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PHOTORESIST / MZ-35360

フォトレジスト SEPR・SAIL・SEVRシリーズ信越化学工業株式会社

i線からEUVまでの露光に対応する半導体用のフォトレジストです。

2026年10月29日確認

仕様

向いている所:i線からEUVまでの半導体工程

種類
半導体の回路用(g線〜EUV)
ポジ・⁠⁠⁠ネガ
—公式資料で確認できず
露光
i線、KrF、ArF、EUV
形
—公式資料で確認できず
膜厚
—公式資料で確認できず
解像度
—公式資料で確認できず
現像液
—公式資料で確認できず
用途
半導体製造工程、磁気ヘッド製造工程
価格
—公式資料で確認できず
露光量
—公式資料で確認できず

— は公式の資料で確かめられなかった項目です。

公式ページのシリーズ名はSIPR・SEPR・SAIL・SEVR・SHB・ODL。品番ごとの仕様は公開されていません。

口コミ

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