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半導体のALD・CVD成膜や重合触媒の原料にトリメチルアルミニウム(TMA)を選ぶ、プロセス開発・製造・設備・購買の担当の方へ

トリメチルアルミニウムのメーカー3社比較【2026年】

トリメチルアルミニウムは、アルミニウムにメチル基が3つ結びついた、
空気に触れると発火する液体です。

ABOUT

トリメチルアルミニウムとは

比較表を見る ↓

トリメチルアルミニウムとは、アルミニウムにメチル基が3つ結びついた、
常温で液体の有機アルミニウムです。
半導体の成膜の前駆体や重合の助触媒に使います。
TMA・TMALとも呼びます。

製品の特長

  • 空気に触れると発火する(公式の引火点の欄も自然発火性)
  • 水と激しく反応する(酸や酸化剤とも反応する)
  • 融点は15℃、沸点は127℃(東ソー・ファインケムの値)

使うメリット

  • 酸化アルミの前駆体になる(MO-CVD・ALD・CVD)
  • High-K膜の材料になる(トリケミカル研究所の一覧)
  • 重合の助触媒になる(ランクセスの案内)

選ぶときに注意すること

  1. 空気に触れると発火する。乾いた窒素などの中で扱う
  2. 水・酸・酸化剤に近づけない
  3. 燃えやすい物から離し、40℃を超えない乾いた所にしまう
  4. 融点は15℃なので、寒い場所では固まることを見込んで配管と容器を決める

※製品の案内は各メーカーの公式の製品ページによる。空気や水との反応、しまい方はアルベマールのTMA-HPの製品ページによる(同社は日本での案内を確かめられず表には載せていない)。

LIST

トリメチルアルミニウムの比較表

トリメチルアルミニウム3製品の比較
製品・メーカーコスト製品の強み仕様公式ページ

成膜用(MO-CVD・High-K・化合物半導体)

2製品
東ソー・ファインケム株式会社トリメチルアルミニウム EG-TMALMO-CVDで酸化アルミを作る工程口コミを書く要見積

MO-CVD用のEG-TMALを、25gから600gのSUS容器で出しています。外装はペール缶です。品質の安定性と容器使用率を公式に打ち出していて、純度の数字は公開していません。

用途
成膜用(MO-CVD・High-K・化合物半導体)
用途
MO-CVD材料、高純度酸化アルミの前駆体
荷姿・容量
SUS容器25g・100g・300g・600g、外装ペール缶
沸点
127℃
融点
15℃
比重・密度
0.752g/ml(25℃)
外観
無色~淡黄色透明液体
CAS番号
75-24-1
記載なし
そのほかの用途・純度・蒸気圧
公式ページへ詳細・仕様
株式会社トリケミカル研究所トリメチルアルミニウム TMAHigh-K膜と化合物半導体の材料口コミを書く要見積

Si半導体のHigh-K材料と、化合物半導体用材料の両方の一覧にTMAを載せています。Si半導体用材料は、独自の製造・精製技術で超高純度にしていると案内しています。純度と荷姿は公開していないので、見積依頼で聞きます。

用途
成膜用(MO-CVD・High-K・化合物半導体)
用途
High-K材料
そのほかの用途
化合物半導体用材料
CAS番号
75-24-1
記載なし
純度・荷姿・容量・沸点・融点・比重・密度・蒸気圧・外観
公式ページへ詳細・仕様

重合の助触媒と成膜の両用

1製品
ランクセス株式会社Trimethylaluminum (TMA) AXION重合の助触媒と成膜の両方口コミを書く要見積

1つの製品ページで、オレフィン重合の助触媒と、ALD・CVD・MOCVDの前駆体の両方を案内しています。太陽電池のパッシベーション膜の材料にも使えると書いています。純度と荷姿は公開していないので、問い合わせで確かめます。

用途
重合の助触媒と成膜の両用
用途
ALD・CVD・MOCVDの酸化アルミニウム膜の前駆体
そのほかの用途
オレフィン重合の助触媒
CAS番号
75-24-1
記載なし
純度・荷姿・容量・沸点・融点・比重・密度・蒸気圧・外観
公式ページへ詳細・仕様

成膜用(MO-CVD・High-K・化合物半導体)2製品

東ソー・ファインケム株式会社

トリメチルアルミニウム EG-TMAL

MO-CVDで酸化アルミを作る工程

MO-CVD用のEG-TMALを、25gから600gのSUS容器で出しています。外装はペール缶です。品質の安定性と容器使用率を公式に打ち出していて、純度の数字は公開していません。

