線幅50nmのSi型

線幅50nmのSi型は、線幅50nmで試す人向けです。線幅50nmのSi型は、線幅50nm、ピッチ100nmのラインを100mm角のSi基板に並べた規格品です。

線幅50nmのSi型のモールドサイズは10mm角から直径300mmまでそろい、面積を変えて試せます。掲載品は在庫限りの販売です。

線幅50nmのSi型の基板の材質はSi、パターン形状はL&Sです。線幅・寸法は50nm、ピッチは100nmです。

線幅50nmで試すなら線幅50nmのSi型、1枚で形を比べるなら協同インターナショナルのお試しモールドです。線幅50nmのSi型の基板の材質はSi、パターン形状はL&Sです。協同インターナショナルのお試しモールドの基板の材質はSi、パターン形状はL/S、ピラー、格子、チェック、曲折を混載です。

線幅50nmのSi型の深さ・高さは130nmです。協同インターナショナルのお試しモールドの深さ・高さは100nmです。

線幅50nmのSi型のサイズは100mm角です。テクセンドフォトマスクのシリコン原版 直径200mmのサイズは直径200mmです。

線幅50nmのSi型のパターン領域は80mm角です。協同インターナショナルのお試しモールドのパターン領域は1.1×1.7mm、8か所です。

線幅50nmで試すなら線幅50nmのSi型、広い面積の原版を作るならテクセンドフォトマスクのシリコン原版 直径200mmです。線幅50nmのSi型の基板の材質はSi、パターン形状はL&Sです。テクセンドフォトマスクのシリコン原版 直径200mmの基板の材質はシリコン、サイズは直径200mmです。

あります。SCIVAXのナノ転写用の型には、線幅50nmのSi型のほかにNiモールド NAP230/240-100（基板の材質はNi）があります。

線幅50nmのSi型はSCIVAX株式会社の製品です。登記上の本店は〒212-0032 神奈川県川崎市幸区新川崎7番7号。SCIVAXの主な製品分野はナノ転写用の型・熱ナノインプリント装置・UVナノインプリント装置です。