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リフロー炉真空・ギ酸還元

真空リフロー炉 TVF200

株式会社シンアペックス

大気圧から10Paまで減圧してボイドを減らす、シンアペックスの卓上型真空リフロー炉です。

価格
公開価格なし（見積もり）
方式
真空・ギ酸還元
向いている所
ボイドを減らす試作・工程開発
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比較表での位置

真空リフロー炉 TVF200は、リフロー炉のメーカー7社比較⁠の方式「真空・ギ酸還元」の4製品の1つとして載っています。

  • 7社掲載社数
  • 8製品比較表の製品
  • 4製品同じ方式
  • 0製品公開価格あり
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真空リフロー炉 TVF200​の強みと方式

机に置ける真空リフロー炉で、炉内を大気圧から10Paまで引いて、はんだの中のボイドを抜きます。加熱は最大450℃で、加熱エリアは200×200mmです。別売りのギ酸バブラーを付けると、フラックスなしのはんだ付けもできます。

向いている所ボイドを減らす試作・工程開発

方式：真空・ギ酸還元

はんだが溶けているあいだに炉の中を減圧して、はんだの中の気泡（ボイド）を抜く型です。ギ酸や水素で酸化膜を取れば、フラックスなしではんだ付けできます。パワーモジュールや半導体のバンプに使います。

真空リフロー炉 TVF200​の仕様

方式
真空・ギ酸還元
雰囲気
窒素、ギ酸混合ガス、フォーミングガス、Heガスなど
加熱のしかた
上下加熱
ゾーン・室
—公式資料で確認できず
基板・ワークの大きさ
200×200×高さ50mm
最高温度
最大450℃
到達真空度
10Pa
電源
三相200V、8kW
価格
—公式資料で確認できず
外形寸法
W622×D597×H775mm
質量
約65kg
搬送速度
—公式資料で確認できず

同じ種類の他社製品との違い

製品の特徴ごとの分類

真空リフロー炉 TVF200株式会社シンアペックス真空N2リフロー炉 SVR-625GT-C千住金属工業株式会社フラックスレスリフロー装置 RF-310アユミ工業株式会社
方式真空・ギ酸還元真空・ギ酸還元真空・ギ酸還元
雰囲気窒素、ギ酸混合ガス、フォーミングガス、Heガスなど真空、N2ギ酸、水素
加熱のしかた上下加熱—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
ゾーン・室—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず1チャンバー
基板・ワークの大きさ200×200×高さ50mm—公式資料で確認できず12インチウエハ、A4サイズの基板
最高温度最大450℃最高380℃—公式資料で確認できず
到達真空度10Pa—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
電源三相200V、8kW—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
価格—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
外形寸法W622×D597×H775mm—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
質量約65kg—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず
搬送速度—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず—公式資料で確認できず

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真空リフロー炉 TVF200​のよくある質問

Q.真空リフロー炉 TVF200はどんな人に向いている？
真空リフロー炉 TVF200は、ボイドを減らす試作・工程開発に使う人向けです。真空リフロー炉 TVF200は、机に置ける真空リフロー炉で、炉内を大気圧から10Paまで引いて、はんだの中のボイドを抜きます。
Q.真空リフロー炉 TVF200の強みは？
真空リフロー炉 TVF200の加熱は最大450℃で、加熱エリアは200×200mmです。別売りのギ酸バブラーを付けると、フラックスなしのはんだ付けもできます。
Q.真空リフロー炉 TVF200はどんな方式？
真空リフロー炉 TVF200の方式は真空・ギ酸還元です。はんだが溶けているあいだに炉の中を減圧して、はんだの中の気泡（ボイド）を抜く型です。
Q.真空リフロー炉 TVF200の主な仕様は？
真空リフロー炉 TVF200の雰囲気は窒素、ギ酸混合ガス、フォーミングガス、Heガスなど、加熱のしかたは上下加熱です。基板・ワークの大きさは200×200×高さ50mm、最高温度は最大450℃です。
Q.真空リフロー炉 TVF200と真空N2リフロー炉 SVR-625GT-Cはどっちがいい？
ボイドを減らす試作・工程開発なら真空リフロー炉 TVF200、パワー半導体のインライン生産なら千住金属工業の真空N2リフロー炉 SVR-625GT-Cです。真空リフロー炉 TVF200の雰囲気は窒素、ギ酸混合ガス、フォーミングガス、Heガスなど、加熱のしかたは上下加熱です。千住金属工業の真空N2リフロー炉 SVR-625GT-Cの雰囲気は真空、N2、最高温度は最高380℃です。
Q.真空リフロー炉 TVF200の質量は？
真空リフロー炉 TVF200の質量は約65kgです。オリジンのギ酸還元真空リフロー炉 MPX1の質量は約450kgです。
Q.真空リフロー炉 TVF200の到達真空度は？
真空リフロー炉 TVF200の到達真空度は10Paです。オリジンのギ酸還元真空リフロー炉 MPX1の到達真空度は20Pa以下です。
Q.真空リフロー炉 TVF200とフラックスレスリフロー装置 RF-310はどっちがいい？
ボイドを減らす試作・工程開発なら真空リフロー炉 TVF200、バンプ形成の試作・少量生産ならアユミ工業のフラックスレスリフロー装置 RF-310です。真空リフロー炉 TVF200の雰囲気は窒素、ギ酸混合ガス、フォーミングガス、Heガスなど、加熱のしかたは上下加熱です。アユミ工業のフラックスレスリフロー装置 RF-310の雰囲気はギ酸、水素、ゾーン・室は1チャンバーです。
Q.真空リフロー炉 TVF200のほかにシンアペックスのリフロー炉はある？
あります。シンアペックスのリフロー炉には、真空リフロー炉 TVF200のほかに卓上型リフロー炉 SVO-1（雰囲気は窒素パージ）があります。
Q.真空リフロー炉 TVF200はどこのメーカー？
真空リフロー炉 TVF200は株式会社シンアペックスの製品です。長野県岡谷市に本社を置き、電子機器の輸出入販売と装置開発を手がけ、卓上型リフロー炉などの自社ブランド製品を開発・販売しています。

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