2次元分布測定（マッピング）、波長範囲は636nmです。

分光エリプソメーター M-2000はジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社の製品です。登記上の本店は〒167-0051 東京都杉並区荻窪5丁目22番9号。ジェー・エー・ウーラム・ジャパンの主な製品分野はエリプソメーターです。