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SULFUR-DIOXIDE / MZ-37681

高純度亜硫酸ガス（SO2）株式会社レゾナック

半導体の有機膜エッチングに使う高純度の亜硫酸ガスです。

2026年10月29日確認

仕様

向いている所：半導体の有機膜エッチング

種類・⁠⁠⁠規格
高純度の二酸化硫黄
ガス種
二酸化硫黄（単成分の液化ガス）
純度・⁠⁠⁠濃度
—公式資料で確認できず
希釈ガス
—公式資料で確認できず
充填圧力
—公式資料で確認できず
容器容量
—公式資料で確認できず
充填量
—公式資料で確認できず
価格
—公式資料で確認できず
グレード・⁠⁠⁠規格
半導体用の高純度ガス
濃度の精度
—公式資料で確認できず
容器弁
—公式資料で確認できず
有効期限
—公式資料で確認できず
用途
半導体の絶縁膜エッチング（有機膜、カーボンマスク）

— は公式の資料で確かめられなかった項目です。

純度・容器・充填量は公式ページに記載なし。物性（沸点-10.0℃、蒸気圧330kPa（20℃））⁠は公式ページの物理・化学的性質による。

口コミ

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    出典（2026年10月29日確認）

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