亜酸化窒素半導体・電子材料用（高純度品）

高純度亜酸化窒素

Q: 高純度亜酸化窒素はどんな方式？

用途の区分は半導体・電子材料用（高純度品）です。半導体の工場で、絶縁膜や酸化膜をつくる成膜工程に使う高純度の亜酸化窒素です。

株式会社レゾナック

レゾナックの半導体用の高純度亜酸化窒素。

価格: 公開価格なし（見積もり）
主な仕様: 容器・充填量47Lから大型のISOチューブトレーラーまで
用途の区分: 半導体・電子材料用（高純度品）
向いている所: 酸化膜の成膜で量を使う工場

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比較表での位置

高純度亜酸化窒素は、亜酸化窒素のメーカー7社比較⁠の用途の区分が半導体・電子材料用（高純度品）の3製品の1つとして載っています。

7社掲載社数
9製品比較表の製品
3製品同じ用途の区分
0製品公開価格あり

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高純度亜酸化窒素の強みと方式

47Lの容器から大型のISOチューブトレーラーまで、使う量に合わせて荷姿を選べます。半導体製造の絶縁膜の成膜工程に向けたガスで、とくに酸化膜の形成に使います。純度の数字は公式ページに出ていないので、仕様書で確かめます。

向いている所酸化膜の成膜で量を使う工場

用途の区分：半導体・電子材料用（高純度品）

半導体の工場で、絶縁膜や酸化膜をつくる成膜工程に使う高純度の亜酸化窒素です。公式の純度は99.999%以上で、住友精化は純度の違うRESEARCHとSEGの2グレードを出しています。47Lのボンベから大型のISOチューブトレーラーまで、使う量で荷姿を選びます。

高純度亜酸化窒素の仕様

用途の区分: 半導体・電子材料用（高純度品）
グレード: 高純度
純度: —公式資料で確認できず
容器・充填量: 47Lから大型のISOチューブトレーラーまで
容器弁: —公式資料で確認できず
用途: 半導体の絶縁膜の成膜、酸化膜の形成
価格: —公式資料で確認できず
規制区分: —公式資料で確認できず
貯法: —公式資料で確認できず

純度はSDS・仕様書で確認。

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

	高純度亜酸化窒素株式会社レゾナック	半導体用亜酸化窒素 RESEARCH住友精化株式会社	亜酸化窒素 Rグレード高千穂化学工業株式会社
用途の区分	半導体・電子材料用（高純度品）	半導体・電子材料用（高純度品）	半導体・電子材料用（高純度品）
グレード	高純度	RESEARCH	R（Research）
純度	—公式資料で確認できず	99.9995%超	99.999%
容器・充填量	47Lから大型のISOチューブトレーラーまで	10L・7.5kg、47L・30kg、440L・300kg、360L×2本・500kg	—公式資料で確認できず
容器弁	—公式資料で確認できず	S(B)・W22・14・OR	22mm、右、⁠⁠⁠⁠⁠⁠LG
用途	半導体の絶縁膜の成膜、酸化膜の形成	半導体製造用の特殊材料ガス	—公式資料で確認できず
価格	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず
規制区分	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず
貯法	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず	—公式資料で確認できず

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高純度亜酸化窒素のよくある質問

Q.高純度亜酸化窒素はどんな方式？

用途の区分は半導体・電子材料用（高純度品）⁠で⁠す⁠。半導体の工場で、絶縁膜や酸化膜をつくる成膜工程に使う高純度の亜酸化窒素です。

Q.高純度亜酸化窒素の主な仕様は？

容器・充填量は47Lから大型のISOチューブトレーラーまで、グレードは高純度、用途は半導体の絶縁膜の成膜、酸化膜の形成。

Q.高純度亜酸化窒素とほかの亜酸化窒素の違いは？

レゾナックの高純度亜酸化窒素は容器・充填量は47Lから大型のISOチューブトレーラーまで、グレードは高純度、用途は半導体の絶縁膜の成膜、酸化膜の形成。住友精化の半導体用亜酸化窒素 RESEARCHは純度は99.9995%超、容器・充填量は10L・7.5kg、47L・30kg、440L・300kg、360L×2本・500kg、グレードはRESEARCH。高千穂化学工業の亜酸化窒素 Rグレードは純度は99.999%、グレードはR（Research）、容器弁は22mm、右、⁠⁠⁠LG。

Q.載っている内容を直してほしいときは？

メーカーの方は掲載のお問い合わせから送ってください。確かめて直します。