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SILICON-WAFER / MZ-34102

小口径両面研磨ウェーハグローバルウェーハズ⁠・ジャパン株式会社

直径100〜150mmの、高平坦の両面研磨ウェーハ。

2026年10月28日確認

仕様

向いている所:MEMS・SAWフィルタの基板

種類
鏡面のポリッシュトウェーハ
直径
100mm、125mm、150mm
結晶の製法
CZ、MCZ、⁠⁠⁠FZ
面方位
(100)、(111)
導電型・ドーパント
N型(Phos.、Phos.(NTD)⁠、Sb)、P型(Boron)
厚さ
300〜1000μm
価格
—公式資料で確認できず
抵抗率
—公式資料で確認できず
構造・仕上げ
両面研磨
活性層・酸化膜
—公式資料で確認できず
平坦度
TTV1.0μm以下
販売単位
—公式資料で確認できず
用途
Detector、MEMS、SAW device

— は公式の資料で確かめられなかった項目です。

TTVなどは、仕様によってモニターウェーハでの測定・保証になる場合があります。

口コミ

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