電解金めっき プレシャスファブ Au8400

電解金めっき プレシャスファブ Au8400は、純度の高い金を均一につける人向けです。電解金めっき プレシャスファブ Au8400は、析出純度99.99%の純金を、均一電着性よく析出させるシアン浴の電解金めっきです。金8g/L、0.4A/dm²で4分/μmの速さで、硬度は50〜80HVです。

電解金めっき プレシャスファブ Au8400の種類・皮膜は金（析出純度99.99%）、浴の条件は金8g/L、0.2〜1.0A/dm²、pH6.0、50〜70℃です。析出の速さ・電流密度は4分/μm（0.4A/dm²）、皮膜の特長は硬度50〜80HV、均一電着性良好です。

純度の高い金を均一につけるなら電解金めっき プレシャスファブ Au8400、鉛フリーの半光沢はんだめっきなら石原ケミカルのすずビスマスめっき PF-05Mです。電解金めっき プレシャスファブ Au8400の種類・皮膜は金（析出純度99.99%）、浴の条件は金8g/L、0.2〜1.0A/dm²、pH6.0、50〜70℃です。石原ケミカルのすずビスマスめっき PF-05Mの種類・皮膜はすず、ビスマス合金、用途は中高速、バレル、ラックの半光沢めっきです。

電解金めっき プレシャスファブ Au8400の環境の対応はシアン浴です。JCUのエッチング剤 IC-320の環境の対応はハロゲンフリーです。

純度の高い金を均一につけるなら電解金めっき プレシャスファブ Au8400、半導体の再配線（RDL）⁠な⁠ら上村工業のRDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02です。電解金めっき プレシャスファブ Au8400の種類・皮膜は金（析出純度99.99%）、浴の条件は金8g/L、0.2〜1.0A/dm²、pH6.0、50〜70℃です。上村工業のRDL用硫酸銅めっき添加剤 エピタス EDL-02の種類・皮膜は硫酸銅（添加剤）、用途は半導体のRDL（ロジック、メモリー）⁠で⁠す⁠。

あります。EEJAのめっき薬品には、電解金めっき プレシャスファブ Au8400のほかにイートレックス 12（種類・皮膜は電解脱脂剤、粉末）があります。

電解金めっき プレシャスファブ Au8400はEEJA株式会社の製品です。登記上の本店は〒103-0025 東京都中央区日本橋茅場町2丁目6番6号。貴金属の表面処理に特化した、田中貴金属グループのめっき薬品の会社です。