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三フッ化ホウ素のメーカー4社比較【2026年】

三フッ化ホウ素は、重合や医薬合成の触媒と
半導体のイオン注入に使う、ホウ素とフッ素の化合物です。

ABOUT

三フッ化ホウ素とは

三フッ化ホウ素とは、ホウ素とフッ素からなる化合物で、化学式はBF3です。
沸点は-100℃で、ボンベに詰めた高圧ガスとして届きます。
三ふっ化ほう素、フッ化ホウ素とも書きます。

製品の特長

  • 沸点は-100℃ボンベに詰めた高圧ガスで届く
  • 重合や医薬合成の触媒に使う
  • エーテル錯体なら液で量りとれる

使うメリット

  • 多くの化学物質に溶けて触媒に使える
  • 容器は0.35Lのボンベから300kgのカードルまである
  • 錯体の試薬なら25gから買える

選ぶときに注意すること

  1. 毒物受け入れとしまい方の決まりを先に確かめる
  2. 吸入の毒性は区分2局所排気と保護具を用意する
  3. 水と反応する湿気を入れない
  4. 施錠して、直射日光を避けてしまっておく
  5. 純度の書き方は会社ごとに違う規格値かSDSの含有量かを見る

※物性と危険有害性はステラケミファのSDS、用途と荷姿は各社の公式の製品ページによります。

LIST

三フッ化ホウ素の比較表

三フッ化ホウ素の価格・相場公開価格(税抜・25gあたり)

※公開価格の無い製品(5製品・各社 要見積)は入れていません

三フッ化ホウ素6製品の比較
製品・メーカー製品の特徴製品の強み使用用途・場所価格

ガス(ボンベ・カードル)

2製品

トップメーカー

ステラケミファ株式会社高純度の三フッ化ホウ素製品の詳細を見るメーカー公式サイトstella-chemifa.co.jp

1963年に国内で最初に工業化した三フッ化ホウ素のガスで、医薬中間体の合成や重合の触媒、イオン注入で使うジボランの原料に使います。

1963年に国内で最初に三フッ化ホウ素を工業化した会社のガスで、30kgのボンベのほか300kgのカードルでも受けられます。量を使う触媒の工程で、ボンベの交換の回数を減らせます。

医薬中間体合成触媒、重合触媒、ジボランの原料

要見積
日本酸素株式会社三フッ化ホウ素(BF3)製品の詳細を見るメーカー公式サイトnsc.jp.nipponsanso.com

半導体材料ガスとして売る三フッ化ホウ素で、シリコン半導体・液晶のイオン注入の分類に入っています。

純度はAが99.99%超、Bが99.8%超です。99.99%超は、この表で公式に出ている純度の最高値です。容器は47L・10L・3.4L・1L・0.35Lがあり、少ない量から使い始められます。

イオン注入

要見積

エーテル錯体(液)

2製品

トップメーカー

ステラケミファ株式会社三フッ化ホウ素エチルエーテル製品の詳細を見るメーカー公式サイトstella-chemifa.co.jp

三フッ化ホウ素をジエチルエーテルと組ませた液の錯体で、ボランの原料やテルペンなどの重合触媒に使います。

20kgと200kgのケミドラムで届き、ガスのボンベを置かずに工場の反応へ量を仕込めます。同じ会社がメチルエーテル・テトラヒドロフラン・フェノールなどの錯体も作っていて、反応に合わせて替えられます。

医薬中間体合成触媒、有機合成の触媒、ボランの原料

要見積
富士フイルム和光純薬株式会社三ふっ化ほう素ジエチルエーテル錯体 022-08362製品の詳細を見るメーカー公式サイトlabchem-wako.fujifilm.com

三ふっ化ほう素をジエチルエーテルと組ませた和光一級の試薬で、BF3の含量は46.0〜49.0%です。

この表で値段が公式に出ている唯一の品で、25gの希望納入価格は2,300円(税抜)⁠で⁠す⁠。量の多い包装もあり、研究室で少量から試してから量を増やせます。

—公式資料で確認できず2,300円税抜・25g

ホウ素11濃縮ガス(11BF3)

2製品
高千穂化学工業株式会社11BF3 R製品の詳細を見るメーカー公式サイトtakachiho.biz

ホウ素11を濃縮した三フッ化ホウ素(エンリッチボロン)の研究用グレードで、半導体製造用ガスの一覧に載っています。

この表で容器弁の規格を公式に載せているのはこの品だけで、22mmとPF1/4から手持ちの配管に合わせられます。圧力調整器のTUSシリーズも同じ一覧に並んでいます。

