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半導体用亜酸化窒素 RESEARCHは、
- 7社掲載社数
- 9製品比較表の製品
- 3製品同じ用途の区分
- 0製品公開価格あり
半導体用亜酸化窒素 RESEARCHの強みと方式
純度
向いている所成膜に
用途の区分:半導体・電子材料用(高純度品)
半導体の
半導体用亜酸化窒素 RESEARCHの仕様
- 用途の区分
- 半導体・電子材料用
(高純度品) - グレード
- RESEARCH
- 純度
- 99.9995%超
- 容器・充填量
- 10L・
7.5kg、 47L・ 30kg、 440L・ 300kg、 360L× 2本・ 500kg - 容器弁
- S(B)・
W22・ 14・OR - 用途
- 半導体製造用の
特殊材料ガス - 価格
- —公式資料で
確認できず - 規制区分
- —公式資料で
確認できず - 貯法
- —公式資料で
確認できず
同じ容器・充填量で
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| 半導体用亜酸化窒素 RESEARCH住友精化 | 亜酸化窒素 Rグレード高千穂化学工業 | 高純度亜酸化窒素株式会社 | |
|---|---|---|---|
| 用途の区分 | 半導体・電子材料用 | 半導体・電子材料用 | 半導体・電子材料用 |
| グレード | RESEARCH | R | 高純度 |
| 純度 | 99.9995%超 | 99.999% | —公式資料で |
| 容器・充填量 | 10L・ | —公式資料で | 47Lから |
| 容器弁 | S(B)・ | 22mm、 | —公式資料で |
| 用途 | 半導体製造用の | —公式資料で | 半導体の |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 規制区分 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 貯法 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
半導体用亜酸化窒素 RESEARCHのよくある質問
Q.半導体用亜酸化窒素 RESEARCHはどんな方式?
用途の区分は半導体・電子材料用(高純度品)です。半導体の工場で、絶縁膜や酸化膜をつくる成膜工程に使う高純度の亜酸化窒素です。
Q.半導体用亜酸化窒素 RESEARCHの主な仕様は?
純度は99.9995%超、容器・充填量は10L・7.5kg、47L・30kg、440L・300kg、360L×2本・500kg、グレードはRESEARCH、容器弁はS(B)・W22・14・OR。
Q.半導体用亜酸化窒素 RESEARCHとほかの亜酸化窒素の違いは?
住友精化の半導体用亜酸化窒素 RESEARCHは純度は99.9995%超、容器・充填量は10L・7.5kg、47L・30kg、440L・300kg、360L×2本・500kg、グレードはRESEARCH。高千穂化学工業の亜酸化窒素 Rグレードは純度は99.999%、グレードはR(Research)、容器弁は22mm、右、LG。レゾナックの高純度亜酸化窒素は容器・充填量は47Lから大型のISOチューブトレーラーまで、グレードは高純度、用途は半導体の絶縁膜の成膜、酸化膜の形成。
Q.載っている内容を直してほしいときは?
メーカーの方は掲載のお問い合わせ から送ってください。確かめて直します。
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