亜酸化窒素半導体・電子材料用（高純度品）

亜酸化窒素 Rグレード

Q: 亜酸化窒素 Rグレードはどんな方式？

用途の区分は半導体・電子材料用（高純度品）です。半導体の工場で、絶縁膜や酸化膜をつくる成膜工程に使う高純度の亜酸化窒素です。

高千穂化学工業株式会社

高千穂化学工業の亜酸化窒素で、純度99.999%のRグレード。

価格: 公開価格なし（見積もり）
主な仕様: 純度99.999%
用途の区分: 半導体・電子材料用（高純度品）
向いている所: 研究で純度99.999%を使う

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比較表での位置

亜酸化窒素 Rグレードは、亜酸化窒素のメーカー7社比較⁠の用途の区分が半導体・電子材料用（高純度品）の3製品の1つとして載っています。

7社掲載社数
9製品比較表の製品
3製品同じ用途の区分
0製品公開価格あり

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亜酸化窒素 Rグレードの強みと方式

研究用のRグレードで、純度は99.999%です。容器バルブは22mmの右ねじで、圧力調整器はTUSシリーズとTUシリーズを使います。同じ会社のPグレードと、純度で使い分けます。

向いている所研究で純度99.999%を使う

用途の区分：半導体・電子材料用（高純度品）

半導体の工場で、絶縁膜や酸化膜をつくる成膜工程に使う高純度の亜酸化窒素です。公式の純度は99.999%以上で、住友精化は純度の違うRESEARCHとSEGの2グレードを出しています。47Lのボンベから大型のISOチューブトレーラーまで、使う量で荷姿を選びます。

亜酸化窒素 Rグレードの仕様

用途の区分: 半導体・電子材料用（高純度品）
グレード: R（Research）
純度: 99.999%
容器・充填量: —公式資料で確認できず
容器弁: 22mm、右、LG
用途: —公式資料で確認できず
価格: —公式資料で確認できず
規制区分: —公式資料で確認できず
貯法: —公式資料で確認できず

圧力調整器はTUSシリーズ・TUシリーズ。

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

	亜酸化窒素 Rグレード高千穂化学工業株式会社	高純度亜酸化窒素株式会社レゾナック	半導体用亜酸化窒素 RESEARCH住友精化株式会社
用途の区分	半導体・電子材料用（高純度品）	半導体・電子材料用（高純度品）	半導体・電子材料用（高純度品）
グレード	R（Research）	高純度	RESEARCH
純度	99.999%	—公式資料で確認できず	99.9995%超
容器・充填量	—公式資料で確認できず	47Lから大型のISOチューブトレーラーまで	10L・7.5kg、47L・30kg、440L・300kg、360L×2本・500kg
容器弁	22mm、右、⁠⁠⁠⁠⁠⁠LG	—公式資料で確認できず	S(B)・W22・14・OR
用途	—公式資料で確認できず	半導体の絶縁膜の成膜、酸化膜の形成	半導体製造用の特殊材料ガス
価格	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず
規制区分	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず
貯法	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず

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亜酸化窒素 Rグレードのよくある質問

Q.亜酸化窒素 Rグレードはどんな方式？

用途の区分は半導体・電子材料用（高純度品）⁠で⁠す⁠。半導体の工場で、絶縁膜や酸化膜をつくる成膜工程に使う高純度の亜酸化窒素です。

Q.亜酸化窒素 Rグレードの主な仕様は？

純度は99.999%、グレードはR（Research）、容器弁は22mm、右、⁠⁠⁠LG。

Q.亜酸化窒素 Rグレードとほかの亜酸化窒素の違いは？

高千穂化学工業の亜酸化窒素 Rグレードは純度は99.999%、グレードはR（Research）、容器弁は22mm、右、LG。レゾナックの高純度亜酸化窒素は容器・充填量は47Lから大型のISOチューブトレーラーまで、グレードは高純度、用途は半導体の絶縁膜の成膜、酸化膜の形成。住友精化の半導体用亜酸化窒素 RESEARCHは純度は99.9995%超、容器・充填量は10L・7.5kg、47L・30kg、440L・300kg、360L×2本・500kg、グレードはRESEARCH。

Q.載っている内容を直してほしいときは？

メーカーの方は掲載のお問い合わせから送ってください。確かめて直します。