コスト要見積

用途
成膜用(MO-CVD・High-K・化合物半導体)
用途
MO-CVD材料、高純度酸化アルミの前駆体
荷姿・容量
SUS容器25g・100g・300g・600g、外装ペール缶
沸点
127℃
融点
15℃
比重・密度
0.752g/ml(25℃)
外観
無色~淡黄色透明液体
CAS番号
75-24-1
記載なし
そのほかの用途・純度・蒸気圧
公式ページへ
株式会社トリケミカル研究所

トリメチルアルミニウム TMA

High-K膜と化合物半導体の材料

Si半導体のHigh-K材料と、化合物半導体用材料の両方の一覧にTMAを載せています。Si半導体用材料は、独自の製造・精製技術で超高純度にしていると案内しています。純度と荷姿は公開していないので、見積依頼で聞きます。

コスト要見積

用途
成膜用(MO-CVD・High-K・化合物半導体)
用途
High-K材料
そのほかの用途
化合物半導体用材料
CAS番号
75-24-1
記載なし
純度・荷姿・容量・沸点・融点・比重・密度・蒸気圧・外観
公式ページへ

重合の助触媒と成膜の両用1製品

ランクセス株式会社

Trimethylaluminum (TMA) AXION

重合の助触媒と成膜の両方

1つの製品ページで、オレフィン重合の助触媒と、ALD・CVD・MOCVDの前駆体の両方を案内しています。太陽電池のパッシベーション膜の材料にも使えると書いています。純度と荷姿は公開していないので、問い合わせで確かめます。

コスト要見積

用途
重合の助触媒と成膜の両用
用途
ALD・CVD・MOCVDの酸化アルミニウム膜の前駆体
そのほかの用途
オレフィン重合の助触媒
CAS番号
75-24-1
記載なし
純度・荷姿・容量・沸点・融点・比重・密度・蒸気圧・外観
公式ページへ
Q&A

トリメチルアルミニウム選びで、よくある疑問

購買担当の疑問トリメチルアルミニウムの価格は、いくら?

このページの3社は、公式サイトに価格を出していません。東ソー・ファインケムは問い合わせ、トリケミカル研究所は見積依頼のページから聞きます。表に載せていない関東化学のn-ヘキサン溶液は、100mLで9,400円(税抜)⁠で⁠⁠⁠⁠す⁠。

設備担当の疑問トリメチルアルミニウムの種類と違いは?

公式の案内で2つに分けました。東ソー・ファインケムのEG-TMALとトリケミカル研究所のTMAは成膜用です。ランクセスのAXIONは、重合の助触媒と成膜の両方に案内しています。

購買担当の疑問トリメチルアルミニウムの純度は?

3製品とも、純度の数字を公式に出していません。トリケミカル研究所は独自の製造・精製技術で超高純度のSi半導体材料を作ると書いています。必要な純度と金属不純物の値は、見積のときに書面で聞きます。

設備担当の疑問TMAとTMALの違いは?

どちらもトリメチルアルミニウムの略で、同じ物質です。トリケミカル研究所はTMA、東ソー・ファインケムはTMALと書いています。CAS番号は3製品とも75-24-1です。

工場長の疑問トリメチルアルミニウムは何に使う?

東ソー・ファインケムは高純度酸化アルミの前駆体としてMO-CVDに、トリケミカル研究所はHigh-K材料と化合物半導体用材料に出しています。ランクセスはALD・CVD・MOCVDの前駆体と、オレフィン重合の助触媒を案内しています。

設備担当の疑問トリメチルアルミニウムの沸点と融点は?

東ソー・ファインケムの値で、沸点は127℃、融点は15℃です。比重・密度は25℃で0.752g/ml、分子量は72.09です。融点が15℃なので、寒い場所では固まります。

施設管理の疑問トリメチルアルミニウムが空気や水に触れるとどうなる?

空気に触れると発火し、水・酸・酸化剤とは激しく反応します。東ソー・ファインケムの資料でも、引火点の欄は自然発火性です。

施設管理の疑問トリメチルアルミニウムはどうやってしまっておく?

アルベマールの案内では、乾いた窒素などの不活性雰囲気で、40℃を超えない乾いた所にしまいます。燃えやすい物から離します。関東化学のn-ヘキサン溶液は0〜6℃の冷蔵です。

購買担当の疑問少量だけ買える?

