半導体用の高純度六フッ化硫黄のメーカー2社比較【2026年】

表の2製品は、どちらも公開価格を出していません。純度・容器・量で値段が変わるので、見積もりを取る必要があります。日本酸素なら47L・10L・3.4Lのどの容器か、月にどれだけ使うかを決め、2社に同じ条件で頼んで比べてください。容器を返す条件や、届くまでの日数も一緒に確かめておくと比べやすくなります。

日本酸素の半導体材料ガスは、純度99.999%超を公表しています。レゾナックの高純度六フッ化硫黄は、公開ページに純度の記載がありません。工程で要る純度と、検査成績書に載せてほしい項目を書き出し、両社に仕様書を頼んで同じ項目で比べてください。何を不純物として測るかもそろえて比べてください。

レゾナックは、高純度六フッ化硫黄を特にポリシリコンのエッチングに向くとしています。コンダクタのエッチング工程で使い、TSV（Si貫通ビア）の形成にも使われます。日本酸素はシリコン半導体・液晶の分類で案内しています。削る膜と工程を伝えて相談してください。使う装置の名前も一緒に伝えると話が早く進みます。

日本酸素は、47L・10L・3.4Lの容器を公表しています。研究や試作で使う量が少ないなら3.4L、量産で多く使うなら47Lと、量で選べます。レゾナックは公開ページに容器の記載がないので、受け入れる設備に合う大きさを伝えて確かめてください。容器の置き場と、交換の手間も一緒に考えて決めてください。

レゾナックの高純度六フッ化硫黄です。特にポリシリコンのエッチングに向き、TSV（Si貫通ビア）形成などに使われるとしています。シリコンに深い穴をあける工程でSF6を使うなら、レゾナックに工程の条件を伝え、純度と容器の仕様をもらってください。日本酸素の純度99.999%超の品とも、同じ条件で比べられます。

使えます。日本酸素は、六フッ化硫黄をシリコン半導体・液晶の分類の半導体材料ガスとして案内しています。純度は99.999%超、容器は47L・10L・3.4Lです。液晶の工程で使うなら、日本酸素に工程名と使う量を伝え、容器の大きさを決めてください。レゾナックにも、同じ工程で使えるかを聞いて比べられます。

レゾナックは、半導体メーカー向けの販売実績をもとに技術サポートを受けられるとしています。ポリシリコンのエッチングやTSV形成の工程で、条件の相談をしたいときに向きます。問い合わせの前に、使う装置・膜・工程を書き出しておくと話が早く進みます。日本酸素にも同じ条件を伝えて、答えを比べてください。

レゾナックの資料では、沸点-63.7℃（昇華温度）⁠・臨界温度45.6℃・臨界圧力3.76MPa・蒸気圧2.307MPa（21.1℃）⁠で⁠す⁠。気体の密度は空気の5.1倍、国連番号は1080です。日本酸素は公開ページに物性を載せていないので、カタログで確かめてください。装置の受け入れの圧力と合うかも見ます。

空気より重く、空気と置き換わって窒息のおそれがあることです。気体の密度は空気の5.1倍で、低い所にたまります。厚生労働省のモデルSDSに従い、換気の良い場所で使い、500℃以上で分解して有毒なヒュームが出るので熱源から離してください。使わない容器は密閉して、換気の良い場所にしまいます。

このページには、日本酸素とレゾナックの2社を載せています。純度と容器を先に見て決めたいなら日本酸素、ポリシリコンのエッチングやTSV形成で技術サポートも受けたいならレゾナックから見ると早く絞れます。2社に同じ条件で仕様書と見積もりを頼んでください。どちらも公開価格は出していません。