PHOTORESIST / MZ-35367永久膜用
永久膜用ドライフィルムレジスト SU-8 3000CF DFR日本化薬株式会社
MEMSや
仕様
向いている
- 種類
- 厚膜・
めっき・ MEMS用 - ポジ・ネガ
- ネガ型
- 露光
- i線
(365nm) - 形
- ドライフィルム
- 膜厚
- 20、
30、 45μm - 解像度
- 膜厚
20μmで アスペクト比3以上 - 現像液
- PGMEA
(溶剤現像) - 用途
- MEMS、
SAW・BAWフィルター、 半導体 パッケージ - 価格
- —公式資料で
確認できず - 露光量
- —公式資料で
確認できず
— は
保管は
口コミ
永久膜用
使った
運営が
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出典
