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PHOTORESIST / MZ-35361

フォトレジスト スミレジスト住友化学株式会社

i線からEUVまでの露光に対応する住友化学のフォトレジストです。

2026年10月29日確認

仕様

向いている所：液浸ArF・EUVの最先端工程

種類
半導体の回路用（g線〜EUV）
ポジ・⁠⁠⁠ネガ
—公式資料で確認できず
露光
i線、KrF、ArF、液浸ArF、EUV
形
—公式資料で確認できず
膜厚
—公式資料で確認できず
解像度
—公式資料で確認できず
現像液
—公式資料で確認できず
用途
半導体、3次元フラッシュメモリ、パッケージング用の厚膜
価格
—公式資料で確認できず
露光量
—公式資料で確認できず

— は公式の資料で確かめられなかった項目です。

品番ごとの仕様は公式に公開されていません。

口コミ

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出典（2026年10月29日確認）

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