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UV-IRRADIATION-EQUIPMENT / MZ-40607

UV洗浄・改質装置 HMW-615N-⁠4株式会社オーク製作所

低圧UVランプ7灯・照射面積400×400mmのUV洗浄装置。

2026年10月30日確認

仕様

向いている所：基板の有機物汚れを非接触で落とす

方式
エキシマ・低圧UV式（洗浄・⁠⁠⁠改質）
光源
低圧UVランプ、⁠⁠7灯
波長
—公式資料で確認できず
照度・⁠⁠⁠出力
—公式資料で確認できず
照射範囲
400×400mm、照射距離25mm
冷却方式
—公式資料で確認できず
外形寸法
W700×D800×H1447mm
電源
—公式資料で確認できず
価格
—公式資料で確認できず
搬送
—公式資料で確認できず
質量
—公式資料で確認できず
寿命
—公式資料で確認できず

— は公式の資料で確かめられなかった項目です。

半導体・液晶基板の製造工程向けの据え置き型。

口コミ

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出典（2026年10月30日確認）

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