RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02

RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02は、半導体の再配線（RDL）に使う人向けです。RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02は、半導体のロジックとメモリーの再配線に使う硫酸銅めっき添加剤です。公式の製品紹介には浴の条件の数字が文字で出ていないので、仕様は上村工業に確かめます。

RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02の種類・皮膜は硫酸銅（添加剤）、用途は半導体のRDL（ロジック、メモリー）⁠で⁠す⁠。

半導体の再配線（RDL）⁠な⁠らRDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02、ビアとスルーホールの混在基板ならメルテックスの硫酸銅めっき添加剤 ルーセントカパー SVFです。RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02の種類・皮膜は硫酸銅（添加剤）、用途は半導体のRDL（ロジック、メモリー）⁠で⁠す⁠。メルテックスの硫酸銅めっき添加剤 ルーセントカパー SVFの種類・皮膜は硫酸銅（添加剤）、用途はプリント配線板のビア、スルーホール混在基板です。

半導体の再配線（RDL）⁠な⁠らRDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02、配線板のビアを銅で埋めるならJCUのビア充填硫酸銅めっき CU-BRITE VF5です。RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02の種類・皮膜は硫酸銅（添加剤）、用途は半導体のRDL（ロジック、メモリー）⁠で⁠す⁠。JCUのビア充填硫酸銅めっき CU-BRITE VF5の種類・皮膜は硫酸銅、用途はプリント配線板のビア充填です。

あります。上村工業のめっき薬品には、RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02のほかに低リン無電解ニッケルめっき浴 エピタス NLL-1（種類・皮膜はニッケル）があります。

RDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02は上村工業株式会社の製品です。1933年設立の、めっき用化学品・機械の研究、開発、製造、販売を行う会社です。