東ソー・ファインケムのEG-TMALは、25g・100g・300g・600gのSUS容器があります。トリケミカル研究所とランクセスは荷姿を公開していないので、量を伝えて聞きます。

設備担当の疑問n-ヘキサン溶液はある?

関東化学に約1mol/Lのn-ヘキサン溶液があり、製造元は東ソー・ファインケムです。このページは自社で作る品を比べるので、関東化学は表に載せていません。研究室で少量を使うなら、この溶液から当たります。

経営者の疑問モノシランやメチルアルミノキサンとの違いは?

モノシランはシリコン膜を作るガスで、別のページで比べています。メチルアルミノキサンは助触媒の別の製品です。このページはCAS番号75-24-1のトリメチルアルミニウムだけを載せています。

TYPES

トリメチルアルミニウムの用途の違い

成膜用(MO-CVD・High-K・化合物半導体)

半導体の薄膜を作る工程に材料として出す品です。東ソー・ファインケムはMO-CVD材料、トリケミカル研究所はHigh-K材料と化合物半導体用材料に載せています。どちらも純度の数字は公開していないので、見積のときに聞きます。

向いている使い方

  • MO-CVDで高純度の酸化アルミを作る
  • Si半導体のHigh-K膜を作る
  • 化合物半導体の成膜に使う

根拠:TMALは蒸気圧を有する有機金属化合物で、高純度酸化アルミの前駆体として、MO-CVDの材料として用いられます。(出典1)

この用途の2製品を表で見る

重合の助触媒と成膜の両用

1つの製品ページで、オレフィン重合の助触媒と成膜の前駆体の両方を案内している品です。ランクセスのAXIONブランドが当てはまります。成膜に使うなら、電子材料に使える純度かを問い合わせで確かめます。

向いている使い方

  • オレフィン重合の助触媒に使う
  • ALD・CVDで酸化アルミニウム膜を作る
  • 太陽電池のパッシベーション膜を作る

根拠:Highly efficient cocatalyst in the Ziegler-Natta polymerization of olefins.(出典5)

この用途の1製品を表で見る
MAKERS

トリメチルアルミニウムの主なメーカー3社

東ソー・ファインケム株式会社

MO-CVD用のEG-TMALを、25gから600gのSUS容器で出しています。

山口県

株式会社トリケミカル研究所

Si半導体のHigh-K材料と、化合物半導体用材料の両方の一覧にTMAを載せています。

山梨県

ランクセス株式会社

1つの製品ページで、オレフィン重合の助触媒と、ALD・CVD・MOCVDの前駆体の両方を案内しています。

東京都

出典
  1. 東ソー・ファインケム EG-TMAL
  2. トリケミカル研究所 Si半導体用材料
  3. トリケミカル研究所 化合物半導体/酸化物半導体用材料
  4. トリケミカル研究所 取扱製品一覧
  5. ランクセス Trimethylaluminum (TMA)
  6. ランクセス 日本法人について
  7. 関東化学 トリメチルアルミニウム, n-ヘキサン溶液
  8. アルベマール Trimethylaluminum High Purity (TMA-HP)
掲載基準

半導体・太陽電池のALD・CVD・MO-CVD成膜の前駆体や重合の助触媒に使うトリメチルアルミニウム(CAS 75-24-1)で、日本法人のある会社が自社または自社グループの製品として公式サイトで案内している品を載せています。関東化学のn-ヘキサン溶液は公式の製品ページに製造元が東ソー・ファインケムと書かれているので載せていません。東京化成工業とメルクは公式サイトが取得を拒み、仕様を確かめられなかったので除きました。アルベマールとヌーリオンは日本語の公式ページで日本での案内を確かめられず、高純度化学研究所はCVD・ALD材料のページにトリメチルアルミニウムの記載がなかったので除きました。ランクセスは日本法人を日本語の公式ページで確かめましたが、製品ページの本文は英語で、日本法人がこの品を売ると書いた文は確かめられていません。モノシランはシランの比較に分け、メチルアルミノキサン・トリエチルアルミニウムなどの別の有機アルミニウム、海外ブランドの輸入販売、中古、容器や配管だけの品は除きます。純度は3製品とも公式に数字がなく、推測で埋めていません。確認できた製品は3社3製品で、社数を増やすために仕様不明の品を加えていません。

トリメチルアルミニウムを作っているメーカーの方へ:掲載・訂正のご依頼(掲載は無料です)

CITE

引用

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