研究用

要見積
日本酸素株式会社SDS 11BF3製品の詳細を見るメーカー公式サイトnsc.jp.nipponsanso.com

ホウ素の同位体のうちホウ素11を濃くした三フッ化ホウ素の半導体材料ガスで、シリコン半導体・液晶のイオン注入の分類に入っています。

純度99.9%超の11B濃縮品を、SDSという名前の容器で届けます。容器は3X・4X・7Xから装置に合わせて選べ、同じ会社の三フッ化ホウ素(BF3)と使い分けられます。

イオン注入

要見積
Q&A

三フッ化ホウ素選びで、よくある疑問

購買担当の疑問三フッ化ホウ素の価格はいくら?

ガスは公式に値段が出ていないため、見積もりを取る必要があります。公式に値段が出ているのは富士フイルム和光純薬の三ふっ化ほう素ジエチルエーテル錯体で、25gが2,300円(税抜)⁠で⁠す⁠。ガスなら純度のグレード・容器の大きさ・月に使う量を伝えると早く返ってきます。

設備担当の疑問三フッ化ホウ素のガスとエーテル錯体の違いは?

量を流す反応や半導体の工程ならガス、ボンベを置けない現場や少量の合成なら錯体です。ガスはボンベやカードルで受け、錯体はジエチルエーテルなどと組ませた液で、ドラムやびんで届きます。ステラケミファは両方を作っています。

設備担当の疑問11BF3と普通の三フッ化ホウ素の違いは?

11BF3は、ホウ素11を濃縮した三フッ化ホウ素で、半導体のイオン注入に使います。日本酸素のSDS 11BF3は純度99.9%超で、容器は3X・4X・7Xです。触媒に使うなら濃縮していない三フッ化ホウ素で足ります。

設備担当の疑問純度はどれくらい?

半導体の工程に使うなら、日本酸素の三フッ化ホウ素(BF3)のAグレード(99.99%超)を選びます。この表で公式に出ている純度の最高値です。同じ製品にBグレード(99.8%超)もあります。ステラケミファの99.7%以上はSDSの含有量で、製品の規格値ではないとSDSに書かれています。

購買担当の疑問ボンベの大きさと充填量は?

少量から試すなら日本酸素、量を使うならステラケミファです。日本酸素の容器は47L・10L・3.4L・1L・0.35Lの5つです。ステラケミファは30kgのスチール製ボンベと300kgのカードルで届けます。

設備担当の疑問容器弁の規格は?

配管に合わせる弁の規格は、会社に確かめてから容器を決める必要があります。公式に載っているのは高千穂化学工業の11BF3 Rの22mmとPF1/4です。日本酸素とステラケミファは製品ページに弁の規格を載せていません。

工場長の疑問三フッ化ホウ素の法規制と危険性は?

三フッ化ホウ素は毒物で、高圧ガス保安法の毒性ガスでもあるため、受け入れの前に届出と保管の決まりを確かめる必要があります。ステラケミファのSDSでは、吸入の急性毒性が区分2、皮膚腐食性が区分1です。施錠して、直射日光を避け換気の良い場所にしまっておきます。

施設管理の疑問水に触れるとどうなる?

三フッ化ホウ素は水と反応するので、湿気を入れないように扱います。SDSには、水と反応し冷水に溶けると書かれています。錯体の試薬も、富士フイルム和光純薬の品は冷蔵で届きます。

設備担当の疑問三フッ化ホウ素は何に使う?

主な使い道は、重合や医薬中間体合成の触媒と、半導体のイオン注入です。ステラケミファは、イオン注入の工程で使うジボランの原料にもなると書いています。エーテル錯体はボランの原料やテルペンなどの重合触媒に使われています。

施設管理の疑問漏れたときや火災のときは?

