イメージ
イメージ酸化スズ高純度の
酸化第二錫 SNO03PB
株式会社粒径約1μm・
- 価格
- 公開価格なし
(見積もり) - 主な仕様
- 純度3N
- 種類
- 高純度の
酸化スズ(IV) - 向いている所
- 粒径を
そろえたい 材料研究
酸化第二錫 SNO03PBの強みと方式
粒径を
向いている所粒径を
種類:高純度の酸化スズ(IV)
純度を
酸化第二錫 SNO03PBの仕様
- 種類
- 高純度の
酸化スズ(IV) - 等級・規格
- —公式資料で
確認できず - 純度
- 3N
- 外観・形状
- 粉末
- 粒子径
- 約1μm
- 容量・荷姿
- —公式資料で
確認できず - 用途
- —公式資料で
確認できず - 価格
- —公式資料で
確認できず - 化学式
- SnO2
- CAS RN
- 18282-10-5
- 規格・物性
- 分析表添付
同じ種類の他社製品との違い
製品の特徴ごとの分類
| 酸化第二錫 SNO03PB株式会社 | 酸化すず(IV) 4N | 酸化スズゾル セラメース S-8多木化学 | |
|---|---|---|---|
| 種類 | 高純度の | 高純度の | 工業材料の |
| 等級・規格 | —公式資料で | 4N、 | —公式資料で |
| 純度 | 3N | 4N | —公式資料で |
| 外観・形状 | 粉末 | —公式資料で | 酸化スズゾル |
| 粒子径 | 約1μm | —公式資料で | 1次粒子径2nm |
| 容量・荷姿 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 用途 | —公式資料で | —公式資料で | 帯電防止剤、 |
| 価格 | —公式資料で | —公式資料で | —公式資料で |
| 化学式 | SnO2 | SnO2 | SnO2 |
| CAS RN | 18282-10-5 | —公式資料で | —公式資料で |
| 規格・物性 | 分析表添付 | —公式資料で | pH10、 |
酸化第二錫 SNO03PBのよくある質問
Q.酸化第二錫 SNO03PBはどんな人に向いている?
酸化第二錫 SNO03PBは、粒径をそろえたい材料研究に使う人向けです。酸化第二錫 SNO03PBは、粒径を約1μmと書いた、純度3Nの酸化第二錫の粉末です。分析表を付けて届くので、受け入れ検査にそのまま使えます。
Q.酸化第二錫 SNO03PBはどんな方式?
酸化第二錫 SNO03PBの種類は高純度の酸化スズ(IV)です。純度を3Nや4Nと決めた酸化スズ(IV)です。
Q.酸化第二錫 SNO03PBの主な仕様は?
酸化第二錫 SNO03PBの純度は3N、粒子径は約1μmです。外観・形状は粉末、化学式はSnO2です。
Q.酸化第二錫 SNO03PBと酸化すず(IV) 4Nはどっちがいい?
粒径をそろえたい材料研究なら酸化第二錫 SNO03PB、4Nと2N7で純度を選ぶ研究なら三津和化学薬品の酸化すず(IV) 4Nです。酸化第二錫 SNO03PBの純度は3N、粒子径は約1μmです。三津和化学薬品の酸化すず(IV) 4Nの純度は4N、等級・規格は4N、2N7です。
Q.酸化第二錫 SNO03PBの規格・物性は?
酸化第二錫 SNO03PBの規格・物性は分析表添付です。多木化学の酸化スズゾル セラメース S-8の規格・物性はpH10、分散剤アンモニアです。
Q.酸化第二錫 SNO03PBのCAS RNは?
酸化第二錫 SNO03PBのCAS RNは18282-10-5です。純正化学の酸化すず(IV) 32205-1501のCAS RNは18282-10-5です。
Q.酸化第二錫 SNO03PBと酸化スズゾル セラメース S-8はどっちがいい?
粒径をそろえたい材料研究なら酸化第二錫 SNO03PB、透明な酸化スズ膜を塗って作るなら多木化学の酸化スズゾル セラメース S-8です。酸化第二錫 SNO03PBの純度は3N、粒子径は約1μmです。多木化学の酸化スズゾル セラメース S-8の粒子径は1次粒子径2nm、外観・形状は酸化スズゾル(SnO2 8%)です。
Q.酸化第二錫 SNO03PBのほかに高純度化学研究所の酸化スズはある?
あります。高純度化学研究所の酸化スズには、酸化第二錫 SNO03PBのほかに酸化第二錫 SNO08PB(純度は4N)があります。
Q.酸化第二錫 SNO03PBはどこのメーカー?
酸化第二錫 SNO03PBは株式会社高純度化学研究所の製品です。登記上の本店は〒350-0214 埼玉県坂戸市千代田5丁目1番28号。高純度化学研究所の主な製品分野は炭化ホウ素・硝酸銀・酸化銀・チタン酸バリウムです。
同じ分類のほかの型番
イメージ
イメージ
イメージ
イメージ
イメージ
イメージ同じメーカーのほかの製品株式会社高純度化学研究所
イメージ
イメージ
イメージ
イメージ
イメージ
イメージ