PHOTORESIST / MZ-35360フォトレジスト SEPR・
フォトレジスト SEPR・SAIL・SEVRシリーズ信越化学工業株式会社
i線から
仕様
向いている
- 種類
- 半導体の
回路用 (g線〜EUV) - ポジ・ネガ
- —公式資料で
確認できず - 露光
- i線、
KrF、 ArF、 EUV - 形
- —公式資料で
確認できず - 膜厚
- —公式資料で
確認できず - 解像度
- —公式資料で
確認できず - 現像液
- —公式資料で
確認できず - 用途
- 半導体製造工程、
磁気ヘッド製造工程 - 価格
- —公式資料で
確認できず - 露光量
- —公式資料で
確認できず
— は
公式ページの
口コミ
フォトレジスト SEPR・
使った
運営が
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出典
