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GUIDE / SULFUR-HEXAFLUORIDE

六フッ化硫黄(SF6)⁠と⁠は⁠?半導体のエッチング用と変電設備の絶縁用の違いと、純度・容器・物性の選び方

半導体・液晶のドライエッチングや変電設備の絶縁に使う六フッ化硫黄(SF6)の用途、半導体用の高純度品とエッチング・絶縁の兼用品の違い、純度と容器、沸点などの物性、窒息と分解の注意を、メーカーの公式資料と厚生労働省のモデルSDSをもとにまとめました。

2026年11月10日更新

この記事の答え

六フッ化硫黄は、半導体・液晶のドライエッチングや変電設備の絶縁に使う無色無臭のガスで、化学式からSF6とも呼びます。容器には高圧液化ガスとして詰めます。選ぶときは「何の工程に使うか」「純度をどこまで求めるか」「どの容器で受けるか」の3つを先に決めます。

六フッ化硫黄とは

六フッ化硫黄(SF6)は、硫黄とフッ素からできた無色無臭のガスです。厚生労働省のモデルSDSは、気体絶縁材・冷媒・医療用・シリコンICのドライエッチング用を用途に挙げています。分子量は146.056、国連番号は1080です。

比較ページには、日本の会社が自社の製品として案内している六フッ化硫黄の単体ガスを載せています。SF6を使う遮断器などの機器、回収・再生のサービス、SF6を含む標準ガス(混合品)は載せていません。

2つの種類

  • 半導体用の高純度品は、シリコン半導体や液晶のエッチングに使います。日本酸素の半導体材料ガスと、レゾナックの高純度六フッ化硫黄がこちらです
  • エッチング・絶縁の兼用品は、半導体・FPDのエッチング用と電気設備の絶縁用の両方で案内している品です。関東電化工業の六フッ化硫黄がこちらです

半導体で使う工程

  • レゾナックの高純度品は、コンダクタのエッチング工程で使い、特にポリシリコンのエッチングとTSV(Si貫通ビア)の形成に向けています
  • 日本酸素は、シリコン半導体・液晶の分類で案内しています

変電設備で使う理由

  • 絶縁性能が高く、大容量変電設備を小さくできます。関東電化工業はこの用途を特殊ガス製品のページで案内しています

純度と容器

  • 日本酸素の半導体材料ガスは、純度99.999%超です
  • 日本酸素の容器は、47L・10L・3.4Lの3つです
  • 関東電化工業とレゾナックの公開ページには、純度と容器の記載がありません。用途を伝えて仕様書と検査成績書の項目を確かめます

物性

  • 関東電化工業の資料では、沸点は-63.9℃、臨界温度は45.54℃、臨界圧力は3.76MPaです
  • レゾナックの資料では、沸点は-63.7℃(昇華温度)、臨界温度は45.6℃です
  • 気体の密度は空気の5.1倍で、空気より重いガスです

取り扱いの注意

  • 主な危険は、空気より重く空気と置き換わることによる窒息です。屋外か換気の良い場所で使います
  • 500℃以上に加熱すると分解し、有毒で腐食性のヒュームが出ます
  • 換気の良い場所で、容器を密閉してしまっておきます

値段

  • 表の3製品は、どれも公開価格を出していません。純度・容器・量をそろえて見積もりを取ります
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