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GUIDE / GLASS-SUBSTRATE

ガラス基板とは?ディスプレイ用・半導体用・合成石英の種類と、厚さ・熱膨張係数・歪点の選び方

液晶・有機ELや半導体パッケージ・MEMS・フォトマスクに使うガラス基板の3つの種類、無アルカリガラス・ホウケイ酸ガラス・合成石英の違い、厚さとサイズ、熱膨張係数と歪点の見方、価格の決まり方を、メーカーの公式資料をもとにまとめました。

2026年11月2日更新

この記事の答え

ガラス基板は、ディスプレイや半導体の部品を上に作り込むための、薄く平らなガラスの板です。使う先で、液晶・有機EL用の無アルカリガラスの大判、半導体・MEMS用のガラスウェハ、フォトマスク用の合成石英の基板に分かれます。選ぶときは「何を上に作るか」「膨張を何に合わせるか」「厚さと大きさ」の3つを先に決めます。

ガラス基板とは

ガラス基板は、液晶・有機ELのTFTや、半導体パッケージ・MEMS・フォトマスクの土台に使う、薄く平らなガラスの板です。基板ガラス・ガラスウェハとも呼びます。熱を加える工程で寸法が狂わないこと、表面が平らなこと、薬液に強いことが求められます。

比較ページには、自社か自社グループでガラスを作る会社の基板を、ガラスコードや品種の単位で載せています。仕入れたガラスの加工だけを受ける会社の品、窓や光学部品に使うガラスの板、シリコンウェーハ、パターンを描いたフォトマスクは載せていません。

3つの種類

  • ディスプレイ用は、無アルカリガラスの大判です。日本電気硝子のOA-11やOA-31がこれにあたります
  • 半導体・MEMS用は、ウェハやパネルの形で納めるガラスです。日本電気硝子のサポートガラス、AGCの微細孔付きガラス基板、ショットのAF 32とMEMpaxがこれにあたります
  • 合成石英ガラス基板は、フォトマスクやナノインプリントの土台に使います。信越化学工業のVIOSIL-SQがこれにあたります

熱膨張係数の見方

  • 熱膨張係数は、測る温度の範囲で値が変わります。比べるときは範囲をそろえます
  • 日本電気硝子のOA-11は、37×10 ⁻⁷/K(30〜380℃)⁠で⁠⁠⁠⁠す
  • ショットのMEMpaxは、3.26×10 ⁻⁶/K(20〜300℃)で、シリコンと陽極接合しやすい値です
  • 日本電気硝子のサポートガラスは、ガラスコードで3.6〜8.7ppm/℃から選べます
  • 信越化学工業のVIOSIL-SQは、0.53ppm/℃(0〜100℃)で、ほとんど伸び縮みしません

歪点と耐熱

  • 歪点は、熱を加えたときに形が変わり始める目印の温度です
  • OA-11は685℃、MEMpaxは528℃、VIOSIL-SQは985℃です
  • ショットのAF 32は、耐温度が650℃までです

厚さとサイズ

  • 薄いものでは、ショットのAF 32が0.03〜0.5mm、MEMpaxが0.07〜0.55mmです
  • 半導体用は、AGCの微細孔付きガラス基板で直径300mmのウェハや510×515mmのパネルを選べます

値段

  • このページの製品は、どれも値段を公式に出していません
  • ガラスの種類・厚さ・大きさ・枚数に加え、孔あけや表面の仕上げで値段が変わるので、条件をそろえて見積もりを取ります
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