火災のときは水を噴霧して容器を冷やし、三フッ化ホウ素そのものに水がかからないようにします。ステラケミファのSDSは、火炎に包まれたボンベは安全弁からガスが出るおそれがあると書いています。詳しくは使う製品のSDSで確かめます。

TYPES

三フッ化ホウ素の形態の違い

ガス(ボンベ・カードル)

三フッ化ホウ素のガスをボンベやカードルで受けて、触媒の反応や半導体の工程へ流します。純度は99.8%超から99.99%超まで公式に出ています。毒物で高圧ガスなので、受け入れの設備としまい方を先に決めます。

向いている使い方

  • 重合・医薬中間体の触媒
  • ジボランの原料
  • 半導体のイオン注入

根拠:用途 | 医薬中間体合成触媒 重合触媒等 半導体製造におけるイオン注入工程で使用されるジボランの原料(出典1)

この形態の2製品を表で見る

ホウ素11濃縮ガス(11BF3)

ホウ素の同位体のうちホウ素11を濃縮した三フッ化ホウ素で、半導体のイオン注入に使います。公式の純度は99.9%超か99.9%です。容器の大きさは3X・4X・7Xのように会社ごとの呼び方で載っています。

向いている使い方

  • イオン注入装置
  • p型の不純物を入れる工程
  • 研究用の少量

根拠:SDS Enriched Boron Trifluoride 純度 Purity >99.9%(出典4)

この形態の2製品を表で見る

エーテル錯体(液)

三フッ化ホウ素をジエチルエーテルなどと組ませた液で、ボンベを使わずに量りとれます。工場向けは20kgと200kgのケミドラム、研究向けは25gから買えます。BF3の含量は46.0〜49.0%の品が公式に出ています。

向いている使い方

  • 有機合成の触媒
  • ボランの原料
  • ボンベの設備が無い研究室

根拠:説明 | ボランの原料やテルペン等の重合触媒等に使用されています。(出典2)

この形態の2製品を表で見る
MAKERS

三フッ化ホウ素の主なメーカー4社

トップメーカー

ステラケミファ株式会社

特徴
1916年創業の高純度薬品メーカーで、大阪府と福岡県に工場を持つ。
強み
  • 高純度薬品がコア
  • 大阪・福岡に3工場

大阪府

高千穂化学工業株式会社

特徴
計測ガス工場で環境測定用の混合標準ガスを製造する会社。

東京都

日本酸素株式会社

特徴
産業ガスと、医療用ガス・医療機器・バイオ機器を扱う会社。 液体窒素の凍結保存容器は、グループ会社のクライオワンが国内で作っている。
強み
  • 液体窒素の凍結保存容器の国内唯一のメーカー
  • 酸化エチレンの受託滅菌も受ける

東京都

富士フイルム和光純薬株式会社

特徴
試薬・化成品・臨床検査薬を作る試薬メーカー。
強み
  • 研究・産業・医療の3つの事業
  • 化合物・抗体・構造式から探せる試薬

大阪府

出典
  1. ステラケミファ 高純度の三フッ化ホウ素
  2. ステラケミファ 三フッ化ホウ素エチルエーテル
  3. 日本酸素 三フッ化ホウ素
  4. 日本酸素 SDS 11BF3
  5. 高千穂化学工業 半導体製造用ガス
  6. 富士フイルム和光純薬 三ふっ化ほう素ジエチルエーテル錯体
  7. ステラケミファ 三フッ化ホウ素SDS
  8. ステラケミファ ⁠製品
  9. 高千穂化学工業 エンリッチボロンSDS
掲載基準

重合・有機合成の触媒や半導体のイオン注入に使う三フッ化ホウ素(CAS 7637-07-2)のガスと、そのエーテル錯体で、日本法人が自社の製品として公式サイトで案内していて、仕様を公式で確かめられた品を載せています。原料から全工程を自社で一貫製造するという意味ではありません。1社2製品までとし、日本酸素のVAC H2+11BF3は載せていません。東京化成工業とメルクの試薬は公式サイトが取得を拒み仕様を確かめられず、関東化学とナカライテスクは公式の製品ページを確かめられず、今回は載せていません。森田化学工業は公式の製品一覧がホウフッ化水素酸とその塩類で三フッ化ホウ素が無く、UBEと住友精化は公式のガスのページに三フッ化ホウ素が見当たらないので載せていません。高千穂化学工業の11BF3 Rは公式の一覧に載っていますが、SDSの作成日が2016年で販売中か未確認です。三塩化ホウ素など他のホウ素ガス、ホウフッ化水素酸、商社が売る他社の製品は除いています。

三フッ化ホウ素を作っているメーカーの方へ:掲載・訂正のご依頼(掲載は無料です)

CITE

引用

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